公开(公告)号：CN101441419A

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN200810184298.0

申请日：2008-10-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·A·M·阿尔贝蒂 ,  G·P·M·范努恩 ,  F·E·格伦斯密特 ,  R·T·P·孔佩

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/677

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70783 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67745

Abstract: 本发明涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器(例如预对准单元)传送至第二衬底保持器(例如光刻设备中的衬底台)的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量衬底的位置误差并在已测量的位置误差的基础上计算位置调整数据。然后，根据位置调整数据，相对于参考位置移动第二衬底保持器。最后，根据传送数据将衬底通过传送单元从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器并放置到已移动的第二衬底保持器上。

公开(公告)号：CN106507684A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201580031670.2

申请日：2015-05-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·A·范伯兹康 ,  J·A·M·阿尔贝蒂 ,  H·M·塞热 ,  R·范德含 ,  F·法尼 ,  R·奥利斯拉格斯 ,  G·彼得斯 ,  C·M·诺普斯 ,  P·范德艾登 ,  P·范栋恩 ,  B·威廉

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。

公开(公告)号：CN110941151B

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN201911298755.3

申请日：2015-05-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·A·范伯兹康 ,  J·A·M·阿尔贝蒂 ,  H·M·塞热 ,  R·范德含 ,  F·法尼 ,  R·奥利斯拉格斯 ,  G·彼得斯 ,  C·M·诺普斯 ,  P·范德艾登 ,  P·范栋恩 ,  B·威廉

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。

公开(公告)号：CN101470358B

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN200810191102.0

申请日：2008-10-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·A·M·阿尔贝蒂 ,  G·P·M·范努恩 ,  F·E·格伦斯密特 ,  R·T·P·孔佩 ,  A·A·索特豪特

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G03F7/70633

Abstract: 本发明涉及一种放置衬底与传送衬底的方法、支撑系统和光刻投影设备。该放置衬底的方法用于将衬底在放置表面上设置有多个节块的衬底保持器的表面上。在该方法中，首先，计算出衬底放置数据，该衬底放置数据能使衬底放置在相对于衬底保持器表面上所述多个节块的位置的一定位置上。然后，根据该衬底放置数据在该一定位置上放置该衬底。该一定位置可以是基于导致最小化重叠误差的衬底放置的位置，或者是基于导致最小化衬底变形的衬底放置的位置。

公开(公告)号：CN110941151A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201911298755.3

申请日：2015-05-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·A·范伯兹康 ,  J·A·M·阿尔贝蒂 ,  H·M·塞热 ,  R·范德含 ,  F·法尼 ,  R·奥利斯拉格斯 ,  G·彼得斯 ,  C·M·诺普斯 ,  P·范德艾登 ,  P·范栋恩 ,  B·威廉

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。

公开(公告)号：CN106507684B

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：CN201580031670.2

申请日：2015-05-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·A·范伯兹康 ,  J·A·M·阿尔贝蒂 ,  H·M·塞热 ,  R·范德含 ,  F·法尼 ,  R·奥利斯拉格斯 ,  G·彼得斯 ,  C·M·诺普斯 ,  P·范德艾登 ,  P·范栋恩 ,  B·威廉

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。

公开(公告)号：CN101441419B

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：CN200810184298.0

申请日：2008-10-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·A·M·阿尔贝蒂 ,  G·P·M·范努恩 ,  F·E·格伦斯密特 ,  R·T·P·孔佩

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/677

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70783 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67745

Abstract: 本发明涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器(例如预对准单元)传送至第二衬底保持器(例如光刻设备中的衬底台)的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量衬底的位置误差并在已测量的位置误差的基础上计算位置调整数据。然后，根据位置调整数据，相对于参考位置移动第二衬底保持器。最后，根据传送数据将衬底通过传送单元从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器并放置到已移动的第二衬底保持器上。

公开(公告)号：CN101470358A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200810191102.0

申请日：2008-10-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·A·M·阿尔贝蒂 ,  G·P·M·范努恩 ,  F·E·格伦斯密特 ,  R·T·P·孔佩 ,  A·A·索特豪特

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70783 ,  G03F7/70633

Abstract: 本发明涉及一种放置衬底与传送衬底的方法、支撑系统和光刻投影设备。该放置衬底的方法用于将衬底在放置表面上设置有多个节块的衬底保持器的表面上。在该方法中，首先，计算出衬底放置数据，该衬底放置数据能使衬底放置在相对于衬底保持器表面上所述多个节块的位置的一定位置上。然后，根据该衬底放置数据在该一定位置上放置该衬底。该一定位置可以是基于导致最小化重叠误差的衬底放置的位置，或者是基于导致最小化衬底变形的衬底放置的位置。