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公开(公告)号：CN104914552B
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201510097478.5
申请日：2015-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 山川博充
CPC classification number: G02B13/06 , G02B13/004
Abstract: 本发明提供一种摄像透镜及摄像装置。在摄像透镜中，小型且低成本地构成，且实现高的光学性能。该摄像透镜由具有凸面朝向物侧的弯月形状的负的第一透镜(L1)、负的第二透镜(L2)、正的第三透镜(L3)及正的第四透镜(L4)构成。在整个系统的焦点距离为f、半视场角为ω、从第一透镜的物侧的面到像面的在光轴上的距离为L时，满足下述条件式(1)，0.78＜2*f*tan(ω/2)/L+0.005*ω＜1.00…(1)。
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公开(公告)号：CN104914553A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510098271.X
申请日：2015-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 山川博充
CPC classification number: G02B9/60 , G02B9/34 , G02B13/004 , G02B13/04 , G02B13/06
Abstract: 本发明提供一种摄像透镜及摄像装置。在摄像透镜中，低成本地构成且实现高的光学性能。该摄像透镜由前组(G1)、光阑及正的后组(G2)构成，该前组由具有凸面朝向物侧的弯月形状的负的第一透镜(L1)、负的第二透镜(L2)及正的第三透镜(L3)构成，后组由1片正的透镜及1片负的透镜(L4、L5)构成。在第一透镜(L1)的材质的相对于d线的阿贝数为vd1、折射率为Nd1时，满足下述条件式(1)，60.0＜vd1+26*Nd1＜85.0…(1)。
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公开(公告)号：CN104914553B
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201510098271.X
申请日：2015-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 山川博充
CPC classification number: G02B9/60 , G02B9/34 , G02B13/004 , G02B13/04 , G02B13/06
Abstract: 本发明提供一种摄像透镜及摄像装置。在摄像透镜中，低成本地构成且实现高的光学性能。该摄像透镜由前组(G1)、光阑及正的后组(G2)构成，该前组由具有凸面朝向物侧的弯月形状的负的第一透镜(L1)、负的第二透镜(L2)及正的第三透镜(L3)构成，后组由1片正的透镜及1片负的透镜(L4、L5)构成。在第一透镜(L1)的材质的相对于d线的阿贝数为vd1、折射率为Nd1时，满足下述条件式(1)，60.0＜vd1+26*Nd1＜85.0…(1)。
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公开(公告)号：CN104914554B
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201510098275.8
申请日：2015-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 山川博充
CPC classification number: G02B9/04 , G02B13/0045 , G02B13/06
Abstract: 本发明提供一种摄像透镜及摄像装置。在摄像透镜中，小型且低成本地构成，且实现高的光学性能。该摄像透镜由前组(G1)、光阑及正的后组(G2)构成，该前组(G1)由具有凸面朝向物侧的弯月形状的负的第一透镜(L1)、负的第二透镜(L2)及正的第三透镜(L3)构成，后组具有正的透镜(L4)及负的透镜(L5)。在整个系统的焦点距离为f、半视场角为ω、从第一透镜的物侧的面到像面的光轴上的距离为L时，满足下述条件式(1)，0.25＜2*f*tan(ω/2)/L＜1.00…(1)。
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公开(公告)号：CN104914552A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510097478.5
申请日：2015-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 山川博充
CPC classification number: G02B13/06 , G02B13/004
Abstract: 本发明提供一种摄像透镜及摄像装置。在摄像透镜中，小型且低成本地构成，且实现高的光学性能。该摄像透镜由具有凸面朝向物侧的弯月形状的负的第一透镜(L1)、负的第二透镜(L2)、正的第三透镜(L3)及正的第四透镜(L4)构成。在整个系统的焦点距离为f、半视场角为ω、从第一透镜的物侧的面到像面的在光轴上的距离为L时，满足下述条件式(1)，0.78＜2*f*tan(ω/2)/L+0.005*ω＜1.00…(1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101836134A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200880112516.8
申请日：2008-08-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B1/04 , C08K3/22 , C08L101/02 , G02B5/22
