公开(公告)号：CN101198905A

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：CN200680019830.2

申请日：2006-04-07

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 木下洋平

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有树脂成分(A)、以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B)；上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1)，(B1)[式中，R51表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基；R52为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基；R53为可具有取代基的芳基；n为1～3的整数]。

公开(公告)号：CN101198905B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200680019830.2

申请日：2006-04-07

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 木下洋平

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有树脂成分(A)、以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B)；上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1)：[式中，R51表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基；R52为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基；R53为可具有取代基的芳基；n为1～3的整数]。

公开(公告)号：CN100572422C

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：CN200580004964.2

申请日：2005-01-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 绪方寿幸 ,  松丸省吾 ,  木下洋平 ,  羽田英夫 ,  盐野大寿 ,  清水宏明 ,  久保田尚孝

IPC: C08G85/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C07C69/54 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/28 ,  C08F290/06 ,  C08F290/061 ,  C09D133/14 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由下述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。

公开(公告)号：CN1918217A

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：CN200580004964.2

申请日：2005-01-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 绪方寿幸 ,  松丸省吾 ,  木下洋平 ,  羽田英夫 ,  盐野大寿 ,  清水宏明 ,  久保田尚孝

IPC: C08G85/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C07C69/54 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/28 ,  C08F290/06 ,  C08F290/061 ,  C09D133/14 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由上述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。