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公开(公告)号：CN101107567B
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN200680003225.6
申请日：2006-01-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 竹下优
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/111
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有在酸的作用下碱溶性增大的树脂成分(A)和通过曝光产生酸的酸产生剂成分(B)，其中上述树脂成分(A)是共聚物(A1)和共聚物(A2)的混合物，所述共聚物(A1)具有衍生自含有酸离解性溶解抑制基的丙烯酸酯的结构单元(a1)、衍生自含有含内酯单环式基的甲基丙烯酸酯的结构单元(a2)和衍生自含有含极性基多环式基的丙烯酸酯的结构单元(a3)，所述共聚物(A2)具有不同于上述共聚物(A1)的结构，而且亲水性低于上述共聚物(A1)。
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公开(公告)号：CN100537623C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200580026129.9
申请日：2005-07-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/114
Abstract: 本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2-1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。
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公开(公告)号：CN118511128A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202280087598.5
申请日：2022-12-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有呋喃树脂、因热而产生酸的热产酸剂成分和溶剂。此外，一种抗蚀剂图案形成方法，其包括：使用所述抗蚀剂下层膜形成用组合物在基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；使用抗蚀剂组合物在所述抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；对所述曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序。一种包括所述抗蚀剂图案形成方法的抗蚀剂下层膜图案的形成方法及图案形成方法。
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公开(公告)号：CN101107567A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200680003225.6
申请日：2006-01-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 竹下优
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/111
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有在酸的作用下碱溶性增大的树脂成分(A)和通过曝光产生酸的酸产生剂成分(B)，其中上述树脂成分(A)是共聚物(A1)和共聚物(A2)的混合物，所述共聚物(A1)具有衍生自含有酸离解性溶解抑制基的丙烯酸酯的结构单元(a1)、衍生自含有含内酯单环式基的甲基丙烯酸酯的结构单元(a2)和衍生自含有含极性基多环式基的丙烯酸酯的结构单元(a3)，所述共聚物(A2)具有不同于上述共聚物(A1)的结构，而且亲水性低于上述共聚物(A1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1326895C
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200480002954.0
申请日：2004-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/28 , C08J3/14 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂、与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。
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公开(公告)号：CN100582938C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200480018215.0
申请日：2004-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/18
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)。组分(A)具有：(i)结构单元(a1)，其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，(ii)结构单元(a2)，其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，和(iii)结构单元(a3)，其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯。
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公开(公告)号：CN1993394A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200580026129.9
申请日：2005-07-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/114
Abstract: 本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2－1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。
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公开(公告)号：CN1813222A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200480018215.0
申请日：2004-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/18
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)。组分(A)具有：(i)结构单元(a1)，其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，(ii)结构单元(a2)，其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，和(iii)结构单元(a3)，其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯。
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公开(公告)号：CN1742029A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200480002954.0
申请日：2004-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/28 , C08J3/14 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。
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