公开(公告)号：CN107225440A

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201710622771.8

申请日：2017-07-27

Applicant: 赫比(上海)金属工业有限公司

Inventor： 潘宏图

IPC: B24B1/00 ,  B24B9/04 ,  B24B29/02 ,  B24B49/16 ,  B24B49/08 ,  B24B47/12 ,  B24B47/04

CPC classification number: B24B1/00 ,  B24B9/04 ,  B24B29/02 ,  B24B47/04 ,  B24B47/12 ,  B24B49/08 ,  B24B49/165

Abstract: 本发明涉及抛光加工技术领域，具体来说是一种金属斜面的抛光方法，所述的抛光方法步骤如下：对坯料边沿的表面进行CNC加工，得到竖面及竖面顶端向内倾斜的斜面；对坯料表面进行清洗和烘干；对竖面及斜面进行金属表面处理；进行斜面抛光前的预处理，以消除斜面上的金属表面处理痕迹；对斜面进行抛光；对坯料表面进行清洗和烘干。本发明的有益效果：只针对产品斜面抛光，抛光面积小，采用自动化抛光，效率高、品质稳定；减少不必要的制程，提高产品的良率，效益最大化；斜面抛光的视觉效果佳、精度高、公差易管控；工艺加工过程中棱线与竖面不会被破坏。

公开(公告)号：CN106584274A

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201510667769.3

申请日：2015-10-16

Applicant: 重庆凌云工具有限公司

Inventor： 白雪峰

IPC: B24B49/08 ,  B24B49/04

CPC classification number: B24B49/08 ,  B24B49/04

Abstract: 本发明涉及一种机械加工产品表面检测系统，包括底部支撑系统，底部支撑系统上部左侧而设有左支撑机构，左支撑机构右侧上部设有上支撑系统，左支撑机构右侧下部安装有检测系统，检测系统上部安装有下支撑系统，上支撑系统上部安装有搅拌系统，搅拌系统上部设有进液系统，搅拌系统右侧设有下液管，下液管下部左右两侧分别设有左检测液体系统和右检测液体系统，左检测液体系统和右检测液体系统下部均设有出液软管，出液软管下部设有出液系统，出液系统下部安装有检测缓冲装置。该发明系统能有效地针对机械制造过程中的产品进行表面平整度检测，使用方便，便于更好地检测样品，方便根据需要使用。

公开(公告)号：CN106413990A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201580021724.7

申请日：2015-04-06

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 作川卓 ,  高桥信行 ,  丸山徹

IPC: B24B37/30 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67253 ,  B24B37/005 ,  B24B37/30 ,  B24B49/08 ,  B24B49/16 ,  H01L21/304 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68764

Abstract: 本发明可简化气囊的校准作业。压力校正用夹具(400)用于校正对设在用于保持晶片(W)并向研磨垫按压的顶环(31)的内部的多个气囊(310-1～310-3)的压力的压力校正用夹具。压力校正用夹具(400)具备：与多个气囊(310)的各个连通的多个第一流路(440-1～440-3)；将多个第一流路(440)合流成一个流路而连接至压力校正用的压力传感器500)的第二流路(450)；及流动控制部(410)，针对多个第一流路(440)中的被选择为压力校正用的与气囊对应的流路，可使流体由气囊(310朝第二流路(450)的方向流通，并且针对被选择的一个流路以外的流路，阻止流体由第二流路(450)朝气囊(310)的方向流动。

