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公开(公告)号：CN1467517A
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN03141105.3
申请日：2003-06-06
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/7005 , G02B6/136 , G02B6/138 , G02B2006/12104 , G03F7/70291 , G03F7/70391
Abstract: 一种光布线基板的制造方法，用根据图像信息通过空间光调制元件调制的光束进行图像曝光的曝光装置，通过所述光束(UV)对在作为光布线基板材料的芯层上涂布的感光材料(光致抗蚀剂)的规定区域进行曝光并图形化形成蚀刻掩模。与在芯层的端部上形成的倾斜面对应的区域，通过根据倾斜面的倾斜形状控制曝光量的光束进行曝光并图形化，将蚀刻掩模的端部作为斜面结构。一旦通过该蚀刻掩模对芯层进行蚀刻加工，在芯层的端部就进行与蚀刻掩模的膜厚成比例地加工，从而形成倾斜面。根据本发明，通过无掩模曝光易于形成构成光波导路的芯层的端部上设置的倾斜面形状。
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公开(公告)号：CN1459645A
公开(公告)日：2003-12-03
申请号：CN03136897.2
申请日：2003-05-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种激光装置、曝光装置及光纤的连接方法，对于束状光纤光源(66)的光纤，通过采用纤芯直径相同但出射端的包层直径比入射端的包层直径小的光纤，来缩小其发光区域。使从该高辉度化后的束状光纤光源(66)通过透镜系(77)向DMD(50)入射的光束的角度变小，即，可以缩小照明NA，减小向扫描面(56)入射的光束的角度。即，在不增大成像NA的情况下可以获得微小成像光束，使得焦点深度变深。
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公开(公告)号：CN100433254C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200580004597.6
申请日：2005-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/004 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7005 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70808
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以形成具有良好细度和高精确性以及具有因抑制在图案形成材料上所形成的图像变形而产生的充足效率的永久图案，比如布线图案。为了实现该目的，提供了包括如下的图案形成方法：调制从激光源辐发射的激光束，补偿调制的激光束，以及由调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在载体上以形成图案形成材料，所述调制是由包括多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分都能够接收激光束和输出调制的激光束，以及所述补偿是通过使调制的激光束经过多个微透镜传输进行的，每个微透镜都具有能够补偿因成像部分的输出表面变形所导致的像差的非球形表面，并且将所述多个微透镜排列成为微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN101218546A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680024829.9
申请日：2006-06-16
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70216 , G03F7/70783 , G03F9/7026
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，其通过在不导致装置的成本增加或曝光速度的降低的情况下提高曝光性能，能够高精细且效率良好地形成配线图案等永久图案。因此，其特征在于，至少包括对感光层进行的如下的步骤，即：利用接受来自光照射机构的光且基于图案信息进行调制的光调制机构，将来自光照射机构的光进行调制，将利用所述光调制机构调制的光经由成像机构和焦点调节机构成像于所述感光层的被曝光面上，从而进行曝光，所述曝光中，利用所述光调制机构调制的光仅成像于包括所述成像机构的中央部的大致矩形状的区域，并且所述大致矩形状的短边方向所述感光层的弯曲方向平行。
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公开(公告)号：CN101189556A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200680019632.6
申请日：2006-05-30
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70275
Abstract: 本发明提供一种曝光装置及曝光方法，能高精度地投影曝光图像。作为曝光装置的构成元件，具备：射出曝光光的光源；DMD，其上二维状排列多个像素部，基于图像信号按每个像素部对从光源入射到多个像素部的曝光光进行空间光调制；远心光学系统，其被配置在入射到DMD的曝光光的光路上，使曝光光的主光线平行。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101142534A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200680008332.8
