图像曝光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101120285A

    公开(公告)日:2008-02-06

    申请号:CN200680004549.1

    申请日:2006-02-08

    Abstract: 一种图像曝光装置,在装置中感光材料由空间光调制器调制的光曝光,其能获得高的光利用效率和消光比。在图像曝光装置中,包括具有多个反射像素部的两维设置的空间光调制器(50),如DMD,每一个像素部调制照射在其上的光;将光(B)照射到空间光调制器(50)上的光源(66);以及将由经由空间光调制器(50)透射的光(B)所代表的图像聚焦到感光材料(150)上,每一个像素部(例如,DMD的微镜)制成类似凹面镜或凸面镜的形状,会聚用于图像曝光的光(B)。

    图案形成方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101218545A

    公开(公告)日:2008-07-09

    申请号:CN200680024481.3

    申请日:2006-06-16

    CPC classification number: G03F7/70791 G03F7/033 G03F7/70275 G03F7/70291

    Abstract: 本发明提供一种图案形成方法,其在使用了具备将描绘单位二维地分布的曝光头的数字曝光装置的曝光中,可以在压缩成本的同时,通过将各描绘单位的光量均匀化,而高精度地形成微细的图案。为此,至少包括如下操作:对该感光层经由具有光分布修正机构的聚光光学系统照射从光照射机构中射出的光束而进行曝光,该光束被上述光调制机构调制,该曝光如下进行,即,使从上述光照射机构向上述光调制机构照射的光束的照射区域内的光量中具有分布,由上述光调制机构调制了的光束的光量分布被修正为在上述感光层的被曝光面上达到均匀化。

    曝光装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1517728A

    公开(公告)日:2004-08-04

    申请号:CN200410002928.X

    申请日:2004-01-20

    Inventor: 大森利彦

    Abstract: 本发明涉及曝光装置。本发明课题是提供能够得到高照明效率并且能够均匀曝光的曝光装置。在具有光源、从该光源供给光的光积分器、和由经过该光积分器的光照明的2维空间调制元件的曝光装置中,将向光积分器射出光的光纤束端部(174E)设置在光源中,使从射出侧看的光纤束端部(174E)的射出区域(192)具有与光积分器的射出面的轮廓形状大致相似的形状。因此,因为从光纤束端部(174E)射出的光的大部分能够照射在设定的照明区域上,所以能够得到高照明效率并且能够均匀地曝光。

    曝光装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1308710C

    公开(公告)日:2007-04-04

    申请号:CN200410002928.X

    申请日:2004-01-20

    Inventor: 大森利彦

    Abstract: 本发明涉及曝光装置。本发明课题是提供能够得到高照明效率并且能够均匀曝光的曝光装置。在具有光源、从该光源供给光的光积分器、和由经过该光积分器的光照明的2维空间调制元件的曝光装置中,将向光积分器射出光的光纤束端部(174E)设置在光源中,使从射出侧看的光纤束端部(174E)的射出区域(192)具有与光积分器的射出面的轮廓形状大致相似的形状。因此,因为从光纤束端部(174E)射出的光的大部分能够照射在设定的照明区域上,所以能够得到高照明效率并且能够均匀地曝光。

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