公开(公告)号：CN105729270A

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201610110663.8

申请日：2016-02-29

Applicant: 苏州纽威阀门股份有限公司

Inventor： 何庆伟

IPC: B24B15/08 ,  B24B41/06 ,  B24B49/08 ,  B24B41/00

CPC classification number: B24B15/08 ,  B24B41/00 ,  B24B41/06 ,  B24B49/08

Abstract: 本发明提供一种阀芯阀座研磨机构，包括：第一安装架，具有适于安装阀座的第一安装空间，以及连通第一安装空间和大气的第一气孔；第二安装架，具有适于安装阀芯的第二安装空间，以及连通第二安装空间和大气的第二气孔；第一安装架和/或第二安装架能够向着对方移动以使第一安装空间和第二安装空间对接形成封闭空间，当安装有阀座时，第一安装空间和第二安装空间仅能通过阀座的待磨孔连通；当安装有阀芯时，阀芯正好插入待磨孔内与阀座配合连接；驱动结构，用于驱动阀芯或阀座相对于对方转动，以研磨阀芯和阀座的密封接触面。本发明的研磨机构既能控制阀芯阀座自动研磨，又能够对阀芯阀座间的密封性进行检测，因而生产效率高。

公开(公告)号：CN104959913A

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201510459294.9

申请日：2015-07-28

Applicant: 安徽潜山轴承制造有限公司

Inventor： 钱宜武 ,  钱宜文 ,  曹昇 ,  胡森 ,  王恩德

IPC: B24B49/04 ,  B24B49/08

CPC classification number: B24B49/04 ,  B24B49/08

Abstract: 一种轴承加工检测装置，包括磨床、气动检测装置、PLC编程控制器和声光报警装置，气动检测装置和PLC编程控制器相连，PLC编程控制器分别与磨床和声光报警装置相连。该轴承加工检测装置，结构简单，实用性强，实现了对工件尺寸的实时监控，对加工过程中出现的异常进行及时停机、报警、自动修正，提高加工质量，减少了工人的劳动强度。

公开(公告)号：CN100364062C

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：CN200510054723.0

申请日：2005-03-11

Applicant: 硅电子股份公司

Inventor： 约阿希姆·容格 ,  罗伯特·魏斯

IPC: H01L21/304 ,  B24B7/17

CPC classification number: B24B37/08 ,  B24B41/061 ,  B24B49/08 ,  H01L21/02013

Abstract: 本发明涉及一种同时双面研磨晶片形工件(1)的装置，包括两个具有共线布置的旋转轴(9)的大体上为圆形的磨轮(3)，其中磨轮(3)的研磨表面(10)以旋转轴(9)为基准在轴向彼此相对地设置，还包括两个同样彼此相对地设置的、用于流体静力学地支撑晶片形工件(1)的装置(2)，每个装置(2)包括至少一个流体静力学支撑和在每种情况下用于量测工件(1)与用于流体静力学支撑的装置(2)之间的间隔的至少一个动压管(4)，其中，两个用于流体静力学支撑的装置(2)中每一个的面对工件(1)的表面(7)是非平面设计，使得表面(7)与工件(1)之间的间隔在用于流体静力学支撑的装置(2)朝向磨轮(3)的边缘(8)的距离最短，并且该间隔随到磨轮(3)的距离增加而增大。此外，至少一个孔设置在动压管附近，液体与被磨下的任何材料可通过孔从动压管附近排出。

公开(公告)号：CN108972317A

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201810530084.8

申请日：2018-05-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 陈柏翰 ,  曾根忠一 ,  铃木宪一 ,  外崎宏

IPC: B24B37/005 ,  B24B37/20 ,  B24B37/30 ,  B24B37/34 ,  B24B57/02

CPC classification number: B24B49/16 ,  B24B49/08 ,  B24B49/18 ,  B24B53/017 ,  G06F17/11 ,  G06F17/18 ,  B24B37/005 ,  B24B37/20 ,  B24B37/30 ,  B24B37/34 ,  B24B57/02

Abstract: 提供一种能够短时间且高精度地确定修整器的载荷与供给到气缸的气体的压力的关系的方法和非暂时性的计算机可读取的记录介质。在确定由气缸(36)施加的修整器(31)的载荷与供给到气缸(36)的气体的压力的关系的方法中，确定载荷测定器(145)与研磨台(11)接触的第一接触点，计算表示测定出的载荷与压力的关系的由二次函数构成的关系式，确定修整器(31)与研磨垫(10)的研磨面接触的第二接触点，根据第一接触点处的气体的压力(P1)与第二接触点处的气体的压力(P2)来计算校正量(ΔP)，根据计算出的校正量(ΔP)来校正关系式。

