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公开(公告)号：CN101104780B
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200710085028.X
申请日：2007-02-28
Applicant: 日东电工株式会社 , 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种遮蔽胶带，其在将含有流动性材料的涂布液涂布在基板上形成薄膜时，能够防止遮蔽胶带周围的薄膜(涂膜)的涂布形状的不期望的扩展导致薄膜(涂膜)的不期望的厚度增大。本发明的基板用遮蔽胶带(10)的特征在于，具有基材(1)和在该基材(1)的一个面上形成的粘合层(3)，基材(1)的另一个面A上的水的接触角小于65°，且粘合层(3)的侧面B上的水的接触角小于100°。通过该遮蔽胶带(10)，在形成水分散性导电材料等流动性材料的薄膜(涂膜)时，能够抑制粘合层(3)的侧部上的弯月形表面的形成，以及抑制从基材(1)的另一个面A的流动性材料的脱落，从而能够以均匀的膜厚形成薄膜。
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公开(公告)号：CN101058481A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200710001928.1
申请日：2003-07-07
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明的装置可将含有有机EL材料的涂敷液，从喷嘴稳定地吐出至基板上。构成喷嘴(4a)的喷嘴本体(41)的内部空间(SP)具有作为使有机EL材料(10a)流通的流路的功能。在该流路上与作在喷嘴前端的小孔(45a)离开的内部位置上，安装着过滤器(43)。过滤器(43)的过滤精度为10微米，可以收集异物和凝胶化的溶解物等，阻止它们到达小孔(45a)。因此可以可靠地防止异物等堵塞小孔(45a)。
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公开(公告)号：CN101028617A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710084320.X
申请日：2007-02-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种涂布装置以及涂布方法，该涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上表面。喷嘴在载物台上的空间中从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构对包含喷嘴喷出涂布液的空间和涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间局部地供给规定气体，在规定的环境中进行涂布液的涂布。
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公开(公告)号：CN100336241C
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN03146547.1
申请日：2003-07-07
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明的装置可将含有有机EL材料的涂敷液，从喷嘴稳定地吐出至基板上。构成喷嘴(4a)的喷嘴本体(41)的内部空间(SP)具有作为使有机EL材料(10a)流通的流路的功能。在该流路上与作在喷嘴前端的小孔(45a)离开的内部位置上，安装着过滤器(43)。过滤器(43)的过滤精度为10微米，可以收集异物和凝胶化的溶解物等，阻止它们到达小孔(45a)。因此可以可靠地防止异物等堵塞小孔(45a)。
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公开(公告)号：CN1485145A
公开(公告)日：2004-03-31
申请号：CN03153921.1
申请日：2003-08-20
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以良好的精度将液体涂敷于涂敷区域的涂敷装置和涂敷方法。在使掩模(4)位于试涂位置的状态下，一边使喷嘴沿X方向作往复移动一边将有机EL材料朝向掩模(4)喷出，在掩模(4)的内周面上形成涂敷轨迹(CL)。接着，利用CCD照相机对该涂敷轨迹(CL)的光学像(Ic1)进行拍摄，将表示该涂敷轨迹(CL)的图像数据暂时地存储于控制部的存储器中。另外，在使掩模(4)位于涂敷位置的状态下，利用CCD照相机对基板(1)的槽(11)的光学像(I11)进行拍摄，将表示该槽(11)的图像数据暂时地存储控制部的存储器中。然后，根据这些图像数据，以涂敷轨迹(CL)与槽(11)相一致的方式，使基板(1)定位。然后，进行涂敷处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100455362C
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200510129487.4
申请日：2005-12-09
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其将有机EL材料或者空穴输送材料的处理液涂敷到基板(7)上。涂敷装置具有：装载基板(7)的载物台(4)；安装在载物台内并加热该载物台的加热器(41)；以将装载在载物台(4)的基板(7)加热到适于涂敷后的搬送的温度的方式控制加热器(41)的控制机构，对装载在载物台(4)的基板(7)喷洒处理液的喷嘴单元(2)。
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公开(公告)号：CN100406139C
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200510120262.2
申请日：2005-11-09
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂布装置，其具有喷嘴(521～523)、载物台(21)、喷嘴移动机构部(51)、及接液部(53)。喷嘴(521～523)将液柱状态的涂布液排出到基板上。载物台(21)将基板载置在其上面。喷嘴移动机构部(51)在载物台(21)上的空间，在横穿载物台面的方向使喷嘴(521～523)往复移动。接液部(53)在上面形成与上述横穿方向平行的狭缝状的开口，在喷嘴移动机构部(51)在从载物台(21)上偏离的位置使喷嘴(521～523)移动时，通过此开口回收排出的液柱状态的涂布液。
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公开(公告)号：CN1785533A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510129487.4
申请日：2005-12-09
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置，其将有机EL材料或者空穴输送材料的处理液涂敷到基板(7)上。涂敷装置具有：装载基板(7)的载物台(4)；安装在载物台内并加热该载物台的加热器(41)；以将装载在载物台(4)的基板(7)加热到适于涂敷后的搬送的温度的方式控制加热器(41)的控制机构，对装载在载物台(4)的基板(7)喷洒处理液的喷嘴单元(2)。
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公开(公告)号：CN101028617B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200710084320.X
申请日：2007-02-27
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种涂布装置以及涂布方法，该涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上表面。喷嘴在载物台上的空间中从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构对包含喷嘴喷出涂布液的空间和涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间局部地供给规定气体，在规定的环境中进行涂布液的涂布。
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公开(公告)号：CN101104780A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200710085028.X
申请日：2007-02-28
Applicant: 日东电工株式会社 , 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种遮蔽胶带，其在将含有流动性材料的涂布液涂布在基板上形成薄膜时，能够防止遮蔽胶带周围的薄膜(涂膜)的涂布形状的不期望的扩展导致薄膜(涂膜)的不期望的厚度增大。本发明的基板用遮蔽胶带(10)的特征在于，具有基材(1)和在该基材(1)的一个面上形成的粘合层(3)，基材(1)的另一个面A上的水的接触角小于65°，且粘合层(3)的侧面B上的水的接触角小于100°。通过该遮蔽胶带(10)，在形成水分散性导电材料等流动性材料的薄膜(涂膜)时，能够抑制粘合层(3)的侧部上的弯月形表面的形成，以及抑制从基材(1)的另一个面A的流动性材料的脱落，从而能够以均匀的膜厚形成薄膜。
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