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公开(公告)号：CN101189556A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200680019632.6
申请日：2006-05-30
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70275
Abstract: 本发明提供一种曝光装置及曝光方法，能高精度地投影曝光图像。作为曝光装置的构成元件，具备：射出曝光光的光源；DMD，其上二维状排列多个像素部，基于图像信号按每个像素部对从光源入射到多个像素部的曝光光进行空间光调制；远心光学系统，其被配置在入射到DMD的曝光光的光路上，使曝光光的主光线平行。
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公开(公告)号：CN1659479A
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN03813191.9
申请日：2003-04-09
CPC classification number: B41J2/451 , B23K26/0604 , B23K26/066 , B29C64/135 , B29C64/153 , B33Y30/00 , B41J2/45 , B41J2/465 , B41J2/47 , D06L4/50 , D06M10/005 , G02B26/0841 , G03F7/7005 , G03F7/70291 , H04N1/12 , H04N1/191 , H04N1/1916
Abstract: 本发明的曝光头及曝光装置，对于空间调制元件，将个数少于排列在其基板上的象素部的总个数的多个象素部分别利用根据曝光信息制成的控制信号来控制。由于不对排列在基板上的象素部的全部进行控制，因此所控制的象素部的个数变少，控制信号的传送速度加快。这样就可以加快激光的调制速度，从而可以实现高速曝光。作为激光装置，通过使用包括将激光合波而向光纤入射的合波激光光源的光纤阵列光源，可以获得高亮度、高输出，特别在半导体激光器中十分有效。另外，由于可以减少阵列化的光纤的条数，因此成本低，可以缩小阵列化时的发光区域。本发明的曝光装置可以应用于光造型装置等多种用途中。
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公开(公告)号：CN101120285A
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200680004549.1
申请日：2006-02-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种图像曝光装置，在装置中感光材料由空间光调制器调制的光曝光，其能获得高的光利用效率和消光比。在图像曝光装置中，包括具有多个反射像素部的两维设置的空间光调制器(50)，如DMD，每一个像素部调制照射在其上的光；将光(B)照射到空间光调制器(50)上的光源(66)；以及将由经由空间光调制器(50)透射的光(B)所代表的图像聚焦到感光材料(150)上，每一个像素部(例如，DMD的微镜)制成类似凹面镜或凸面镜的形状，会聚用于图像曝光的光(B)。
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公开(公告)号：CN100338490C
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN03136897.2
申请日：2003-05-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种激光装置、曝光装置及光纤的连接方法，对于束状光纤光源(66)的光纤，通过采用纤芯直径相同但出射端的包层直径比入射端的包层直径小的光纤，来缩小其发光区域。使从该高辉度化后的束状光纤光源(66)通过透镜系(77)向DMD(50)入射的光束的角度变小，即，可以缩小照明NA，减小向扫描面(56)入射的光束的角度。即，在不增大成像NA的情况下可以获得微小成像光束，使得焦点深度变深。
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公开(公告)号：CN1467802A
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN03141112.6
申请日：2003-06-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/324 , H01L21/205
CPC classification number: B23K26/0608 , B23K26/0604 , C23C14/28 , C23C16/483
Abstract: 一种激光退火装置，备有由至少一个氮化镓(GaN)系半导体激光器产生的多个波长350～450nm的激光束的发光点构成的激光光源和由该光源发出的激光束在退火面上扫描的扫描器，从而可采用可连续驱动、输出稳定性优异的半导体激光，以良好重复性且高速地形成具有良好结晶特性的高迁移率的多晶硅膜。而激光退火装置还可备有根据各控制信号而改变配置在基板上的多数象素部分的光调制状态、调制发自激光光源的激光束之空间光调制元件。还有，作为应用例可举激光薄膜形成装置，其备有用至少一种半导体激光器产生的多个发光点构成的激光光源、把该光源发出的激光束以线状集束于上述基板的幅度方向的光学系统，从而把激光束入射到反应容器内并把其中的原料气体光解而沉积在基板上形成薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100478785C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200580013937.1
