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公开(公告)号：CN101156109A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200680011107.X
申请日：2006-02-22
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358
Abstract: 本发明提供一种可以通过减轻在图案形成材料的被曝光面上形成的所述图案的析像度的不均或浓度的不均，来高精细而且有效地形成所述图案的图案形成方法。所以，本发明提供一种图案形成方法，其特征在于，在被处理基体上层叠在支撑体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层之后，相对于对该感光层，使用曝光头(其中，该曝光头为具备光照射机构以及具有n个排列成二维状的描绘部的光调制机构且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ)，所述方法包括：对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，指定用于N重曝光的所述描绘部的工序；对于所述曝光头，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制的工序；相对于所述感光层，使所述曝光头沿扫描方向相对地移动，从而进行曝光的工序。
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公开(公告)号：CN101218542A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680019409.1
申请日：2006-05-24
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358
Abstract: 本发明提供一种曝光方法及装置，使多个曝光头相对于曝光面沿规定的扫描方向相对地移动，从而在曝光面上曝光图像，其曝光合适的图像而不产生每个曝光头的图像的偏离。使用在各曝光头3021、3012上预先设定的基准微反射镜r21、r12，在曝光面上形成各曝光头3021、3012的基准点rp21、rp12，并且控制基于各曝光头2021、3012的曝光时刻，以使每个曝光头3012、3012的基准点rp21、rp12排列在基准线RL上。
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公开(公告)号：CN101120285A
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200680004549.1
申请日：2006-02-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种图像曝光装置，在装置中感光材料由空间光调制器调制的光曝光，其能获得高的光利用效率和消光比。在图像曝光装置中，包括具有多个反射像素部的两维设置的空间光调制器(50)，如DMD，每一个像素部调制照射在其上的光；将光(B)照射到空间光调制器(50)上的光源(66)；以及将由经由空间光调制器(50)透射的光(B)所代表的图像聚焦到感光材料(150)上，每一个像素部(例如，DMD的微镜)制成类似凹面镜或凸面镜的形状，会聚用于图像曝光的光(B)。
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公开(公告)号：CN1721996A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510078177.4
申请日：2005-06-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H04N1/19 , B41J2/465 , H04N1/00734 , H04N1/00745 , H04N1/1008 , H04N1/1906 , H04N1/193 , H04N1/1933 , H04N1/195 , H04N1/19573 , H04N2201/0436
Abstract: 一种多重描绘形式的描绘装置以及描绘方法。装入曝光装置(描绘装置)的各曝光头(30)的矩形的二维像素阵列，以相对扫描方向成规定的设定倾斜角度的方式，相对感光材料(12)的感光面安装。与各像素阵列的中心附近的像素列相对应的代表光点列的曝光面上的实际倾斜角度，是通过缝隙和光检测器的组进行测定。根据测定的实际倾斜角度，代表光点列附近的区域中，以进行将曝光的冗长或者不足抑制到最小限度的接近理想的多重曝光的方式，选择像素阵列上的使用像素。仅实际动作选择的使用像素，将各曝光头(30)相对移动载物台(14)移动的同时，进行曝光处理。由此，可以减轻由描绘头的安装角度误差以及图形变形引起的清晰度或者浓度的不均匀。
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公开(公告)号：CN101223481A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200680025418.1
申请日：2006-07-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G02F1/1333 , G02F1/13 , H01L21/027
CPC classification number: G02F1/13394 , G02F1/133707 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358 , G03F7/70791
Abstract: 本发明提供：在不使用光掩模的情况下，通过减小在光敏层的曝光表面上形成的图案的分辨率的变化和密度的不均匀性制备内单元结构的方法；通过上述方法制备的精细内单元结构；以及使用该内单元结构的显示器。所述用于制备内单元结构的方法包括通过指定用于N多次曝光的像素部分，使用曝光头将光敏层曝光，控制所述像素部分使得只有被指定的像素部分参与曝光，并且使所述曝光头朝扫描方向相对移动；以及将曝光的光敏层显影，其中安置所述曝光头使得所述像素部分的列方向具有相对于曝光头的扫描方向的倾斜安装角。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101189557A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200680019820.9
申请日：2006-06-08
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70425 , H05K3/0082
Abstract: 本发明提供一种可以通过平均图案偏斜引起的曝光量不均的影响从而抑制成像于感光层上的像的变形，来高精细而且有效地形成永久图案的永久图案形成方法。所以，本发明提供一种永久图案形成方法，其中，使用感光性组合物，在基材的表面形成感光层，然后使用曝光头(其中，该曝光头为具备光照射机构以及光调制机构的曝光头且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ)，对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，相对于对该感光层，指定用于N重曝光(其中，N为2以上的整数)的所述描绘部，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制，使得只有被指定的所述描绘部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头向扫描方向相对地移动，从而进行曝光、显影。
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公开(公告)号：CN101078886A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200710104222.8
申请日：2007-05-23
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41J29/393
Abstract: 一种图像记录方法和图像记录设备，沿基板(F)被移动的方向和与该方向垂直的方向将矩形图记录在基板(F)上。测量矩形图的线宽，且建立用于获取光量的掩模数据以校正线宽变化。当曝光头(24a－24j)被激发以便通过曝光将图像记录在基板(F)上时，从掩模数据存储器(82)读取取决于基板(F)的被移动位置的掩模数据，并用该掩模数据来校正输出数据，因而将期望的无定域性图像记录在所述基板(F)上。
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公开(公告)号：CN1520152A
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN200410002577.2
申请日：2004-01-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H04N1/19
CPC classification number: H04N1/1008 , H04N1/047 , H04N1/1911 , H04N1/393 , H04N2201/04767
Abstract: 本发明涉及绘图单元、绘图装置及绘图方法。课题在于用多个绘图头能消除扫描方向的放大率误差，而且获得还能进行扫描方向的总体放大率变换的绘图头单元、绘图装置及绘图方法。至少沿扫描方向配置多个曝光头166，构成曝光头单元165。通过对每个曝光头166变更像素的更新时序，修正曝光头166之间的扫描方向的放大率误差。
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公开(公告)号：CN101228480A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200680026721.3
申请日：2006-07-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70358 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，其是进行使光调制机构倾斜来描绘的曝光的图案形成方法，不降低曝光速度，在感光层的被曝光面上形成锯齿的产生被抑制的希望的描绘图案，由此高精细且效率良好地形成配线图案等。因此，以使由再现利用描绘部形成的描绘像素而产生的锯齿的锯齿间距及锯齿振幅的至少任一个成为规定值的方式，设定描绘像素的排列间距(a)、倾斜角度(b)、描绘间距(c)、及相位差(d)的至少任一个，基于所述图案信息以规定的时刻调制控制所述描绘部来进行。
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公开(公告)号：CN101189555A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200680019401.5
申请日：2006-03-31
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 角克人
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 在执行N元绘图的绘图设备中，安装绘图头(30)使得二维排列的可用像素的像素列方向和绘图头(30)的扫描方向相对于绘图面(12A)形成预定的设置倾角。待使用像素设置装置基于像素列相对于扫描方向倾角的变化，设置多个可用像素中在N元绘图中使用的待使用像素进行操作。待使用像素设置装置包括待使用像素指定装置(140)、设置改变装置(150)等。通过在将绘图头(30)相对于台(14)相对移动的同时使由设置指定的待使用像素进行操作，在绘图面(12A)上绘制图像。
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