公开(公告)号：CN101189556A

公开(公告)日：2008-05-28

申请号：CN200680019632.6

申请日：2006-05-30

Applicant: 富士胶片株式会社 ,  富士能株式会社

Inventor： 小森一树 ,  石川弘美 ,  大森利彦 ,  冈崎洋二 ,  马场智之

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光装置及曝光方法，能高精度地投影曝光图像。作为曝光装置的构成元件，具备：射出曝光光的光源；DMD，其上二维状排列多个像素部，基于图像信号按每个像素部对从光源入射到多个像素部的曝光光进行空间光调制；远心光学系统，其被配置在入射到DMD的曝光光的光路上，使曝光光的主光线平行。

公开(公告)号：CN101218545A

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200680024481.3

申请日：2006-06-16

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 高岛正伸 ,  小森一树 ,  石川弘美 ,  冈崎洋二 ,  大森利彦

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/033

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/033 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291

Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，其在使用了具备将描绘单位二维地分布的曝光头的数字曝光装置的曝光中，可以在压缩成本的同时，通过将各描绘单位的光量均匀化，而高精度地形成微细的图案。为此，至少包括如下操作：对该感光层经由具有光分布修正机构的聚光光学系统照射从光照射机构中射出的光束而进行曝光，该光束被上述光调制机构调制，该曝光如下进行，即，使从上述光照射机构向上述光调制机构照射的光束的照射区域内的光量中具有分布，由上述光调制机构调制了的光束的光量分布被修正为在上述感光层的被曝光面上达到均匀化。