申请日：2005-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/027 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，所述图案形成方法由于抑制形成在图案形成材料上的图像的变形，可以高度精细和精确以及足够效率地形成永久图案如布线图案。为了达到上述目的，提供一种图案形成方法，该方法包括：调制由激光源辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在衬底上以形成图案形成材料，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，所述成像部分每个都能够接收激光束和输出调制的激光束，并且所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个所述微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN101218545A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680024481.3
申请日：2006-06-16
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/033 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，其在使用了具备将描绘单位二维地分布的曝光头的数字曝光装置的曝光中，可以在压缩成本的同时，通过将各描绘单位的光量均匀化，而高精度地形成微细的图案。为此，至少包括如下操作：对该感光层经由具有光分布修正机构的聚光光学系统照射从光照射机构中射出的光束而进行曝光，该光束被上述光调制机构调制，该曝光如下进行，即，使从上述光照射机构向上述光调制机构照射的光束的照射区域内的光量中具有分布，由上述光调制机构调制了的光束的光量分布被修正为在上述感光层的被曝光面上达到均匀化。
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公开(公告)号：CN100363776C
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200410058855.6
申请日：2004-08-02
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , B41J2/465
Abstract: 本发明提供一种曝光头，第1微透镜阵列中排列有多个对应于DMD中的多个微镜的第1微聚光器件。设置了包括分别对应于多个第1微聚光器件而排列的多个小孔的小孔阵列。小孔阵列只让夫琅和费衍射像的主要部分透过。从小孔中透过的夫琅和费衍射像的主要部分，被第2微透镜阵列的第2微聚光器件成像在曝光面上。本发明的曝光头，能够有效地减少干扰光以及散射光，并将通过小孔阵列而投影在曝光面上的光束点的光束直径调整为所期望的大小。
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公开(公告)号：CN1637589A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410081737.7
申请日：2004-12-24
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03B27/32
CPC classification number: G02B3/0087 , G02B3/0037 , G02B27/0025 , G03F7/70791
Abstract: 本发明提供图像曝光装置以及使用该图像曝光装置的曝光方法。所述方法，在具备分别调制被照射光的多个像素部以二维排列而成的DMD等空间光调制元件(50)、照射这种空间光调制元件(50)的光源(66)、由分别将来自空间光调制元件(50)的各像素部的光B聚光的微透镜(55a)，以阵列状配置而成的微透镜阵列(55)的图像曝光装置中，将微透镜阵列(55)的各微透镜(55a)，制成补正因上述像素部的面的变形而产生的像差的非球面形状。从而，在由空间光调制元件和微透镜阵列组合而成的图像曝光装置中，防止微透镜聚光光束的变形。
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公开(公告)号：CN101103312A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200680002028.2
申请日：2006-01-06
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 石川弘美
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: G03F7/70916 , G02B6/4249 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70808
Abstract: 本发明公开了一种能够防止曝光的图像质量下降的图像曝光设备。该设备包括空间光学调制装置(50)，该空间光学调制装置(50)包括大量的两维排列的像素区；光源(66)；以及图像聚焦光学系统(51)，该图像聚焦光学系统(51)用于将由空间光学调制装置(50)调制的光(B)所表现的图像聚焦在感光材料上，该图像聚焦光学系统(51)包括图像聚焦透镜(52、54)和微透镜阵列(55)，所述微透镜阵列布置为多个微透镜定位在由图像聚焦透镜(52、54)聚焦的每一个像素区的图像位置处。微透镜阵列(55)被容纳在具有两个透明部分(82、83)的壳体(80)中，该透明部分(82、83)分别用于透射将要通过微透镜阵阵列(55)的光和透射已经通过微透镜阵列(55)的光，用以防止灰尘粘附于该微透镜阵列。
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