公开(公告)号：CN101252078A

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：CN200810001968.0

申请日：2008-01-04

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 尾崎一人

IPC: H01L21/00 ,  G02F1/1368 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够减少压送处理液用泵的故障以及设置在循环路径上的过滤器的筛眼堵塞，并能够防止薄膜再次附着在基板上。将从喷淋喷嘴(11、12)供给到基板(W)上并对处理膜进行溶解从而含有薄膜的处理液回收之后，将此处理液输送到离心分离机(41)。在离心分离机(41)，将薄膜分离并排出到处理液外。将分离出薄膜后的处理液从喷淋喷嘴(11、12)再次供给到基板上。

公开(公告)号：CN101312119A

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200810093530.X

申请日：2008-04-23

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 富藤幸雄 ,  尾崎一人

IPC: H01L21/00 ,  B08B3/02

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能够更正确地把握基板的处理状况。基板处理装置具有处理槽(10A～10C)，将基板(S)以倾斜姿势输送的同时，在各处理槽(10A～10C)内分别通过喷淋喷嘴(14)向基板(S)的表面供给冲洗液，同时实施清洗处理。在各处理槽(10A～10C)内部设置有在沿基板(S)的表面流下的冲洗液到达槽内的底部之前接受该清洗液而测定其pH值的第一pH值测定装置(16)，基于各pH值测定装置(16)的测定结果，通过控制器(40)控制各处理槽(10A～10C)中的冲洗液的供给量。

公开(公告)号：CN100592469C

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200810001968.0

申请日：2008-01-04

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 尾崎一人

IPC: H01L21/00 ,  G02F1/1368 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够减少压送处理液用泵的故障以及设置在循环路径上的过滤器的筛眼堵塞，并能够防止薄膜再次附着在基板上。将从喷淋喷嘴(11、12)供给到基板(W)上并对处理膜进行溶解从而含有薄膜的处理液回收之后，将此处理液输送到离心分离机(41)。在离心分离机(41)，将薄膜分离并排出到处理液外。将分离出薄膜后的处理液从喷淋喷嘴(11、12)再次供给到基板上。