公开(公告)号：CN107065437A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201611191846.3

申请日：2016-12-21

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金洙荣 ,  崔在喜 ,  李政勋 ,  金富得 ,  李浚齐 ,  金年洙

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/3213

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/322 ,  H01L21/28008 ,  H01L27/11519 ,  H01L27/11521 ,  H01L27/11524 ,  H01L29/788 ,  G03F7/004 ,  H01L21/32139

Abstract: 本发明涉及光刻胶组合物、形成图案的方法和制造半导体器件的方法。光刻胶组合物包括：包含光刻胶聚合物和染料树脂的共混物的光敏树脂、光致产酸剂、和溶剂，其中基于所述光敏树脂的总重量，所述染料树脂的量在约20重量％‑约80重量％的范围内。

公开(公告)号：CN101231464B

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN200810003862.4

申请日：2008-01-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹孝镇 ,  权宁吉 ,  金永虎 ,  金导永 ,  崔在喜 ,  白世卿

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07D493/08 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含：约4％至约10重量％的光致抗蚀剂树脂；约0.1％至约0.5重量％的光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有锍盐阳离子基团和含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团；和余量的溶剂。所述光致抗蚀剂组合物可以形成具有均匀外形的光致抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN101231464A

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200810003862.4

申请日：2008-01-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹孝镇 ,  权宁吉 ,  金永虎 ,  金导永 ,  崔在喜 ,  白世卿

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07D493/08 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含：约4％至约10重量％的光致抗蚀剂树脂；约0.1％至约0.5重量％的光致酸生成剂，所述光致酸生成剂具有锍盐阳离子基团和含有羧基作为亲水部位的锍盐阴离子基团；和余量的溶剂。所述光致抗蚀剂组合物可以形成具有均匀外形的光致抗蚀剂图案。