图形制造系统、曝光装置及曝光方法

    公开(公告)号:CN1580950A

    公开(公告)日:2005-02-16

    申请号:CN200410058860.7

    申请日:2004-08-02

    Abstract: 一种图形制造系统、曝光装置及曝光方法,利用由加工用图形数据(100)指定的图形线的线宽与曝光量,对涂覆于基板上的铜箔上的抗蚀剂进行直接描绘曝光,再对曝光过的抗蚀剂进行显影来形成抗蚀图形,然后,蚀刻形成有抗蚀图形的基板上的铜箔来形成图形。这时,扫描蚀刻后的形成图形得到图像信息(200),再对图像信息(200)的图形线的线宽与蚀刻后的目标的目标形成图形的图形线的线宽进行比较,根据该比较结果来调整由加工用图形数据(100)指定的图形线的线宽,再对使用调整过的线宽直接描绘抗蚀剂。因此,调整蚀刻液的劣化等的图形线的线宽的成品误差来形成图形而可得到精度高的成品。

    图像记录装置、图像记录方法及程序

    公开(公告)号:CN1578602A

    公开(公告)日:2005-02-09

    申请号:CN200410063421.5

    申请日:2004-07-01

    Abstract: 本发明提供一种图像记录装置、图像记录方法以及程序。由照相机(164)获取表示预先设置在PWB(150)上的多个定位孔(150A)的各个位置的位置信息,根据该位置信息,将PWB(150)中的布线图案图像的记录区域虚拟地分割成多个四边形区域,在每个分割区域中,为了将记录的布线图案图像与假定在PWB(150)上没有变形时所对应的分割区域上记录的图像进行匹配而变换表示该图像的光栅数据,根据变换后的光栅数据,由记录头(162)将该图像记录到PWB(150)上。由此,即使在记录介质变形成任意形状的情况下,也可以高精度地补正图像的记录位置偏移。

    绘图方法以及绘图装置

    公开(公告)号:CN100540318C

    公开(公告)日:2009-09-16

    申请号:CN200410071663.9

    申请日:2004-07-21

    CPC classification number: B41J2/465 G06K15/1252

    Abstract: 本发明只使用沿着DMD(50)的扫描方向的768列的微镜中的192列,且将该192列分割成5个区域(区域1~5),顺次从区域1向区域5传送控制信号,同时从传送结束了的区域开始顺次进行微镜的复位,从而能够在使具有排列有多列根据所输入的控制信号调制入射光的微镜的空间光调制器件的曝光头,沿着曝光面在扫描方向上相对移动而进行曝光的曝光装置中,缩短空间光调制器件的更新时间。

    图像记录方法及图像记录装置

    公开(公告)号:CN1578375A

    公开(公告)日:2005-02-09

    申请号:CN200410063212.0

    申请日:2004-06-30

    CPC classification number: B41J2/465

    Abstract: 本发明提供一种利用在与扫描方向交叉的方向排列多个记录元件单元而构成的记录头记录图像时,即使在各记录元件单元的光学倍率上产生误差,也不用机械的调整机构,就能修正图像记录位置的偏移的图像记录方法及装置。由于利用光量监视器(50)的计测,预先识别记录元件单元(166)的光学系统的物理上的机械误差、组装时的误差、环境温度或湿度的时效所引起的光学倍率的变动,根据该变位量,在扫描方向上修正图像记录开始定时,在与扫描方向正交的方向上变更分辨率,而维持标准倍率时的图像的位置,所以不具有旋转移动调整记录元件单元(166)的复杂调整机构,就可以消除相对感光材料(150)的图像记录位置偏移。

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