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公开(公告)号：CN101045232B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200710093622.3
申请日：2007-03-30
Applicant: 大日本网目版制造株式会社 , 索尼株式会社
IPC: B08B1/00 , B08B1/04 , B08B7/04 , B08B3/04 , H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/306 , H01L21/67 , H01L21/304 , G11B7/26
Abstract: 一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料形成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，而使所述清洗面与保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在所述垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。
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公开(公告)号：CN101045231B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200710091931.7
申请日：2007-03-30
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: B08B1/00 , B08B1/04 , B08B7/04 , B08B3/04 , H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/67 , G11B7/26 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。本发明的基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料而形成为向着垂线方向的一侧而前端变细的形状，且具有相对所述垂线方向而倾斜的清洗面，其中，所述垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板而进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构，而将所述清洗面按压于保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面上。
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公开(公告)号：CN101045232A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200710093622.3
申请日：2007-03-30
Applicant: 大日本网目版制造株式会社 , 索尼株式会社
IPC: B08B1/00 , B08B1/04 , B08B7/04 , B08B3/04 , H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/306 , H01L21/67 , H01L21/304 , G11B7/26
Abstract: 一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；第一清洗刷，其采用能够弹性变形的材料形成，并具有相对于垂线方向倾斜的清洗面，其中，该垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；第一清洗刷移动机构，其使所述第一清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板进行移动；控制部，其用于控制该第一清洗刷移动机构，而使所述清洗面与保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面相抵接；第一按压保持机构，其将所述第一清洗刷对基板的所述一侧表面的周边区域在所述垂线方向上的按压力保持为预先设定的按压力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101045231A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200710091931.7
申请日：2007-03-30
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: B08B1/00 , B08B1/04 , B08B7/04 , B08B3/04 , H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/67 , G11B7/26 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。本发明的基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料而形成为向着垂线方向的一侧而前端变细的形状，且具有相对所述垂线方向而倾斜的清洗面，其中，所述垂线方向是与保持在所述基板保持机构上的基板的一侧表面垂直的方向；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于保持在所述基板保持机构上的基板而进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构，而将所述清洗面按压于保持在所述基板保持机构上的基板的所述一侧表面的周边区域以及外周端面上。
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公开(公告)号：CN101045230B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200710091930.2
申请日：2007-03-30
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: B08B1/00 , B08B1/04 , B08B7/04 , B08B3/04 , H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/67 , G11B7/26 , H01L21/304
CPC classification number: B08B1/04 , H01L21/02087 , H01L21/67046
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料制成，且具有清洗面，该清洗面与沿着所述基板保持机构上保持的基板的一侧表面的平行方向相交叉；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于所述基板保持机构上保持的基板进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构以使所述清洗面与所述基板保持机构上保持的基板的外周端面相抵接；按压保持机构，其将所述清洗刷对基板的外周端面在所述平行方向上的按压力保持为预先设定的按压力。
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公开(公告)号：CN101295630B
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200810094841.8
申请日：2008-04-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B1/00
CPC classification number: B08B1/04 , H01L21/67046
Abstract: 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。
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公开(公告)号：CN101295630A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200810094841.8
申请日：2008-04-28
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B1/00
CPC classification number: B08B1/04 , H01L21/67046
Abstract: 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。
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公开(公告)号：CN101045230A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200710091930.2
申请日：2007-03-30
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: B08B1/00 , B08B1/04 , B08B7/04 , B08B3/04 , H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/67 , G11B7/26 , H01L21/304
CPC classification number: B08B1/04 , H01L21/02087 , H01L21/67046
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，该基板处理装置包括：基板保持机构，其对基板进行保持；清洗刷，其采用能够弹性变形的材料制成，且具有清洗面，该清洗面与沿着所述基板保持机构上保持的基板的一侧表面的平行方向相交叉；清洗刷移动机构，其使所述清洗刷相对于所述基板保持机构上保持的基板进行移动；控制单元，其用于控制该清洗刷移动机构以使所述清洗面与所述基板保持机构上保持的基板的外周端面相抵接；按压保持机构，其将所述清洗刷对基板的外周端面在所述平行方向上的按压力保持为预先设定的按压力。
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