公开(公告)号：CN100455362C

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200510129487.4

申请日：2005-12-09

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 川越理史 ,  增市干雄 ,  高村幸宏 ,  吉田顺一

IPC: B05C5/00 ,  B05D3/00 ,  H05B33/10 ,  B05C9/14

Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其将有机EL材料或者空穴输送材料的处理液涂敷到基板(7)上。涂敷装置具有：装载基板(7)的载物台(4)；安装在载物台内并加热该载物台的加热器(41)；以将装载在载物台(4)的基板(7)加热到适于涂敷后的搬送的温度的方式控制加热器(41)的控制机构，对装载在载物台(4)的基板(7)喷洒处理液的喷嘴单元(2)。

公开(公告)号：CN100446177C

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200610164290.9

申请日：2006-12-08

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小田裕史 ,  川根旬平 ,  竹市芳邦 ,  山本悟史 ,  松本隆雄 ,  后藤正昭

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  B08B1/02 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，能够减轻进行清洗时给基板表面所带来的损伤，同时能够确保充分的清洗功能。该装置具有：长状的清洗刷(221)，其具有由多根刷毛构成的毛束；搬送辊，其在与清洗刷(221)延伸的方向交叉的方向上，相对清洗刷(221)搬送基板(B)；支撑机构，其使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的前端(50H)朝向搬送辊的基板(B)搬送方向下游侧，且使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的侧面部(50F)接触于该基板的上表面的状态，从而支撑清洗刷(221)；处理液供给喷嘴(231)，其对于由支撑机构所支撑的清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)供给处理液。

公开(公告)号：CN101312119A

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200810093530.X

申请日：2008-04-23

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 富藤幸雄 ,  尾崎一人

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/02

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够更正确地把握基板的处理状况。基板处理装置具有处理槽(10A～10C)，将基板(S)以倾斜姿势输送的同时，在各处理槽(10A～10C)内分别通过喷淋喷嘴(14)向基板(S)的表面供给冲洗液，同时实施清洗处理。在各处理槽(10A～10C)内部设置有在沿基板(S)的表面流下的冲洗液到达槽内的底部之前接受该清洗液而测定其pH值的第一pH值测定装置(16)，基于各pH值测定装置(16)的测定结果，通过控制器(40)控制各处理槽(10A～10C)中的冲洗液的供给量。

公开(公告)号：CN101295630A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200810094841.8

申请日：2008-04-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 仲野彰义 ,  迎垣孝一 ,  加护由一 ,  上野博之

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  B08B1/00

CPC classification number: B08B1/04 ,  H01L21/67046

Abstract: 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。

公开(公告)号：CN101276741A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200810087332.2

申请日：2008-03-21

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 町田英作

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  B65G49/05 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67276 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67745 ,  Y10T29/41

Abstract: 本发明提供一种能缩短装置全体的基板搬运所需时间的基板处理装置。分度器机械手(12)有两个搬运臂(13a、13b)，各保持一个未处理基板(W)并将两个未处理基板(W)从搬运器(C)同时运至基板交接部(50)。此外，分度器机械手(12)的两个搬运臂(13a、13b)各保持一个完成处理的基板(W)，从基板交接部(50)同时接受两个完成处理的基板(W)并将它们同时搬至搬运器(C)。通过在基板交接部(50)设置三个送出承载部(SPASS1～SPASS3)和返回承载部(RPASS1～RPASS3)，能使由分度器机械手(12)进行的两个同时搬运顺利地进行，能缩短基板处理装置(1)全体的基板搬运所需时间。

公开(公告)号：CN101271833A

公开(公告)日：2008-09-24

申请号：CN200810083372.X

申请日：2008-03-13

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 林豊秀

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306 ,  B08B3/04 ,  B08B3/10 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67023 ,  B08B3/048 ,  B08B3/08 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67253