公开(公告)号：CN106737193A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201510813194.1

申请日：2015-11-22

Applicant: 徐杭婷

Inventor： 徐杭婷

IPC: B24B49/08

CPC classification number: B24B49/08

Abstract: 本发明公开了一种磨床气动式测量装置，包括基板，所述的基板的上方设有轴承环，所述的轴承环的一侧上方设有一压板，该压板的上方固定有弹簧，所述的弹簧的一侧为机架，该机架的另一侧设有一气室，所述的气室上设有支架，该支架上设有制动销，所述的制动销一端设置在机架上，所述的支架的一侧连接有测量架，该测量架与制动销的另一端连接，所述的测量架的下方连接有宽量端，所述的测量架的上方设有一测量喷嘴，所述的测量喷嘴与气室相通，该测量喷嘴的上方设有微调螺母，该磨床气动式测量装置具有结构简单，稳定可靠的优点，有效提高了加工工件的尺寸精度。

公开(公告)号：CN106272030A

公开(公告)日：2017-01-04

申请号：CN201610901100.0

申请日：2006-08-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： D·J·本韦格努 ,  J·D·戴维 ,  B·斯韦德克 ,  H·Q·李 ,  L·卡鲁皮亚

IPC: B24B37/013 ,  B24B37/20 ,  B24B37/34 ,  G06F19/00

CPC classification number: B24B49/12 ,  B24B37/013 ,  B24B37/205 ,  B24B49/08 ,  B24D7/14 ,  G05B15/02 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212 ,  H01L22/26 ,  B24B37/345 ,  G06F19/00

Abstract: 本申请公开了基于光谱的监测化学机械研磨的装置及方法。本发明是揭示用于化学机械研磨的光谱基底监测的设备与方法，包含光谱基底终点侦测、光谱基底研磨速率调整、冲洗光学头的上表面、或具有窗口的垫片。该光谱基底终点侦测依经验法则为特定光谱基底终点判定逻辑选用一参考光谱，因此当应用该特定光谱基底终点逻辑判定出终点时，即是达到目标厚度。该研磨终点可利用一差异图形或一系列指针值来判定。该冲洗系统在该光学头上表面产生层流。该真空喷孔和真空来源是经配置以使该气流为层流型态。该窗口包含一软质塑料部分及一结晶或玻璃类部分。光谱基底研磨速率调整包含取得基材上不同区域的光谱。

公开(公告)号：CN103476547B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201280019107.X

申请日：2012-04-13

Applicant: 阿特拉斯·科普柯工业技术公司

Inventor： D·埃克隆德 ,  U·M·埃里克森

IPC: B24B55/00 ,  F01D15/06

CPC classification number: B25F5/00 ,  B24B47/14 ,  B24B49/08 ,  F01D15/062

Abstract: 一种用于限制由空气涡轮（20）驱动的气动动力工具的怠速和运行速度的速度控制装置，包括：用于供应为压力（P1）的加压空气的入口通道（16）；一个或多个喷嘴（25），所述一个或多个喷嘴（25）用于将供应的促动加压空气引导至所述空气涡轮（20）的涡轮叶轮（22）之上；以及速度调整器（21），其具有被响应于涡轮速度的控制压力（P3）偏置的可移动的阀元件（43），所述速度调整器（21）布置成控制从所述加压空气入口通道（16）到所述喷嘴（25）的供应的加压空气流，其中通过加压空气供给压力（P1）而控制的压力调节器（60）布置成响应于实际的加压空气供给压力（P1）通过调节与大气连通的排放通道（66）的尺寸而调节控制压力（P3），从而降低的加压空气供给压力（P1）导致排放通道（66）的面积减小，并随之导致控制压力增加，增加的控制压力导致到达涡轮喷嘴（25）的加压空气流增加，并导致对加压空气供给压力（P1）发生的变化进行补偿。