涂布装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1796001A

    公开(公告)日:2006-07-05

    申请号:CN200510120262.2

    申请日:2005-11-09

    Abstract: 本发明提供一种涂布装置,其具有喷嘴(521~523)、载物台(21)、喷嘴移动机构部(51)、及接液部(53)。喷嘴(521~523)将液柱状态的涂布液排出到基板上。载物台(21)将基板载置在其上面。喷嘴移动机构部(51)在载物台(21)上的空间,在横穿载物台面的方向使喷嘴(521~523)往复移动。接液部(53)在上面形成与上述横穿方向平行的狭缝状的开口,在喷嘴移动机构部(51)在从载物台(21)上偏离的位置使喷嘴(521~523)移动时,通过此开口回收排出的液柱状态的涂布液。

    涂敷装置以及涂敷方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1970168B

    公开(公告)日:2012-08-29

    申请号:CN200610141450.8

    申请日:2006-09-29

    Inventor: 铃木聪

    Abstract: 一种涂敷装置,具有:涂敷头,其向基板(9)连续喷出有机EL液;头移动机构及基板移动机构,其让涂敷头相对于基板(9)在主扫描方向及副扫描方向上进行相对移动;控制部,其控制上述这些机构。在涂敷装置中,由控制部控制各机构,在基板(9)上的涂敷区域(91)涂敷有机EL液的同时,在副扫描方向上与涂敷头相对移动的基板(9)上的终端侧,在涂敷区域(91)外侧的非涂敷区域(92)涂敷有机EL,液。由此,可以在基板(9)的涂敷区域(91)中的有机EL液的涂敷的终端侧,对环境中的有机EL液的溶媒成分的浓度变高,有机EL液的干燥时间短于被涂敷在其他区域的有机EL液的干燥时间的情况进行抑制。

    涂敷装置以及涂敷方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1970168A

    公开(公告)日:2007-05-30

    申请号:CN200610141450.8

    申请日:2006-09-29

    Inventor: 铃木聪

    Abstract: 一种涂敷装置,具有:涂敷头,其向基板(9)连续喷出有机EL液;头移动机构及基板移动机构,其让涂敷头相对于基板(9)在主扫描方向及副扫描方向上进行相对移动;控制部,其控制上述这些机构。在涂敷装置中,由控制部控制各机构,在基板(9)上的涂敷区域(91)涂敷有机EL液的同时,在副扫描方向上与涂敷头相对移动的基板(9)上的终端侧,在涂敷区域(91)外侧的非涂敷区域(92)涂敷有机EL液。由此,可以在基板(9)的涂敷区域(91)中的有机EL液的涂敷的终端侧,对环境中的有机EL液的溶媒成分的浓度变高,有机EL液的干燥时间短于被涂敷在其他区域的有机EL液的干燥时间的情况进行抑制。

    基板的蚀刻处理方法及蚀刻处理装置

    公开(公告)号:CN100405559C

    公开(公告)日:2008-07-23

    申请号:CN200410047378.3

    申请日:2004-06-03

    Abstract: 本发明提供一种为了适应于基板的大型化,但不必将处理槽与之相应地大型化,也不会产生如浸渍处理时那样的蚀刻不良的装置。装置的构成包括:第一处理槽(14);配置在第一处理槽(14)内、支承并搬运基板(W)的搬运辊(20);配置在基板搬运路径的上方、向基板(W)的表面上喷出蚀刻液的喷射喷嘴(22);与第一处理槽连接设置的第二处理槽(28);配置在第二处理槽(28)内、支承并搬运基板(W)的搬运辊(30);向从第一处理槽(14)内被搬出、并被搬入到第二处理槽(28)内的基板(W)的表面供应蚀刻液、在基板(W)的整个表面上装满蚀刻液的排出喷嘴(32)。

    基板的蚀刻处理方法及蚀刻处理装置

    公开(公告)号:CN1574251A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410047378.3

    申请日:2004-06-03

    Abstract: 本发明提供一种为了适应于基板的大型化,但不必将处理槽与之相应地大型化,也不会产生如浸渍处理时那样的蚀刻不良的装置。装置的构成包括:第一处理槽14;配置在第一处理槽14内、支承并搬运基板W的搬运辊20;配置在基板搬运路径的上方、向基板W的表面上喷出蚀刻液的喷射喷嘴22;与第一处理槽连接设置的第二处理槽28;配置在第二处理槽28内、支承并搬运基板W的搬运辊30;向从第一处理槽14内被搬出、并被搬入到第二处理槽28内的基板W的表面供应蚀刻液、在基板W的整个表面上装满蚀刻液的排出喷嘴32。

    涂布装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100406139C

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200510120262.2

    申请日:2005-11-09

    Abstract: 本发明提供一种涂布装置,其具有喷嘴(521~523)、载物台(21)、喷嘴移动机构部(51)、及接液部(53)。喷嘴(521~523)将液柱状态的涂布液排出到基板上。载物台(21)将基板载置在其上面。喷嘴移动机构部(51)在载物台(21)上的空间,在横穿载物台面的方向使喷嘴(521~523)往复移动。接液部(53)在上面形成与上述横穿方向平行的狭缝状的开口,在喷嘴移动机构部(51)在从载物台(21)上偏离的位置使喷嘴(521~523)移动时,通过此开口回收排出的液柱状态的涂布液。

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