半导体装置用清洁部件及其制备方法

    公开(公告)号:CN1930665A

    公开(公告)日:2007-03-14

    申请号:CN200580007540.1

    申请日:2005-03-07

    Abstract: 本发明目的在于提供一种半导体装置用清洁部件,其必定能够容易地清除粘附在半导体装置内部上的异物,可以带有清楚可读的批量管理用标记,以及可以在与晶圆盒的夹持部分接触时防止产生颗粒。一种半导体装置用清洁部件,其特征在于所述清洁部件包含晶圆1和形成于其至少一面的由通过热固化聚酰胺酸而形成的耐热树脂制成的清洁层2,以及所述清洁层2具有暴露出晶圆表面的部分12;以及特别地具有上述结构的半导体装置用清洁部件,其中清洁层2中暴露出晶圆表面的部分12是是将给定宽度的清洁层在整个环形区域中除去而得到的部分,所述给定宽度从所述晶圆的外边缘延伸向所述晶圆的中心。

    半导体装置用清洁部件及其制备方法

    公开(公告)号:CN100456432C

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200580007540.1

    申请日:2005-03-07

    Abstract: 本发明目的在于提供一种半导体装置用清洁部件,其必定能够容易地清除粘附在半导体装置内部上的异物,可以带有清楚可读的批量管理用标记,以及可以在与晶圆盒的夹持部分接触时防止产生颗粒。一种半导体装置用清洁部件,其特征在于所述清洁部件包含晶圆1和形成于其至少一面的由通过热固化聚酰胺酸而形成的耐热树脂制成的清洁层2,以及所述清洁层2具有暴露出晶圆表面的部分12;以及特别地具有上述结构的半导体装置用清洁部件,其中清洁层2中暴露出晶圆表面的部分12是是将给定宽度的清洁层在整个环形区域中除去而得到的部分,所述给定宽度从所述晶圆的外边缘延伸向所述晶圆的中心。

    层叠体
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103725214B

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN201310464231.3

    申请日:2013-10-08

    Abstract: 本发明的课题在于,在冲压加工时防止由来自树脂片的树脂造成的加工用装置被污染。本发明的解决手段是提供一种层叠体,其具有支承体、在支承体的一部分上层叠的树脂片、和在树脂片上层叠的剥离片,支承体与树脂片之间的剥离力F1比树脂片与剥离片之间的剥离力F2大。

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