公开(公告)号：CN1264065C

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200410043180.8

申请日：2004-05-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： B·斯特雷克 ,  J·J·M·巴塞曼斯 ,  H·H·M·科西 ,  A·T·A·M·德克森 ,  S·N·L·当德斯 ,  C·A·胡根达姆 ,  J·洛夫 ,  E·R·鲁斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  F·范德穆伦 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  G·P·M·范努恩 ,  K·西蒙 ,  B·A·斯拉赫克 ,  A·斯特拉艾杰 ,  J·-G·C·范德图恩 ,  M·豪克斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/709

Abstract: 一种光刻装置，其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入，以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。

公开(公告)号：CN1550905A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN200410043180.8

申请日：2004-05-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： B·斯特雷克 ,  L·P·巴克 ,  J·J·M·巴塞曼斯 ,  H·H·M·科西 ,  A·T·A·M·德克森 ,  S·N·L·当德斯 ,  C·A·胡根达姆 ,  J·洛夫 ,  E·R·鲁斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  F·范德穆伦 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  G·P·M·范努恩 ,  K·西蒙 ,  B·A·斯拉赫克 ,  A·斯特拉艾杰 ,  J·-G·C·范德图恩 ,  M·豪克斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/709

Abstract: 一种光刻装置，其中将位于投影装置(PL)之下的基底表面的局部区域浸入液体中。使用致动器(314)可以改变基底(W)的表面之上的液体供给装置(310)的高度。控制装置将前馈或回馈控制用于基底(W)的表面高度的输入，以将液体供给装置(310)保持在位于基底(W)的表面之上的预定高度。