公开(公告)号：CN104597711A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201510078816.0

申请日：2015-02-13

申请人： 厦门天马微电子有限公司 ,  天马微电子股份有限公司

发明人： 刘晓敏 ,  张龙 ,  周婷 ,  沈柏平

IPC分类号： G03F1/76 ,  G03F1/50

CPC分类号： G03F1/50 ,  G03F1/76 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/201 ,  G03F7/32 ,  H01L21/0274

摘要： 本发明提供了一种光罩，包括：一基材；设置在所述基材上的有机膜层，其中，所述有机膜层在紫外偏振光的照射下，能够定向排列；其中，所述光罩具有至少第一区域和第二区域，所述第一区域与第二区域的偏振轴方向具有夹角。上述光罩能通过控制带有区域偏振膜的光罩的紫外光强度，从而实现透射率可调。

公开(公告)号：CN104220931A

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201280071975.2

申请日：2012-03-29

申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： I.萨恩杰 ,  F.施莱塞纳

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2006 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70566

摘要： 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的照明系统，其包含：(a)多个通道，每个通道引导部分光束且至少一个通道包含至少一个缺陷；及(b)至少一个光学元件，其布置在具有该至少一个缺陷的该至少一个通道中，该光学元件适配于至少部分补偿该通道的部分光束的至少一个缺陷。

公开(公告)号：CN1195603C

公开(公告)日：2005-04-06

申请号：CN02126884.3

申请日：1996-11-13

申请人： 三菱电机株式会社

发明人： 松原真人 ,  福岛司 ,  黑泽满树

IPC分类号： B23K26/02

CPC分类号： B23K26/0673 ,  B23K26/066 ,  B23K26/067 ,  B23K26/382 ,  B23K26/389 ,  B23K26/40 ,  B23K2103/08 ,  B23K2103/12 ,  B23K2103/172 ,  G03F7/2006 ,  H05K3/0017

摘要： 本发明提供一种具备聚光光学系统与像转印光学系统两者，根据加工对象分别单独使用，从而可以扩大可加工范围，而且可以提高加工精度的激光加工装置。它包括：具有置于激光振荡器1与待加工物7之间光路中的遮光板以及使该遮光板的像缩小成像在加工面上的透镜的像转印光学系统3；聚光光学系统5；选择上述系统两者中任意一方的驱动装置11；控制上述系统两者与驱动装置11的NC装置9。根据所加工的孔径和孔深，选择上述系统两者中的任意一个。

公开(公告)号：CN1555499A

公开(公告)日：2004-12-15

申请号：CN02817909.9

申请日：2002-09-13

申请人： 康宁股份有限公司

发明人： D·C·埃兰 ,  N·F·博雷利 ,  C·M·史密斯 ,  R·W·斯派罗

IPC分类号： G02B5/20 ,  G02B11/00 ,  G03F1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70241 ,  G02B1/02 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/70958 ,  Y10S501/905

摘要： 本发明提供了波长在200纳米之下的UV平版印刷方法，它使用了混合的氟化钙锶晶体。本发明包括提供小于200纳米的光源以制得＜200纳米的光线，提供许多混合氟化钙锶立方晶体光学元件，所述氟化物晶体包括具有不同光学极化度的钙锶阳离子的组合，以得到各向同性极化度，所述各向同性极化度能够使在200纳米之下的氟化物晶体空间色散最小，能够通过所述氟化物立方晶体光学元件透射＜200纳米的光线，能够使用所述光线形成平版印刷图形，还原所述平版印刷图形以及将所述具有氟化物晶体光学元件的平版印刷图形投影在UV光敏平版印刷媒介上，以形成印制的平版印刷图形。本发明包括制造混合氟化物晶体、其光学元件坯料以及光学平版印刷元件。

公开(公告)号：CN109690405A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780054941.5

申请日：2017-09-15

申请人： 日产化学株式会社

发明人： 西田登喜雄 ,  坂本力丸

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/36 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/36 ,  C08F2800/20 ,  C09D133/14 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

摘要： 本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1)～式(3)所示的结构单元的共聚物、交联剂、有机酸催化剂、以及溶剂。(式中，R1各自独立地表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数1～3的亚烷基，A表示保护基，R3表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架、三环癸烷骨架或降冰片烷骨架的有机基，R4表示至少1个氢原子被氟基取代、并且还可以具有至少1个羟基作为取代基的碳原子数1～12的直链状、支链状或环状的有机基。)

