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公开(公告)号：CN101156109A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200680011107.X
申请日：2006-02-22
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358
Abstract: 本发明提供一种可以通过减轻在图案形成材料的被曝光面上形成的所述图案的析像度的不均或浓度的不均，来高精细而且有效地形成所述图案的图案形成方法。所以，本发明提供一种图案形成方法，其特征在于，在被处理基体上层叠在支撑体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层之后，相对于对该感光层，使用曝光头(其中，该曝光头为具备光照射机构以及具有n个排列成二维状的描绘部的光调制机构且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ)，所述方法包括：对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，指定用于N重曝光的所述描绘部的工序；对于所述曝光头，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制的工序；相对于所述感光层，使所述曝光头沿扫描方向相对地移动，从而进行曝光的工序。
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公开(公告)号：CN101124516A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200580040184.3
申请日：2005-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0007 , G03F7/031
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够有效地抑制感光层的感度降低并且可以形成更高精细图案的图案形成材料、以及具备该图案形成材料的图案形成装置和使用了上述图案形成材料的图案形成方法。因此，提供图案形成材料、以及具备该图案形成材料的图案形成装置和使用该图案形成材料进行曝光的图案形成方法，所述图案形成材料的特征在于：在支撑体上至少具有感光层，该支撑体的浊度值为5.0％以下，该感光层含有选自具有酸性核的色素、具有碱性核的色素和荧光增白剂的至少1种作为增感剂，并且在对该感光层进行曝光、显像时，在该显像的前后不使该感光层曝光的部分的厚度发生变化的上述曝光中所使用的光的最小能量为0.1～20(mJ/cm2)。
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公开(公告)号：CN101105631A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200710129075.X
申请日：2007-07-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的目的在于，通过组合规定的聚合性化合物进而在一定范围内调节感光层的感度，提供感度和析像度高、且遮盖膜强度强、密合性出色、防止未曝光膜破裂的效果出色的图案形成材料、以及图案形成装置、以及图案形成方法。本发明的图案形成材料，具有支撑体并且在该支撑体上至少具有感光层而成，该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂，所述聚合性化合物含有具有双酚骨架的聚合性化合物(a－1)、和分子具有4个以上的反应性基团且分子量为700以上的聚合性化合物(a－2)而成，使所述感光层的曝光的部分的厚度在该曝光和显影后不发生变化的所述曝光中所使用的光的最小能量为0.1～50mJ/cm2。本发明使用了该图案形成材料的图案形成方法也具有所述特征。
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公开(公告)号：CN1934502A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200580008958.4
申请日：2005-03-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以适当抑制在图案形成材料上的图像畸变，并且可以有效地形成具有高度精细和精确的图案比如布线图案。为了实现该目的，提供了根据本发明的图案形成方法，包括：调制由激光源所辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光在图案形成材料内的光敏层，其中所述图案形成材料包括载体和光敏层，所述光敏层包含阻聚剂、粘合剂、可聚合化合物和光聚合引发剂，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分能够接收激光束和输出调制的激光束，所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个微透镜都具有非球形表面。
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公开(公告)号：CN101401039B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200780008327.1
申请日：2007-02-06
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , H01L21/027 , H05K3/28
Abstract: 本发明提供兼顾优异的保存稳定性和高感光度、能够高精细地且高效地形成保护膜、绝缘膜等永久图案的感光性组合物、感光性膜、使用该感光性组合物的永久图案形成方法及通过该永久图案形成方法形成永久图案的印制电路板。因此，将至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发系化合物、热交联剂的该感光性组合物层叠在基体上，在25℃下暗处放置20分钟后，将利用显影液除去层叠在所述基体的感光性组合物的未曝光部分所需要的时间(最短显影时间)作为T1；相对于层叠在所述基体的感光性组合物将该感光性组合物在40℃下暗处放置72小时后，将利用显影液除去所述感光性组合物的未曝光部分所需要的时间(最短显影时间)作为T2时，满足0.5
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101084470B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200580043931.9
申请日：2005-12-16
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/0007 , G03F7/031 , G03F7/09
Abstract: 本发明提供一种可以以形成阻焊剂(solder resist)之类的永久图案为目的，通过使用高透明的物质作为支撑体，形成得到的抗蚀剂(resist)面形状良好且更高精细的图案的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料的图案形成方法。所以，该图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料进行曝光的图案形成方法的特征在于，在支撑体上至少具有感光层，该支撑体的浊度值为5.0％以下，而且该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂、热交联剂及杂稠环系化合物。
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公开(公告)号：CN101124516B
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN200580040184.3
申请日：2005-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0007 , G03F7/031
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够有效地抑制感光层的感度降低并且可以形成更高精细图案的图案形成材料、以及具备该图案形成材料的图案形成装置和使用了上述图案形成材料的图案形成方法。因此，提供图案形成材料、以及具备该图案形成材料的图案形成装置和使用该图案形成材料进行曝光的图案形成方法，所述图案形成材料的特征在于：在支撑体上至少具有感光层，该支撑体的浊度值为5.0％以下，该感光层含有选自具有酸性核的色素、具有碱性核的色素和荧光增白剂的至少1种作为增感剂，并且在对该感光层进行曝光、显像时，在该显像的前后不使该感光层曝光的部分的厚度发生变化的上述曝光中所使用的光的最小能量为0.1～20(mJ/cm2)。
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公开(公告)号：CN100478785C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200580013937.1
申请日：2005-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/027 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，所述图案形成方法由于抑制形成在图案形成材料上的图像的变形，可以高度精细和精确以及足够效率地形成永久图案如布线图案。为了达到上述目的，提供一种图案形成方法，该方法包括：调制由激光源辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在衬底上以形成图案形成材料，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，所述成像部分每个都能够接收激光束和输出调制的激光束，并且所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个所述微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN101218545A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680024481.3
申请日：2006-06-16
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/033 , G03F7/70275 , G03F7/70291
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，其在使用了具备将描绘单位二维地分布的曝光头的数字曝光装置的曝光中，可以在压缩成本的同时，通过将各描绘单位的光量均匀化，而高精度地形成微细的图案。为此，至少包括如下操作：对该感光层经由具有光分布修正机构的聚光光学系统照射从光照射机构中射出的光束而进行曝光，该光束被上述光调制机构调制，该曝光如下进行，即，使从上述光照射机构向上述光调制机构照射的光束的照射区域内的光量中具有分布，由上述光调制机构调制了的光束的光量分布被修正为在上述感光层的被曝光面上达到均匀化。
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公开(公告)号：CN101189557A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200680019820.9
申请日：2006-06-08
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70425 , H05K3/0082
Abstract: 本发明提供一种可以通过平均图案偏斜引起的曝光量不均的影响从而抑制成像于感光层上的像的变形，来高精细而且有效地形成永久图案的永久图案形成方法。所以，本发明提供一种永久图案形成方法，其中，使用感光性组合物，在基材的表面形成感光层，然后使用曝光头(其中，该曝光头为具备光照射机构以及光调制机构的曝光头且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ)，对于所述曝光头，利用使用描绘部指定机构，相对于对该感光层，指定用于N重曝光(其中，N为2以上的整数)的所述描绘部，利用描绘部控制机构，进行所述描绘部的控制，使得只有被指定的所述描绘部参与曝光，相对于所述感光层，使所述曝光头向扫描方向相对地移动，从而进行曝光、显影。
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