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公开(公告)号：CN1993394A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200580026129.9
申请日：2005-07-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/114
Abstract: 本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2－1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100537623C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200580026129.9
申请日：2005-07-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/114
Abstract: 本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2-1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。
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公开(公告)号：CN101080673A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200580043555.3
申请日：2005-12-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/027 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/2041
Abstract: 一种浸液曝光用抗蚀剂组合物，其中含有在酸的作用下碱溶性发生变化的树脂成分(A)，所述树脂成分(A)含有具有结构单元(a0)的高分子化合物(A1)，所述结构单元(a0)具有放射线的照射下产生酸的酸产生基。
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公开(公告)号：CN101080673B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200580043555.3
申请日：2005-12-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/027 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/2041
Abstract: 一种浸液曝光用抗蚀剂组合物，其中含有在酸的作用下碱溶性发生变化的树脂成分(A)，所述树脂成分(A)含有具有结构单元(a0)的高分子化合物(A1)，所述结构单元(a0)具有放射线的照射下产生酸的酸产生基。
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公开(公告)号：CN100572422C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由下述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
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公开(公告)号：CN1918217A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由上述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
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