公开(公告)号：CN107861337A

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201710701074.1

申请日：2017-08-16

申请人： 瑞萨电子株式会社

发明人： 松浦诚司

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2006 ,  G02B27/28 ,  G02B27/286 ,  G03F7/30 ,  G03F7/701 ,  G03F7/70566 ,  H01L21/0275 ,  H01L21/76816 ,  H01L21/76877 ,  G03F7/70191

摘要： 本发明涉及曝光设备、曝光方法及器件制造方法。曝光设备包括偏振照明光的偏振构件和具有至少一个开口的滤光器。所述偏振构件包括第一偏振单元和第二偏振单元，所述第二偏振单元围绕所述第一偏振单元布置。所述第二偏振单元被构成为偏振在沿着第一偏振单元的外周的周向方向上进入第二偏振单元的照明光。第一偏振单元的至少一部分被构成为在与第二偏振单元的下述部分中的偏振方向正交的方向上偏振照明光，第二偏振单元的所述部分位于第一偏振单元的中央部分的相反侧。开口布置在滤光器中，使得在滤光器和偏振构件的后级处的照明光包括由第一和第二偏振单元所偏振的照明光。

公开(公告)号：CN107844031A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201710838817.X

申请日：2017-09-18

申请人： 东京应化工业株式会社

发明人： 长峰高志 ,  中村刚

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  G03F7/004

摘要： 含有高分子化合物和由以式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂的抗蚀剂组合物，其中，该高分子化合物具有以式(a0-1)表示的结构单元(a0)；式中，Ra00为以式(a0-r1-1)表示的酸解离性基团，Ra01、Ra02、Ra031、Ra032和Ra033为烃基，Ya0为季碳原子，R101为作为取代基具有至少1个羟基的烃基，Y101为单键或含氧原子的2价连接基团，V101为单键、亚烷基、或氟代亚烷基。[化1]

公开(公告)号：CN107065437A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201611191846.3

申请日：2016-12-21

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金洙荣 ,  崔在喜 ,  李政勋 ,  金富得 ,  李浚齐 ,  金年洙

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/3213

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/322 ,  H01L21/28008 ,  H01L27/11519 ,  H01L27/11521 ,  H01L27/11524 ,  H01L29/788 ,  G03F7/004 ,  H01L21/32139

摘要： 本发明涉及光刻胶组合物、形成图案的方法和制造半导体器件的方法。光刻胶组合物包括：包含光刻胶聚合物和染料树脂的共混物的光敏树脂、光致产酸剂、和溶剂，其中基于所述光敏树脂的总重量，所述染料树脂的量在约20重量％‑约80重量％的范围内。

公开(公告)号：CN106552517A

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201610862403.6

申请日：2016-09-28

申请人： 东京应化工业株式会社

发明人： 中田明彦 ,  森冈章仁 ,  菅原司

IPC分类号： B01D71/64 ,  B01D61/00 ,  G03F7/26 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/322 ,  B01D61/00 ,  B01D67/0002 ,  B01D67/0023 ,  B01D67/003 ,  B01D67/0032 ,  B01D67/0088 ,  B01D67/0093 ,  B01D69/02 ,  B01D71/40 ,  B01D71/64 ,  B01D2323/12 ,  B01D2323/18 ,  B01D2325/021 ,  B32B5/16 ,  C08J9/26 ,  C08J2201/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

摘要： 本发明提供具备聚酰亚胺系树脂多孔膜的、用于过滤光刻用药液的屏障过滤器。本发明提供包括使光刻用药液通过该屏障过滤器的操作的过滤方法。本发明提供具有利用该过滤方法过滤光刻用药液的工序的光刻用药液纯化品的制造方法。

公开(公告)号：CN106133606A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201580015088.7

申请日：2015-02-25

申请人： 日产化学工业株式会社

发明人： 桥本雄人 ,  境田康志 ,  高濑显司 ,  坂本力丸

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08F12/22 ,  C08F220/10 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/382 ,  C09D7/65 ,  C09D125/14 ,  C09D167/02 ,  G03F7/039 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： 本发明的课题是提供用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含该添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明的解决方法是一种用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含前述添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述添加剂含有具有下述式(1)～式(4)所示的结构单元的共聚物(式中，R1分别独立地表示氢原子或甲基，Ar表示亚芳基，Pr表示保护基或氢原子，X表示直接结合或‑C(＝O)O‑R2‑基，构成该‑C(＝O)O‑R2‑基的R2表示碳原子数为1～3的亚烷基，该亚烷基与硫原子结合，R3表示氢原子、甲基、甲氧基或卤素，R4表示至少1个氢原子被氟取代了的碳原子数为1～3的烷基，Z表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架或降冰片烷骨架的有机基团。)。