半导体元件和半导体装置
    28.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109994445B

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN201711470436.7

    申请日:2017-12-29

    Inventor: 鸟居克行

    Abstract: 本申请实施例提供一种半导体元件和半导体装置,该半导体元件的表面呈四边形,该半导体元件具有用于接收控制信号的栅极焊盘,其中,栅极焊盘的数量为至少两个,其中,至少两个所述栅极焊盘被分别设置在所述四边形的一边的两端部。根据本申请,在制造半导体装置时,不需要准备栅极焊盘位置不同的半导体元件,从而降低了制造半导体装置的复杂度。

    半导体装置
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105474399B

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201580001596.X

    申请日:2015-01-14

    Inventor: 鸟居克行

    Abstract: 具有:第1导电类型的集电区;第2导电类型的场截止区,其配置在集电区之上;第2导电类型的漂移区,其配置在场截止区之上,且杂质浓度低于场截止区;第1导电类型的基区,其配置在漂移区之上;第2导电类型的发射区,其配置在基区之上,场截止区的膜厚方向的杂质浓度梯度与集电区相邻的区域中大于与漂移区相邻的区域。

    半导体装置
    30.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104124271B

    公开(公告)日:2017-09-12

    申请号:CN201310154379.7

    申请日:2013-04-28

    Inventor: 鸟居克行

    Abstract: 本发明提供半导体装置,其具有:具有一个主面和另一个主面的半导体衬底;在上述半导体衬底内形成的p型集电区;在上述半导体衬底内配置于上述集电区上的n型漂移区;在上述半导体衬底内配置于上述漂移区上的p型基区;在上述半导体衬底内彼此离开而局部地配置于上述基区上而与上述基区构成pn结的n型发射区;以及从上述半导体衬底的一个主面贯穿上述发射区和上述基区的多个槽,上述基区与上述发射区双方在上述半导体衬底的一个主面交替地与上述槽延伸的侧壁面接触,该半导体装置具有孔,该孔在上述槽与上述槽之间离开上述槽并与上述槽延伸的方向平行地延伸,其深度为从上述半导体衬底的一个主面贯穿上述发射区的深度。

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