公开(公告)号：CN104570596B

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201410305718.1

申请日：2014-06-30

Applicant: 台湾永光化学工业股份有限公司

Inventor： 陈怡静 ,  李晏成 ,  周乃天 ,  黄新义

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/0388 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/114

Abstract: 本发明系有关于一种负型厚膜光阻组成物，包括：(A)20至50重量百分比的碱可溶树脂，由复数种单体聚合而成，其中，该些单体包含如式(1A)及式(1B)所示的化合物，且基于该些单体占碱可溶树脂的重量比，式(1A)化合物与式(1B)化合物两者共占20至60％，且于式(1A)及式(1B)的X各自独立为氢、甲基或乙基；(B)10至30重量百分比的交联剂，为一具有至少一乙烯性不饱和双键的双酚芴衍生物单体；(C)5至15重量百分比的光起始剂；以及(D)余量溶剂。本发明亦有关于一种上述负型厚膜光阻组成物的用途。

公开(公告)号：CN1737000B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200510090805.0

申请日：2002-10-22

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 安齐龙一 ,  加门良启 ,  藤原匡之 ,  桑野英昭 ,  大竹敦 ,  百濑阳

IPC: C07D317/34 ,  C07D317/72 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C07D325/00 ,  C08G63/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07D317/72 ,  C07D317/18 ,  C07D317/34 ,  C07D317/42 ,  C08F20/30 ,  C08F24/00 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器光刻及电子线光刻等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。

公开(公告)号：CN102890417A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201210251310.1

申请日：2012-07-19

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 市川幸司 ,  安立由香子 ,  藤田真吾

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。所述抗蚀剂组合物包含：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和由式(II)表示的酸生成剂，其中R1、A1、R2、RII1、RII2、LII1、YII1、RII3、RII4、RII5、RII6、RII7、n、s和RII8如说明书中限定。

公开(公告)号：CN102850485A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201210170130.0

申请日：2005-03-09

Applicant: 罗姆及海斯电子材料有限公司

Inventor： 裴荣喆 ,  R·J·卡那纳格

IPC: C08F220/34 ,  G03F7/039

CPC classification number: C08F220/34 ,  C07C255/31 ,  C07C255/47 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 提供了氰基金刚烷化合物，含有该化合物聚合的单元的聚合物，和含有这些聚合物的光致抗蚀剂组合物。优选的本发明的化合物用于在250nm以下的波长，例如248nm和193nm波长成像的光致抗蚀剂。

公开(公告)号：CN101236357B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200810008504.2

申请日：2008-01-23

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 高田佳幸 ,  山本敏 ,  山口训史

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：树脂和至少两种盐，该树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元和由式(I)表示的结构单元，式(I)中R1表示氢原子或甲基，环X表示C3-C30环烃基，其中一个-CH2-被-COO-取代，并且C3-C30环烃基中的至少一个氢原子可以被取代，且p表示1至4的整数，并且该树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；该至少两种盐选自由式(II)表示的盐和由式(III)表示的盐，在式(II)中，Y1和Y2各自独立地表示氟原子或者C1-C6全氟烷基，A+表示有机抗衡离子且R21表示可以被取代的C1-C30烃基，且该C1-C30烃基中的至少一个-CH2-可以被-CO-或-O-取代，式(III)中，R23表示C1-C8直链或支链全氟烷基，并且A′+表示有机抗衡离子。

公开(公告)号：CN1983030B

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：CN200610168516.2

申请日：2006-12-13

Applicant: E.I.内穆尔杜邦公司

Inventor： H·杨 ,  M·R·麦基弗

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028

CPC classification number: G03F7/038 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/033 ,  H05K3/02 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

Abstract: 本发明涉及光成像组合物，该组合物包含分散在(II)中的(I)：(I)无机材料的细碎颗粒，其包含：(a)功能相颗粒，选自导电颗粒、电阻性颗粒和电介质颗粒；(b)无机粘合剂，它的玻璃化温度为325℃至600℃，表面积不大于10平方米/克，至少85重量％的颗粒的粒度为0.1-10微米；(II)有机介质，其包含：(a)水性显影聚合物，它是共聚物、互聚物或它们的混合物，其中各共聚物或互聚物包含(1)非酸性共聚单体，包括丙烯酸C1-10烷基酯、甲基丙烯酸C1-10烷基酯、苯乙烯、取代苯乙烯或它们的组合，和(2)酸性共聚单体，包括含有烯键式不饱和羧酸的部分；(g)可阳离子聚合的单体；(h)光引发体系；和(i)有机溶剂。

公开(公告)号：CN1683997B

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：CN200510054399.2

申请日：2005-03-08

Applicant: 罗姆及海斯电子材料有限公司

Inventor： 裴荣喆 ,  R·J·卡那纳格

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 提供了氰基金刚烷基化合物，含有该化合物聚合单元的聚合物，和含有这些聚合物的光致抗蚀剂组合物。本发明的优选化合物用于在250nm以下的波长，例如248nm和193nm波长成像的光致抗蚀剂。

公开(公告)号：CN101124517B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200580039942.X

申请日：2005-11-22

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 植松照博 ,  胜又直也

IPC: G03F7/031

CPC classification number: G03F7/031 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物和感光性干膜，其感光度和稳定性优异，并在掩蔽强度、分辨率和电镀非污染性方面具有良好平衡。这种感光性树脂组合物包括碱溶性树脂(A)、光聚合化合物(B)和光聚合引发剂(C)，其中聚合引发剂(C)包括作为必须成分的六芳基二咪唑类化合物(C1)和多官能硫醇化合物(C2)。所述感光性干膜在支持膜上至少具有由所述感光性树脂组合物形成的感光性树脂层。

公开(公告)号：CN101198905B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200680019830.2

申请日：2006-04-07

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 木下洋平

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有树脂成分(A)、以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B)；上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1)：[式中，R51表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基；R52为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基；R53为可具有取代基的芳基；n为1～3的整数]。

公开(公告)号：CN101898988A

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN201010189458.8

申请日：2010-05-25

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 市川幸司 ,  吉田勋

IPC: C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C07C303/32 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/039 ,  C07C303/32 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 一种以式(a)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子等，X1表示单键等，X2表示单键等，Y1表示C3-C36脂环族烃基等，条件是-X2-Y1基团具有一个或多个氟原子，并且Z+表示有机抗衡阳离子，以及一种光致抗蚀剂组合物，其含有以式(a)表示的盐和树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。