Abstract: 在监控摄像机2中，用于成像的光学系统单元具有第一透镜7、第二透镜8、第三透镜9和第四透镜10，目标图像穿过玻璃罩11在成像元件的光电表面12上形成。第三透镜9是由本发明的其中分散了无机微粒的纳米复合材料制成的光学透镜。第三透镜9的光入射面上形成阻挡紫外线的薄膜层15。通过第一透镜7和第二透镜8后，目标光中含有的紫外线被薄膜层15阻挡因此不能进入第三透镜9。
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公开(公告)号：CN1467802A
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN03141112.6
申请日：2003-06-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/324 , H01L21/205
CPC classification number: B23K26/0608 , B23K26/0604 , C23C14/28 , C23C16/483
Abstract: 一种激光退火装置，备有由至少一个氮化镓(GaN)系半导体激光器产生的多个波长350～450nm的激光束的发光点构成的激光光源和由该光源发出的激光束在退火面上扫描的扫描器，从而可采用可连续驱动、输出稳定性优异的半导体激光，以良好重复性且高速地形成具有良好结晶特性的高迁移率的多晶硅膜。而激光退火装置还可备有根据各控制信号而改变配置在基板上的多数象素部分的光调制状态、调制发自激光光源的激光束之空间光调制元件。还有，作为应用例可举激光薄膜形成装置，其备有用至少一种半导体激光器产生的多个发光点构成的激光光源、把该光源发出的激光束以线状集束于上述基板的幅度方向的光学系统，从而把激光束入射到反应容器内并把其中的原料气体光解而沉积在基板上形成薄膜。
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公开(公告)号：CN104914554A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201510098275.8
申请日：2015-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 山川博充
CPC classification number: G02B9/04 , G02B13/0045 , G02B13/06 , G02B13/00 , G02B13/18
Abstract: 本发明提供一种摄像透镜及摄像装置。在摄像透镜中，小型且低成本地构成，且实现高的光学性能。该摄像透镜由前组(G1)、光阑及正的后组(G2)构成，该前组(G1)由具有凸面朝向物侧的弯月形状的负的第一透镜(L1)、负的第二透镜(L2)及正的第三透镜(L3)构成，后组具有正的透镜(L4)及负的透镜(L5)。在整个系统的焦点距离为f、半视场角为ω、从第一透镜的物侧的面到像面的光轴上的距离为L时，满足下述条件式(1)，0.25＜2*f*tan(ω/2)/L＜1.00…(1)。
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公开(公告)号：CN100349269C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN03141112.6
申请日：2003-06-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/324 , H01L21/205
CPC classification number: B23K26/0608 , B23K26/0604 , C23C14/28 , C23C16/483
Abstract: 一种激光退火装置，备有由至少一个氮化镓(GaN)系半导体激光器产生的多个波长350～450nm的激光束的发光点构成的激光光源和由该光源发出的激光束在退火面上扫描的扫描器，从而可采用可连续驱动、输出稳定性优异的半导体激光，以良好重复性且高速地形成具有良好结晶特性的高迁移率的多晶硅膜。而激光退火装置还可备有根据各控制信号而改变配置在基板上的多数象素部分的光调制状态、调制发自激光光源的激光束之空间光调制元件。还有，作为应用例可举激光薄膜形成装置，其备有用至少一种半导体激光器产生的多个发光点构成的激光光源、把该光源发出的激光束以线状集束于上述基板的幅度方向的光学系统，从而把激光束入射到反应容器内并把其中的原料气体光解而沉积在基板上形成薄膜。
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公开(公告)号：CN1659479A
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN03813191.9
申请日：2003-04-09
CPC classification number: B41J2/451 , B23K26/0604 , B23K26/066 , B29C64/135 , B29C64/153 , B33Y30/00 , B41J2/45 , B41J2/465 , B41J2/47 , D06L4/50 , D06M10/005 , G02B26/0841 , G03F7/7005 , G03F7/70291 , H04N1/12 , H04N1/191 , H04N1/1916
Abstract: 本发明的曝光头及曝光装置，对于空间调制元件，将个数少于排列在其基板上的象素部的总个数的多个象素部分别利用根据曝光信息制成的控制信号来控制。由于不对排列在基板上的象素部的全部进行控制，因此所控制的象素部的个数变少，控制信号的传送速度加快。这样就可以加快激光的调制速度，从而可以实现高速曝光。作为激光装置，通过使用包括将激光合波而向光纤入射的合波激光光源的光纤阵列光源，可以获得高亮度、高输出，特别在半导体激光器中十分有效。另外，由于可以减少阵列化的光纤的条数，因此成本低，可以缩小阵列化时的发光区域。本发明的曝光装置可以应用于光造型装置等多种用途中。
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