Abstract: 一种基板处理装置，用处理液对基板进行处理，其包括：处理槽，用于贮存处理液；保持机构，在保持基板的状态下位于所述处理槽内的处理位置；第一处理液供给装置，用于将第一处理液供给至所述处理槽内；第二处理液供给装置，用于将表面张力比第一处理液小且沸点比第一处理液高的第二处理液供给至所述处理槽内；温度调节装置，用于将所述处理槽中的第二处理液的温度调节在第一处理液的沸点以上且第二处理液的沸点以下的温度范围；控制装置，对所述第二处理液供给装置进行控制，从而使从所述第一处理液供给装置供给并贮存于所述处理槽内的第一处理液置换为第二处理液，同时，对所述温度调节装置进行控制，由此将第二处理液维持在所述温度范围内。

公开(公告)号：CN101261935A

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200810085228.X

申请日：2008-03-10

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 盐见昭雄 ,  仁科吉广 ,  佐藤徹 ,  村元僚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  B65G49/06 ,  B65G49/05

Abstract: 一种基板处理装置，该基板处理装置包含：容置器保持部，对容置以水平姿态上下层叠的多张基板的容置器进行保持；基板处理部，对以垂直姿态在水平方向上层叠的多张基板一并实施处理；主搬送机构，在给定的基板交接位置和基板处理部之间对以垂直姿态在水平方向层叠的多张基板一并进行搬送；搬入搬出机构，将多张基板相对于容置器保持部所保持的容置器一并进行搬入搬出，并使该多张基板在水平姿态和垂直姿态之间一并进行姿态变换；副搬送机构，在给定的移动放置位置上与搬入搬出机构之间一并交接垂直姿态的多张基板，在基板交接位置上与主搬送机构之间一并交接垂直姿态的多张基板，在移动放置位置和基板交接位置之间一并搬送垂直姿态的多张基板。

公开(公告)号：CN101246812A

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN200810005675.X

申请日：2008-02-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 光吉一郎 ,  涩川润 ,  清川信治 ,  榑林知启

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B08B3/00 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333 ,  G11B7/26

Abstract: 本发明提供一种对基板进行处理的基板处理装置。该基板处理装置由互相并列而设置的分度器区、第一处理区以及第二处理区构成。在分度器区设置有分度器机械手。在第一处理区设置有多个背面清洗单元以及第一主机械手。在第二处理区设置有多个端面清洗单元、多个表面清洗单元以及第二主机械手。

公开(公告)号：CN100411419C

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200510072982.6

申请日：2005-05-16

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 浅井浩 ,  中野雅之 ,  竹本康弘

IPC: H04N1/405 ,  H04N1/40

Abstract: 本发明提供建立网点图像用的阈值矩阵产生方法、网点图像建立方法和装置与记录介质。为产生在为每个色成分建立网点图像中与原始图像做比较的阈值矩阵，在一个色成分的矩阵区域中，以预定密度几乎以随机方式均匀排列圆点中心，在另一色成分的矩阵区域中，以约0.7倍于预定密度的密度以随机方式几乎均匀排列圆点中心。然后将阈值设为，圆点应按照原始图像的灰度级增大在圆点中心周围增长，以产生每个色成分的阈值矩阵。在通过这些阈值矩阵建立网点图像中，这些色成分的网点图像的空间频率特征在频率空间可表示为共心环形的区域(75K，75C)。结果能够建立具较少纹理的多色网点图像，在它们的空间频率特征上无彼此接近的部分。

公开(公告)号：CN100411099C

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200510081090.2

申请日：2005-06-30

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 杉本宪司 ,  稻垣幸彦

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67178 ,  C03C17/002 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253

Abstract: 一种基板处理设备，用于对基板进行处理，包括：多个处理装置，其对多个基板进行相同的涂布处理；传送机构，用于将所述多个基板传送到所述多个处理装置中的相应各个处理装置；以及压力控制元件，其用于控制所述多个处理装置内的压力，以便接收了由所述传送机构传送的所述多个基板的所述多个处理装置提供基本相同的处理结果。还公开了一种用于在基板上进行涂布处理的基板处理方法，其包括下述步骤：步骤a：将多个基板传送到多个处理装置中的相应各个处理装置；步骤b：利用压力控制元件控制多个处理装置内的压力，以便在步骤a中接收了所述多个基板的多个处理装置提供基本相同的处理结果；以及步骤c：利用多个处理装置对多个基板进行涂布处理。