公开(公告)号：CN100446177C

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200610164290.9

申请日：2006-12-08

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小田裕史 ,  川根旬平 ,  竹市芳邦 ,  山本悟史 ,  松本隆雄 ,  后藤正昭

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  B08B1/02 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，能够减轻进行清洗时给基板表面所带来的损伤，同时能够确保充分的清洗功能。该装置具有：长状的清洗刷(221)，其具有由多根刷毛构成的毛束；搬送辊，其在与清洗刷(221)延伸的方向交叉的方向上，相对清洗刷(221)搬送基板(B)；支撑机构，其使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的前端(50H)朝向搬送辊的基板(B)搬送方向下游侧，且使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的侧面部(50F)接触于该基板的上表面的状态，从而支撑清洗刷(221)；处理液供给喷嘴(231)，其对于由支撑机构所支撑的清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)供给处理液。

公开(公告)号：CN1812071A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200610051362.9

申请日：2006-01-05

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小田裕史 ,  川根旬平

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/00 ,  B08B3/02 ,  B65G49/06

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，用于减少设置所必需的占地面积，可以用简单的结构以倾斜姿态搬送基板，降低设备成本。搬送方向转换部(40)转换搬送方向，通过该倾斜搬送部(49)，在大致维持通过第一搬送路(41)的梯度而处于倾斜姿态的状态不变的条件下，将在第一处理部(20)实施处理后的基板搬送到第二搬送路(43)。液体供给部向由此倾斜搬送部(49)搬送的基板(B)的主面供给处理液。在第二搬送路(43)以及第二处理部(30)，使由倾斜搬送部(49)保持为倾斜姿态的基板，以原姿态在与第一处理部20相反方向上进行搬送和处理。

公开(公告)号：CN1812071B

公开(公告)日：2011-08-03

申请号：CN200610051362.9

申请日：2006-01-05

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小田裕史 ,  川根旬平

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/00 ,  B08B3/02 ,  B65G49/06

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，用于减少设置所必需的占地面积，可以用简单的结构以倾斜姿态搬送基板，降低设备成本。搬送方向转换部(40)转换搬送方向，通过该倾斜搬送部(49)，在大致维持通过第一搬送路(41)的梯度而处于倾斜姿态的状态不变的条件下，将在第一处理部(20)实施处理后的基板搬送到第二搬送路(43)。液体供给部向由此倾斜搬送部(49)搬送的基板(B)的主面供给处理液。在第二搬送路(43)以及第二处理部(30)，使由倾斜搬送部(49)保持为倾斜姿态的基板，以原姿态在与第一处理部20相反方向上进行搬送和处理。

公开(公告)号：CN1810389B

公开(公告)日：2010-07-28

申请号：CN200610006315.2

申请日：2006-01-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 川根旬平 ,  竹市芳邦

IPC: B08B7/00 ,  B08B3/04 ,  F25C1/00 ,  G02F1/13 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，其在使用含有冰微粒子的处理液进行基板的处理时，可以不产生处理不均而进行均匀的处理，不损伤形成在基板上的被膜。此装置具有存积含有冰微粒子的处理液的清洗槽(10)，向清洗槽(10)内供给含有冰微粒子的处理液并使其在清洗槽内流动然后从清洗槽内排出的单元，以及将基板(W)向清洗槽(10)内搬入并在清洗槽内搬送然后从清洗槽内搬出的单元，在清洗槽(10)内让含有冰微粒子的处理液相对基板(W)进行相对流动，同时使其与基板的主面接触。

公开(公告)号：CN101154566A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200710161614.8

申请日：2007-09-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 川根旬平 ,  盐田明仁 ,  铃木聪 ,  山本悟史

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  B08B7/04

Abstract: 本发明提供一种使用包含微泡或纳米微泡的处理液的基板处理装置和基板处理方法，能使微泡或纳米微泡对基板有效地发挥作用。微泡清洗处理部(40)通过对注入到被压送的清洗液中的氮气的流量进行调节，能够调节清洗液中所包含的微泡的尺寸。因而，能够对应于成为除去对象的微粒的尺寸，大量地供应尺寸最佳的微泡，能够使微泡对基板有效地发挥作用。

公开(公告)号：CN1983516A

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：CN200610164290.9

申请日：2006-12-08

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小田裕史 ,  川根旬平 ,  竹市芳邦 ,  山本悟史 ,  松本隆雄 ,  后藤正昭

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  B08B1/02 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，能够减轻进行清洗时给基板表面所带来的损伤，同时能够确保充分的清洗功能。该装置具有：长状的清洗刷(221)，其具有由多根刷毛构成的毛束；搬送辊，其在与清洗刷(221)延伸的方向交叉的方向上，相对清洗刷(221)搬送基板(B)；支撑机构，其使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的前端(50H)朝向搬送辊的基板(B)搬送方向下游侧，且使清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)的侧面部(50F)接触于该基板的上表面的状态，从而支撑清洗刷(221)；处理液供给喷嘴(231)，其对于由支撑机构所支撑的清洗刷(221)的清洗刷毛束(50)供给处理液。

公开(公告)号：CN1810389A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200610006315.2

申请日：2006-01-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 川根旬平 ,  竹市芳邦

IPC: B08B7/00 ,  B08B3/04 ,  F25C1/00 ,  G02F1/13 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，其在使用含有冰微粒子的处理液进行基板的处理时，可以不产生处理不均而进行均匀的处理，不损伤形成在基板上的被膜。此装置具有存积含有冰微粒子的处理液的清洗槽(10)，向清洗槽(10)内供给含有冰微粒子的处理液并使其在清洗槽内流动然后从清洗槽内排出的单元，以及将基板(W)向清洗槽(10)内搬入并在清洗槽内搬送然后从清洗槽内搬出的单元，在清洗槽(10)内让含有冰微粒子的处理液相对基板(W)进行相对流动，同时使其与基板的主面接触。