公开(公告)号：CN112859523B

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202010707170.9

申请日：2020-07-21

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 林诣婕 ,  蔡芸慈 ,  林伯南 ,  叶子瑭 ,  周乃天 ,  黄新义 ,  林昭文

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/008 ,  G03F7/004

摘要： 一种聚酰亚胺正型光刻胶组合物，包括：一树脂成分；一交联剂；一感光剂；以及一溶剂。其中，树脂成分包括：81wt％至99wt％的聚酰亚胺树脂；以及1wt％至19wt％的丙烯酸树脂，包括一含环氧基的单体。

公开(公告)号：CN107325735B

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201610324333.9

申请日：2016-05-16

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 徐沛绅 ,  张添琅 ,  周乃天 ,  黄新义

IPC分类号： H01L21/306 ,  C09G1/02

摘要： 本发明是有关于一种用于抛光蓝宝石基板的研磨组合物和使用其抛光蓝宝石基板的方法，其中本发明的研磨组合物包括：(A)5至50重量百分比的研磨粒子；(B)0.01至5重量百分比的含有下述通式(1)所表示的烷基胺结构化合物；以及(C)余量的水；其中，R1、R2、R3是如说明书中所定义。当应用本发明的研磨组合物抛光蓝宝石基板时，可改善于抛光工艺的抛光速率，并提升经抛光的基板的表面质量。

公开(公告)号：CN118276409A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202310963747.6

申请日：2023-08-02

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 吴柏汉 ,  曾建霖 ,  林诣婕 ,  王崧年 ,  林伯南 ,  叶子瑭 ,  周乃天 ,  黄新义

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004

摘要： 本发明提供一种聚酰亚胺负型光阻组成物，包括：30wt％至90wt％的聚酰亚胺前驱物；0.1wt％至10wt％的光起始剂；1wt％至10wt％的酯类单体；0.1wt％至3wt％的如下式(I)所示的环化触媒；以及余量溶剂；#imgabs0#其中，R1如说明书中所定义。此外，本发明还提供前述聚酰亚胺负型光阻组成物的用途。

公开(公告)号：CN116974144A

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202211616825.7

申请日：2022-12-15

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 梁思伟 ,  黄新义 ,  周乃天 ,  陈怡静

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004

摘要： 本发明提供一种化学增幅型正型光阻组合物，包括：一第一光酸产生剂，如下式(I)所示；一第二光酸产生剂，如下式(II‑1)或(II‑2)所示：以及一碱可溶性树脂：#imgabs0#其中R1、R2、R3、R4、R5及R6如说明书中所定义。

公开(公告)号：CN105802505A

公开(公告)日：2016-07-27

申请号：CN201410833558.8

申请日：2014-12-29

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 杨霖 ,  周乃天 ,  黄新义 ,  篮伟仁

IPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

摘要： 本发明公开了一种用于抛光蓝宝石的研磨组合物，包括：(A)5至50重量百分比的研磨粒子；(B)0.01至5重量百分比的水溶性聚合物，为一乙二醇单体和一丙二醇单体共聚而成的一共聚物；以及(C)余量为水。该研磨组合物可改善在抛光工艺后研磨粒子的移除率，并提升经抛光的基板的表面质量。

公开(公告)号：CN114326301A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202110628509.0

申请日：2021-06-04

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 林伯南 ,  林诣婕 ,  黎振立 ,  叶子瑭 ,  周乃天 ,  黄新义 ,  林昭文

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

摘要： 本发明提供一种聚酰亚胺正型光阻组成物，包括：一树脂成分；一交联剂；一感光剂；以及一溶剂。其中，树脂成分包括：30wt％至90wt％之聚酰亚胺树脂；1wt％至60wt％之双酚类树脂；以及0.1wt％至10wt％之聚硅烷树脂。本发明还提供前述光阻组成物的用途。

公开(公告)号：CN104570596B

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201410305718.1

申请日：2014-06-30

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 陈怡静 ,  李晏成 ,  周乃天 ,  黄新义

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0388 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/114

摘要： 本发明系有关于一种负型厚膜光阻组成物，包括：(A)20至50重量百分比的碱可溶树脂，由复数种单体聚合而成，其中，该些单体包含如式(1A)及式(1B)所示的化合物，且基于该些单体占碱可溶树脂的重量比，式(1A)化合物与式(1B)化合物两者共占20至60％，且于式(1A)及式(1B)的X各自独立为氢、甲基或乙基；(B)10至30重量百分比的交联剂，为一具有至少一乙烯性不饱和双键的双酚芴衍生物单体；(C)5至15重量百分比的光起始剂；以及(D)余量溶剂。本发明亦有关于一种上述负型厚膜光阻组成物的用途。

公开(公告)号：CN107325735A

公开(公告)日：2017-11-07

申请号：CN201610324333.9

申请日：2016-05-16

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 徐沛绅 ,  张添琅 ,  周乃天 ,  黄新义

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/306

CPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/30625

摘要： 本发明是有关于一种用于抛光蓝宝石基板的研磨组合物和使用其抛光蓝宝石基板的方法，其中本发明的研磨组合物包括：(A)5至50重量百分比的研磨粒子；(B)0.01至5重量百分比的含有下述通式(1)所表示的烷基胺结构化合物；以及(C)余量的水； 其中，R1、R2、R3是如说明书中所定义。当应用本发明的研磨组合物抛光蓝宝石基板时，可改善于抛光工艺的抛光速率，并提升经抛光的基板的表面质量。

公开(公告)号：CN112859523A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202010707170.9

申请日：2020-07-21

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 林诣婕 ,  蔡芸慈 ,  林伯南 ,  叶子瑭 ,  周乃天 ,  黄新义 ,  林昭文

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/008 ,  G03F7/004

摘要： 一种聚酰亚胺正型光刻胶组合物，包括：一树脂成分；一交联剂；一感光剂；以及一溶剂。其中，树脂成分包括：81wt％至99wt％的聚酰亚胺树脂；以及1wt％至19wt％的丙烯酸树脂，包括一含环氧基的单体。

公开(公告)号：CN104570596A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410305718.1

申请日：2014-06-30

申请人： 台湾永光化学工业股份有限公司

发明人： 陈怡静 ,  周乃天 ,  黄新义

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0388 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/114

摘要： 本发明系有关于一种负型厚膜光阻组成物，包括：(A)20至50重量百分比的碱可溶树脂，由复数种单体聚合而成，其中，该些单体包含如式(1A)及式(1B)所示的化合物，且基于该些单体占碱可溶树脂的重量比，式(1A)化合物与式(1B)化合物两者共占20至60％，且于式(1A)及式(1B)的X各自独立为氢、甲基或乙基；(B)10至30重量百分比的交联剂，为一具有至少一乙烯性不饱和双键的双酚芴衍生物单体；(C)5至15重量百分比的光起始剂；以及(D)余量溶剂。本发明亦有关于一种上述负型厚膜光阻组成物的用途。