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公开(公告)号：CN101312119A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200810093530.X
申请日：2008-04-23
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够更正确地把握基板的处理状况。基板处理装置具有处理槽(10A～10C)，将基板(S)以倾斜姿势输送的同时，在各处理槽(10A～10C)内分别通过喷淋喷嘴(14)向基板(S)的表面供给冲洗液，同时实施清洗处理。在各处理槽(10A～10C)内部设置有在沿基板(S)的表面流下的冲洗液到达槽内的底部之前接受该清洗液而测定其pH值的第一pH值测定装置(16)，基于各pH值测定装置(16)的测定结果，通过控制器(40)控制各处理槽(10A～10C)中的冲洗液的供给量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101303968A
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200810091639.X
申请日：2008-04-11
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，其防止附着在喷嘴部件上的处理液滴落到基板上。基板处理装置(1)具有：向输送中基板(S)的上表面从输送方向的上游侧向下游侧沿倾斜方向喷出冲洗液的液刀(16)和具备向该液刀(16)喷射空气的空气喷嘴(32)的气体喷射装置。而且，该基板处理装置(1)以如下方式构成，即，基于控制器(40)的控制，在液刀(16)的下方不存在基板(S)时，从上述空气喷嘴(32)向液刀(16)喷射空气。
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公开(公告)号：CN100405559C
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200410047378.3
申请日：2004-06-03
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/3213 , H01L21/306 , C23F1/00
Abstract: 本发明提供一种为了适应于基板的大型化，但不必将处理槽与之相应地大型化，也不会产生如浸渍处理时那样的蚀刻不良的装置。装置的构成包括：第一处理槽(14)；配置在第一处理槽(14)内、支承并搬运基板(W)的搬运辊(20)；配置在基板搬运路径的上方、向基板(W)的表面上喷出蚀刻液的喷射喷嘴(22)；与第一处理槽连接设置的第二处理槽(28)；配置在第二处理槽(28)内、支承并搬运基板(W)的搬运辊(30)；向从第一处理槽(14)内被搬出、并被搬入到第二处理槽(28)内的基板(W)的表面供应蚀刻液、在基板(W)的整个表面上装满蚀刻液的排出喷嘴(32)。
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公开(公告)号：CN1574251A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410047378.3
申请日：2004-06-03
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/3213 , H01L21/306 , C23F1/00
Abstract: 本发明提供一种为了适应于基板的大型化，但不必将处理槽与之相应地大型化，也不会产生如浸渍处理时那样的蚀刻不良的装置。装置的构成包括：第一处理槽14；配置在第一处理槽14内、支承并搬运基板W的搬运辊20；配置在基板搬运路径的上方、向基板W的表面上喷出蚀刻液的喷射喷嘴22；与第一处理槽连接设置的第二处理槽28；配置在第二处理槽28内、支承并搬运基板W的搬运辊30；向从第一处理槽14内被搬出、并被搬入到第二处理槽28内的基板W的表面供应蚀刻液、在基板W的整个表面上装满蚀刻液的排出喷嘴32。
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公开(公告)号：CN101303968B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200810091639.X
申请日：2008-04-11
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 一种基板处理装置，其防止附着在喷嘴部件上的处理液滴落到基板上。基板处理装置(1)具有：向输送中基板(S)的上表面从输送方向的上游侧向下游侧沿倾斜方向喷出冲洗液的液刀(16)和具备向该液刀(16)喷射空气的空气喷嘴(32)的气体喷射装置。而且，该基板处理装置(1)以如下方式构成，即，基于控制器(40)的控制，在液刀(16)的下方不存在基板(S)时，从上述空气喷嘴(32)向液刀(16)喷射空气。
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公开(公告)号：CN201044235Y
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200720139676.4
申请日：2007-03-30
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 富藤幸雄
Abstract: 一种基板处理装置，通过至少两次呈帘状供给处理液，从而能够显著降低处理液帘在基板表面供给不均匀的产生概率，且通过增大处理液的供给量而提高处理液的置换性能。该基板处理装置在处理腔室(12)内对在搬送路径上搬送的基板(B)进行处理，该基板处理装置具有配置在搬送路径上方位置的入口喷嘴部(20)。入口喷嘴部(20)一体具有由第一、第二构件(20A、20B)构成的第一喷嘴部、以及由第二、第三构件(20B、20C)构成的第二喷嘴部。第一、第二喷嘴部的喷出口(2012a、2022a)分别在基板的宽度方向上呈帘状喷出处理液。
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