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公开(公告)号：CN100478785C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200580013937.1
申请日：2005-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/027 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，所述图案形成方法由于抑制形成在图案形成材料上的图像的变形，可以高度精细和精确以及足够效率地形成永久图案如布线图案。为了达到上述目的，提供一种图案形成方法，该方法包括：调制由激光源辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在衬底上以形成图案形成材料，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，所述成像部分每个都能够接收激光束和输出调制的激光束，并且所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个所述微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN1934502A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200580008958.4
申请日：2005-03-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以适当抑制在图案形成材料上的图像畸变，并且可以有效地形成具有高度精细和精确的图案比如布线图案。为了实现该目的，提供了根据本发明的图案形成方法，包括：调制由激光源所辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光在图案形成材料内的光敏层，其中所述图案形成材料包括载体和光敏层，所述光敏层包含阻聚剂、粘合剂、可聚合化合物和光聚合引发剂，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分能够接收激光束和输出调制的激光束，所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个微透镜都具有非球形表面。
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公开(公告)号：CN100540318C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200410071663.9
申请日：2004-07-21
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41J2/465 , G06K15/1252
Abstract: 本发明只使用沿着DMD(50)的扫描方向的768列的微镜中的192列，且将该192列分割成5个区域(区域1～5)，顺次从区域1向区域5传送控制信号，同时从传送结束了的区域开始顺次进行微镜的复位，从而能够在使具有排列有多列根据所输入的控制信号调制入射光的微镜的空间光调制器件的曝光头，沿着曝光面在扫描方向上相对移动而进行曝光的曝光装置中，缩短空间光调制器件的更新时间。
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公开(公告)号：CN100433254C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200580004597.6
申请日：2005-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/004 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7005 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70808
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以形成具有良好细度和高精确性以及具有因抑制在图案形成材料上所形成的图像变形而产生的充足效率的永久图案，比如布线图案。为了实现该目的，提供了包括如下的图案形成方法：调制从激光源辐发射的激光束，补偿调制的激光束，以及由调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在载体上以形成图案形成材料，所述调制是由包括多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分都能够接收激光束和输出调制的激光束，以及所述补偿是通过使调制的激光束经过多个微透镜传输进行的，每个微透镜都具有能够补偿因成像部分的输出表面变形所导致的像差的非球形表面，并且将所述多个微透镜排列成为微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN1997944A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200580020670.9
申请日：2005-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种图案形成方法，所述图案形成方法通过抑制成像于图案形成材料上的像的失真，可以高清晰地、有效地形成布线图案等永久图案，而且使遮盖性和分辨率高度并存。因此，提供一种图案形成方法，所述图案形成方法将至少具有感光层的图案形成材料中的该感光层层叠在被处理基体上后，通过相对于该感光层的任意两个以上的区域，照射能量各不相同的光，进行曝光，通过具有n个接受来自光照射装置的光并射出的描素部的光调制装置，使来自上述光照射装置的光调制后，通过排列好具有可以对由上述描素部中的射出面的变形引起的像差进行矫正的非球面的微透镜的微透镜阵列，进行上述曝光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1950753A
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200580013937.1
申请日：2005-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F7/027 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，所述图案形成方法由于抑制形成在图案形成材料上的图像的变形，可以高度精细和精确以及足够效率地形成永久图案如布线图案。为了达到上述目的，提供一种图案形成方法，该方法包括：调制由激光源辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在衬底上以形成图案形成材料，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，所述成像部分每个都能够接收激光束和输出调制的激光束，并且所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个所述微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN1977221A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200580021957.3
申请日：2005-05-31
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/20 , G02B5/20 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，可以高精细地形成微细图案，可以提高图案形成的生产性，并且可以用高析像度在感光性组合物中形成规定图案。为此，包括：使用含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂的感光性组合物，在基材的表面形成感光层的感光层形成工序；在至少利用具有n个(其中，n表示2以上的自然数)接受来自光照射机构的光并射出的描画部的光调制机构，将来自所述光照射机构的光调制后，利用穿过排列了具有可以修正由所述描画部的出射面的变形造成的像差的非球面的微透镜的微透镜阵列的光，或利用穿过排列了具有不使来自所述描画部的周边部的光射入的透镜开口形状的微透镜的微透镜阵列的光，在贫氧气氛下，将利用所述感光层形成工序形成的感光层曝光的曝光工序；将利用该曝光工序曝光了的感光层显影的显影工序。
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公开(公告)号：CN1918696A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200580004597.6
申请日：2005-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/004 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7005 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70808
Abstract: 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以形成具有良好细度和高精确性以及具有因抑制在图案形成材料上所形成的图像变形而产生的充足效率的永久图案，比如布线图案。为了实现该目的，提供了包括如下的图案形成方法：调制从激光源辐发射的激光束，补偿调制的激光束，以及由调制且补偿的激光束曝光光敏层，其中将所述光敏层安置在载体上以形成图案形成材料，所述调制是由包括多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分都能够接收激光束和输出调制的激光束，以及所述补偿是通过使调制的激光束经过多个微透镜传输进行的，每个微透镜都具有能够补偿因成像部分的输出表面变形所导致的像差的非球形表面，并且将所述多个微透镜排列成为微透镜阵列。
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公开(公告)号：CN1590110A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410071663.9
申请日：2004-07-21
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41J2/465 , G06K15/1252
Abstract: 本发明只使用沿着DMD(50)的扫描方向的768列的微镜中的192列，且将该192列分割成5个区域(区域1～5)，顺次从区域1向区域5传送控制信号，同时从传送结束了的区域开始顺次进行微镜的复位，从而能够在使具有排列有多列根据所输入的控制信号调制入射光的微镜的空间光调制器件的曝光头，沿着曝光面在扫描方向上相对移动而进行曝光的曝光装置中，缩短空间光调制器件的更新时间。
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公开(公告)号：CN1578377A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410071366.4
申请日：2004-07-20
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H04N1/0408 , H04N1/0402 , H04N1/0458 , H04N1/1008 , H04N1/19505
Abstract: 当曝光倍率具有小数点以下的数值时，在副扫描方向Y上相邻的像素彼此不排列在副扫描方向Y上，在扫描方向X上错开。例如，由微反射镜(62A)曝光的像素A和由微反射镜(62B)曝光的像素B只错开Z。而且，一个跳跃的像素A、C、E…排列在副扫描线L1上，一个跳跃的像素B、D、F…排列在副扫描线L2上。即一个跳跃的像素排列在副扫描方向Y上。副扫描线L1和L2的间距为1μm。因此，在扫描方向X上，能进行最小单位为1μm的图像形成。提供不用减慢扫描速度或提高描绘元件群的调制速度，就可以提高扫描方向的分辨率的描绘装置和描绘方法。
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