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公开(公告)号：CN104570596A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201410305718.1
申请日：2014-06-30
申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司
CPC分类号： G03F7/0388 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/038 , Y10S430/111 , Y10S430/114
摘要： 本发明系有关于一种负型厚膜光阻组成物，包括：(A)20至50重量百分比的碱可溶树脂，由复数种单体聚合而成，其中，该些单体包含如式(1A)及式(1B)所示的化合物，且基于该些单体占碱可溶树脂的重量比，式(1A)化合物与式(1B)化合物两者共占20至60％，且于式(1A)及式(1B)的X各自独立为氢、甲基或乙基；(B)10至30重量百分比的交联剂，为一具有至少一乙烯性不饱和双键的双酚芴衍生物单体；(C)5至15重量百分比的光起始剂；以及(D)余量溶剂。本发明亦有关于一种上述负型厚膜光阻组成物的用途。
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公开(公告)号：CN101477308B
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN200810190664.3
申请日：2008-12-26
申请人： 三星显示有限公司 , 高科技实美化学株式公社
CPC分类号： H01L27/1288 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/033 , H01L27/1214 , Y10S430/111
摘要： 本发明提供负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法。负型光刻胶组合物包括：包含含有乙烯不饱和键的乙烯不饱和化合物和光聚合引发剂的能光固化组合物；包含通过热交联的碱溶性树脂的热固性组合物；和有机溶剂。该负型光刻胶组合物改善稳定性、感光度、在进行显影操作后的可分离性，并减少残留物以改善有机绝缘层的可靠性。此外，负型光刻胶组合物改善有机绝缘层的透射率并减小色坐标的变化以改善显示装置的显示质量。
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公开(公告)号：CN101470349B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200810173347.0
申请日：2008-11-13
申请人： 东京应化工业株式会社
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子。)x-Q1-Y1-SO3- M+ …(I)X-Q1-Y1-SO3- A+ …(b1-1)。
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公开(公告)号：CN1818784B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200610007164.2
申请日：2002-11-29
申请人： 东京应化工业株式会社
CPC分类号： G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
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公开(公告)号：CN101454722B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200780019287.0
申请日：2007-05-14
申请人： 伊斯曼柯达公司
CPC分类号： B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368 , G03F7/029 , G03F7/038 , Y10S430/107 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/117 , Y10S430/126
摘要： 一种辐射敏感组合物，包含可自由基聚合的组份和当曝光于成像辐射时能够产生足以引发可自由基聚合组份聚合的自由基的碘鎓硼酸盐引发剂组合物。该碘鎓硼酸盐引发剂组合物包含具有有机取代基的特定的二芳基碘鎓硼酸盐化合物，以在碘鎓阳离子苯环上提供总数至少为6个的碳原子。此组合物可以涂覆于合适的基材上以提供负性可成像元件，该元件具有提高的数字速度和良好的保存寿命，并可以被成像以提供平板印刷板。所述成像元件可使用碱性显影剂联机或脱机显影。
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公开(公告)号：CN102520583A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201110317143.1
申请日：2003-03-28
申请人： AZ电子材料日本株式会社
CPC分类号： G03F7/0048 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： 本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。
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公开(公告)号：CN1739063B
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN200380104562.0
申请日：2003-10-07
申请人： 布鲁尔科技公司
CPC分类号： G03F7/091 , C09B69/00 , Y10S430/111 , Y10T428/31511 , Y10T428/31515
摘要： 提供一种新颖的减反射涂层，其包含替代高分子量的聚合物的小分子(如小于约5000g/mol)，以及使用这些涂层的方法。在一个实施方式中，使用芳族羧酸作为发色团，形成的化合物与交联剂和酸混合。本发明方法制备的减反射涂层膜与高分子量聚合物减反射涂层膜相比改善了性能。小分子减反射涂层具有高蚀刻速率和良好的通孔填充性能。用本发明材料进行光刻工艺可形成独立的110nm的外形。
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公开(公告)号：CN102253600A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110141668.4
申请日：2011-02-25
申请人： 信越化学工业株式会社
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F1/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , Y10S430/11 , Y10S430/111
摘要： 提供了一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)可溶于碱的基础聚合物，(B)酸产生剂和(C)含氮化合物，所述基础聚合物(A)在酸催化作用下变为碱不溶性。包括在侧链上具有氟化羧酸鎓盐的聚合物作为基础聚合物。用平版印刷法加工该负性抗蚀剂组合物可以形成抗蚀图案，其具有均匀的低酸扩散，LER改善和基材毒化降低的优点。
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公开(公告)号：CN1974697B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200610105643.8
申请日：2001-06-30
申请人： 海力士半导体有限公司
IPC分类号： C09D133/08 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/091 , C08F220/36 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要： 一种具有下式1的有机抗反射聚合物、其制备方法、一种含有所述有机抗反射聚合物的抗反射涂料组合物、和由其制得抗反射涂层的制备方法。该包含所公开聚合物的抗反射涂层消除了由晶片的下层光学性能和光刻胶的厚度变化所引起的驻波，防止了由于从下层衍射和反射的光引起的回射和CD变换。这些优点使得能够形成适用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM半导体器件的稳定的超微图案，并提高生产产率。而且，还能控制K值并且增加疏水性，有助于形成EBR(流珠式除水)。式1
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公开(公告)号：CN101213491B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200680024028.2
申请日：2006-04-18
申请人： 东丽株式会社
CPC分类号： G03F7/0751 , C08K5/0025 , C08K5/544 , G03F7/0045 , G03F7/0226 , G03F7/0755 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/117
摘要： 本发明的感光性树脂组合物，其含有(a)碱可溶性树脂、(b)具有芳香族仲氨基和烷氧基的硅化合物、以及(c)选自光聚合引发剂、光酸发生剂和光碱发生剂中的至少1种。根据本发明，可以得到不损害溶液的保存稳定性、显著提高固化后的与基板的粘合性的同时，显影时不剥离微细图案的感光性树脂组合物。
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