申请日：2006-03-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 一种曝光设备(10)包括光源单元(60)、数字微镜器件(90)、成像光学系统(50)以及一对楔形棱镜(54)，所述光源元件(60)用于发出曝光光线；所述数字微镜器件(90)用于基于图像信号、对从光源发出的曝光光线进行空间光调制；所述成像光学系统(50)用于以曝光光线在感光材料(12)上形成图像，所述曝光光线已经进行了空间光调制；所述楔形棱镜对(54)用于在用调制后的曝光光线在感光材料上形成图像时，通过改变调制后的曝光光线的光程长度来调焦。在所述成像光学系统(50)中，投影透镜的外围部分处的变形增加，并且包括中心部分的区域上的透镜的光学性能得到提高。仅通过投影透镜的基本上成矩形的包括其中心部分的区域、以调制后的曝光光线形成图像。
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公开(公告)号：CN100349269C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN03141112.6
申请日：2003-06-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/324 , H01L21/205
CPC classification number: B23K26/0608 , B23K26/0604 , C23C14/28 , C23C16/483
Abstract: 一种激光退火装置，备有由至少一个氮化镓(GaN)系半导体激光器产生的多个波长350～450nm的激光束的发光点构成的激光光源和由该光源发出的激光束在退火面上扫描的扫描器，从而可采用可连续驱动、输出稳定性优异的半导体激光，以良好重复性且高速地形成具有良好结晶特性的高迁移率的多晶硅膜。而激光退火装置还可备有根据各控制信号而改变配置在基板上的多数象素部分的光调制状态、调制发自激光光源的激光束之空间光调制元件。还有，作为应用例可举激光薄膜形成装置，其备有用至少一种半导体激光器产生的多个发光点构成的激光光源、把该光源发出的激光束以线状集束于上述基板的幅度方向的光学系统，从而把激光束入射到反应容器内并把其中的原料气体光解而沉积在基板上形成薄膜。
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公开(公告)号：CN1997944A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200580020670.9
申请日：2005-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种图案形成方法，所述图案形成方法通过抑制成像于图案形成材料上的像的失真，可以高清晰地、有效地形成布线图案等永久图案，而且使遮盖性和分辨率高度并存。因此，提供一种图案形成方法，所述图案形成方法将至少具有感光层的图案形成材料中的该感光层层叠在被处理基体上后，通过相对于该感光层的任意两个以上的区域，照射能量各不相同的光，进行曝光，通过具有n个接受来自光照射装置的光并射出的描素部的光调制装置，使来自上述光照射装置的光调制后，通过排列好具有可以对由上述描素部中的射出面的变形引起的像差进行矫正的非球面的微透镜的微透镜阵列，进行上述曝光。
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公开(公告)号：CN1950753A
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200580013937.1
申请日：2005-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/027 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，所述图案形成方法由于抑制形成在图案形成材料上的图像的变形，可以高度精细和精确以及足够效率地形成永久图案如布线图案。为了达到上述目的，提供一种图案形成方法，该方法包括：调制由激光源辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在衬底上以形成图案形成材料，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，所述成像部分每个都能够接收激光束和输出调制的激光束，并且所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个所述微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN1659479A
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN03813191.9
申请日：2003-04-09
CPC classification number: B41J2/451 , B23K26/0604 , B23K26/066 , B29C64/135 , B29C64/153 , B33Y30/00 , B41J2/45 , B41J2/465 , B41J2/47 , D06L4/50 , D06M10/005 , G02B26/0841 , G03F7/7005 , G03F7/70291 , H04N1/12 , H04N1/191 , H04N1/1916
Abstract: 本发明的曝光头及曝光装置，对于空间调制元件，将个数少于排列在其基板上的象素部的总个数的多个象素部分别利用根据曝光信息制成的控制信号来控制。由于不对排列在基板上的象素部的全部进行控制，因此所控制的象素部的个数变少，控制信号的传送速度加快。这样就可以加快激光的调制速度，从而可以实现高速曝光。作为激光装置，通过使用包括将激光合波而向光纤入射的合波激光光源的光纤阵列光源，可以获得高亮度、高输出，特别在半导体激光器中十分有效。另外，由于可以减少阵列化的光纤的条数，因此成本低，可以缩小阵列化时的发光区域。本发明的曝光装置可以应用于光造型装置等多种用途中。
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