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公开(公告)号：CN101470358B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN200810191102.0
申请日：2008-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·A·M·阿尔贝蒂 , G·P·M·范努恩 , F·E·格伦斯密特 , R·T·P·孔佩 , A·A·索特豪特
IPC: G03F7/20 , H01L21/677 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70783 , G03F7/70633
Abstract: 本发明涉及一种放置衬底与传送衬底的方法、支撑系统和光刻投影设备。该放置衬底的方法用于将衬底在放置表面上设置有多个节块的衬底保持器的表面上。在该方法中，首先，计算出衬底放置数据，该衬底放置数据能使衬底放置在相对于衬底保持器表面上所述多个节块的位置的一定位置上。然后，根据该衬底放置数据在该一定位置上放置该衬底。该一定位置可以是基于导致最小化重叠误差的衬底放置的位置，或者是基于导致最小化衬底变形的衬底放置的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101441419B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200810184298.0
申请日：2008-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·A·M·阿尔贝蒂 , G·P·M·范努恩 , F·E·格伦斯密特 , R·T·P·孔佩
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70633 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F9/7011 , H01L21/67265 , H01L21/67745
Abstract: 本发明涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器(例如预对准单元)传送至第二衬底保持器(例如光刻设备中的衬底台)的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量衬底的位置误差并在已测量的位置误差的基础上计算位置调整数据。然后，根据位置调整数据，相对于参考位置移动第二衬底保持器。最后，根据传送数据将衬底通过传送单元从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器并放置到已移动的第二衬底保持器上。
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公开(公告)号：CN101470358A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200810191102.0
申请日：2008-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·A·M·阿尔贝蒂 , G·P·M·范努恩 , F·E·格伦斯密特 , R·T·P·孔佩 , A·A·索特豪特
IPC: G03F7/20 , H01L21/677 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70783 , G03F7/70633
Abstract: 本发明涉及一种放置衬底与传送衬底的方法、支撑系统和光刻投影设备。该放置衬底的方法用于将衬底在放置表面上设置有多个节块的衬底保持器的表面上。在该方法中，首先，计算出衬底放置数据，该衬底放置数据能使衬底放置在相对于衬底保持器表面上所述多个节块的位置的一定位置上。然后，根据该衬底放置数据在该一定位置上放置该衬底。该一定位置可以是基于导致最小化重叠误差的衬底放置的位置，或者是基于导致最小化衬底变形的衬底放置的位置。
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公开(公告)号：CN101441419A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810184298.0
申请日：2008-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·A·M·阿尔贝蒂 , G·P·M·范努恩 , F·E·格伦斯密特 , R·T·P·孔佩
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70633 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F9/7011 , H01L21/67265 , H01L21/67745
Abstract: 本发明涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器(例如预对准单元)传送至第二衬底保持器(例如光刻设备中的衬底台)的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量衬底的位置误差并在已测量的位置误差的基础上计算位置调整数据。然后，根据位置调整数据，相对于参考位置移动第二衬底保持器。最后，根据传送数据将衬底通过传送单元从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器并放置到已移动的第二衬底保持器上。
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公开(公告)号：CN1264065C
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200410043180.8
申请日：2004-05-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特雷克 , J·J·M·巴塞曼斯 , H·H·M·科西 , A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , F·范德穆伦 , J·C·H·穆肯斯 , G·P·M·范努恩 , K·西蒙 , B·A·斯拉赫克 , A·斯特拉艾杰 , J·-G·C·范德图恩 , M·豪克斯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70425 , G03F7/70525 , G03F7/709
Abstract: 一种光刻装置，其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入，以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。
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公开(公告)号：CN1550905A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410043180.8
申请日：2004-05-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特雷克 , L·P·巴克 , J·J·M·巴塞曼斯 , H·H·M·科西 , A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , F·范德穆伦 , J·C·H·穆肯斯 , G·P·M·范努恩 , K·西蒙 , B·A·斯拉赫克 , A·斯特拉艾杰 , J·-G·C·范德图恩 , M·豪克斯
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70425 , G03F7/70525 , G03F7/709
Abstract: 一种光刻装置，其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入，以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。
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