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公开(公告)号：CN1782886A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510128823.3
申请日：2005-12-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多德斯 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , B·斯特里克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN1766739A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200510118070.8
申请日：2005-10-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67109 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括构成为支撑基底的基底支撑件，和构造为将带图案的辐射束投射到基底的靶部分上的投影系统。该基底支撑件布置为沿着基底的随后定靶的靶部分的预定的轨迹移动基底。该基底支撑件包括输送管构造，用于给基底提供热稳定性。该输送管构造布置为在支撑件中输送热稳定介质，以及经由支撑基底的前面定靶的部分的基底支撑件的部分将介质充分输送离开支撑靶部分的基底支撑件的一部分，使得保持随后定靶的靶部分热稳定。
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公开(公告)号：CN1737690A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510093924.1
申请日：2005-08-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·R·肯佩 , H·H·M·科西 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉附 , C·A·胡根达姆 , N·坦卡特 , J·J·S·M·梅坦斯 , F·范德穆伦 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , J·-G·C·范德图尔恩 , M·C·M·维哈根 , S·P·C·贝弗罗恩德 , J·P·M·斯穆勒斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70883 , G03F7/70341 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , G03F7/7095
Abstract: 一种用于浸入式光刻投影装置中的液体去除系统中的多孔件，其可整平不均匀的流动。可在多孔件的沸腾点之下在多孔件上保持压力差，使得可得到单相液流。或者，可采用多孔件来减少两相流动中的不均匀性。
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公开(公告)号：CN1550905A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043180.8
申请日：2004-05-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特雷克 , L·P·巴克 , J·J·M·巴塞曼斯 , H·H·M·科西 , A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , F·范德穆伦 , J·C·H·穆肯斯 , G·P·M·范努恩 , K·西蒙 , B·A·斯拉赫克 , A·斯特拉艾杰 , J·-G·C·范德图恩 , M·豪克斯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70425 , G03F7/70525 , G03F7/709
Abstract: 一种光刻装置，其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入，以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。
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公开(公告)号：CN102147574B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110083335.0
申请日：2004-06-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中，投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101520611B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200910133537.4
申请日：2005-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·Y·科勒斯恩臣科 , J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多纳斯 , C·A·胡根达姆 , H·詹森 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , F·G·P·皮特斯 , B·斯特里科克 , F·J·H·M·特尤尼斯森 , H·范桑坦
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70866 , G03F7/70908
Abstract: 本发明公开一种湿浸式光刻装置的基底台，包括用于收集液体的阻挡构件。该阻挡构件环绕基底并与基底分隔开。按照这种方式，可以收集从供液系统溢出的任何液体，并降低光刻投影装置的精密部件受污染的危险。
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公开(公告)号：CN101923290B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201010186587.1
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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公开(公告)号：CN101881930B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN201010224595.0
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。所述光刻装置包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN101576719B
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200910149213.X
申请日：2005-10-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·S·M·梅坦斯 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·胡根达姆 , A·J·范德内特 , F·J·H·M·特尼斯森 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , E·A·M·范戈佩
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341
Abstract: 公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器，该分离罐压力控制与分离罐的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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公开(公告)号：CN1713075B
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200510079476.X
申请日：2005-06-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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