公开(公告)号：CN104275642B

公开(公告)日：2018-08-07

申请号：CN201410330519.6

申请日：2014-07-11

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小林洋一 ,  渡边和英 ,  盐川阳一 ,  八木圭太 ,  木下将毅

IPC: B24B37/04 ,  B24B49/12 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/013 ,  G01B11/0625 ,  G01B11/0683 ,  G01B11/0691

Abstract: 种研磨装置,具有:对处于静止状态的基板的膜厚进行测量的在线型膜厚测量器(80);以及具有配置在研磨台(30A)内的膜厚传感器(40)的原位分光式膜厚监视器(39)。原位分光式膜厚监视器(39),从研磨基板前由在线型膜厚测量器(80)取得的初期膜厚中,减去研磨基板前由原位分光式膜厚监视器(39)取得的初期膜厚,由此确定补正值,对研磨基板中取得的膜厚加上补正值,由此取得监视膜厚,基于监视膜厚而监视基板的研磨进度。采用本发明,研磨装置能实现高精度的精加工性能。

公开(公告)号：CN103962941B

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201410039682.7

申请日：2014-01-27

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石井游 ,  伊藤贤也 ,  中西正行 ,  户川哲二

IPC: B24B37/10

CPC classification number: B24B7/228 ,  B24B21/004 ,  B24B21/06 ,  B24B37/04 ,  B24B37/042 ,  B24B37/30

Abstract: 一种研磨方法，用基板保持部(17、42)对基板(W)进行保持，一边使基板(W)旋转，一边使研磨件(22、44)与基板(W)的整个背面滑动接触，由此研磨整个背面。背面研磨工序包括：一边用基板保持部(17)对基板(W)的中心侧区域进行保持，一边对背面的外周侧区域进行研磨；一边用第2基板保持部(42)对基板(W)的伞形部进行保持，一边对背面的中心侧区域进行研磨。采用本发明，能以较高的去除率去除附着在晶片等基板整个背面上的杂质。

公开(公告)号：CN105658311B

公开(公告)日：2018-07-10

申请号：CN201480057705.5

申请日：2014-10-22

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 高桥圭瑞

IPC: B01D61/06 ,  B01D61/02 ,  B01D61/12 ,  C02F1/44

CPC classification number: B01D61/06 ,  B01D61/025 ,  B01D61/10 ,  B01D61/12 ,  B01D2313/18 ,  B01D2313/19 ,  B01D2313/246 ,  C02F1/008 ,  C02F1/441 ,  C02F2103/08 ,  C02F2201/005 ,  C02F2209/40 ,  C02F2303/10 ,  Y02A20/131 ,  Y02W10/30

Abstract: 本发明涉及适合用于能量回收装置的给排水控制，该能量回收装置设置于从海水去除盐分来将海水淡化的海水淡化系统。通过从反渗透膜装置排出的浓缩海水的压力将海水升压的压力转换腔室(6)具备：第一给排水端口(7)，其与液体供给的切换阀(5)连接而进行给排水；第二给排水端口(9)，其与液体供给的方向切换阀(8)连接而进行给排水；液流阻力器(14)，其设置于腔室(6)的内部，在第一给排水端口侧对液流进行整流；液流阻力器(15)，其设置于腔室(6)的内部，在第二给排水端口侧对液流进行整流；流量计(16)，其设置于两个液流阻力器(14、15)之间，测量腔室(6)内的流体的流量。

公开(公告)号：CN104632599B

公开(公告)日：2018-05-04

申请号：CN201410645097.1

申请日：2014-11-12

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 岩崎弘一

IPC: F04B49/06

Abstract: 本发明提供一种能够减少由错误的发生导致的运转停止的频率的真空泵及其运转方法。真空泵具有：对气体进行排气的泵组件(1)；驱动泵组件(1)的马达(2)；向马达(2)提供频率可变的交流电的逆变器装置(5)；和控制逆变器装置(5)的控制装置(7)。在发生了由过电压或过电流导致的错误的情况下，逆变器装置(5)停止自身的运转，如果错误的发生满足规定的条件，则控制装置(7)使逆变器装置(5)重启。

公开(公告)号：CN107949704A

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201680051415.9

申请日：2016-10-24

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 山田荣佐雄 ,  织田健太郎 ,  山川贵士

IPC: F04D29/22 ,  B23K9/02 ,  B23K9/16 ,  F04D29/28

CPC classification number: B23K9/02 ,  B23K9/0026 ,  B23K9/038 ,  B23K9/16 ,  B23K2101/001 ,  F01D5/04 ,  F04D29/023 ,  F04D29/026 ,  F04D29/22 ,  F04D29/28 ,  F04D29/62 ,  F05D2230/10 ,  F05D2230/232 ,  F05D2230/40 ,  F05D2240/24

Abstract: 一种叶轮的制造方法，其具有如下工序：形成设置有多个叶片的侧板或者主板的工序；以在叶片和叶片之间夹入型芯的方式将该型芯配置在侧板或者主板之上的工序；将形成有与叶片的形状匹配的槽的主板或者侧板配置在叶片之上的工序；以及将主板或者侧板与叶片焊接在一起的工序。

公开(公告)号：CN107877356A

公开(公告)日：2018-04-06

申请号：CN201710908822.3

申请日：2017-09-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 篠崎弘行 ,  铃木佑多 ,  高桥太郎 ,  胜冈诚司 ,  畠山雅规

IPC: B24B37/10 ,  B24B37/04 ,  B24B37/32 ,  B24B37/34 ,  B24B37/005 ,  B24B37/013 ,  B24B49/12 ,  B24B49/10 ,  B24B53/017

CPC classification number: B24B37/013 ,  B24B37/10 ,  B24B37/32 ,  B24B37/105 ,  B24B37/005 ,  B24B37/042 ,  B24B37/34 ,  B24B37/345 ,  B24B49/10 ,  B24B49/105 ,  B24B49/12 ,  B24B53/017

Abstract: 在将顶环保持于摇臂的端部的方式中，使研磨终点检测的精度提高。一种用于在研磨垫(10)与半导体晶片(16)之间进行研磨的研磨装置，其中，半导体晶片(16)与研磨垫(10)相对地配置，该研磨装置具有：用于保持研磨垫(10)的研磨台(30A)；以及用于保持半导体晶片(16)的顶环(31A)。摆动轴电动机(14)使用于保持顶环(31A)的摇臂(110)摆动。臂力矩检测部(26)对施加于摇臂(110)的臂力矩进行检测。终点检测部(28)基于检测出的臂力矩对表示研磨的结束的研磨终点进行检测。

公开(公告)号：CN107868975A

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201710763259.5

申请日：2017-08-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 谷泽昭寻 ,  小林贤一 ,  宫泽康之 ,  相马刚

IPC: C25D17/00 ,  C25D17/06 ,  C25D7/12

CPC classification number: C25D17/06 ,  C25D17/00 ,  C25D17/001 ,  C25D7/12

Abstract: 提供一种镀覆装置，能够一边继续运转，一边进行基板保持架的维护。镀覆装置包括：处理部(170C)，对基板W进行镀覆；保管容器(20)，对用于保持基板W的基板保持架(11)进行保管；搬运机(140)，在处理部(170C)与保管容器(20)之间搬运基板保持架(11)；维护区域(21)，与保管容器(20)邻接；以及基板保持架载体(25)，支承于保管容器(20)。基板保持架载体(25)构成为：能够以支承有基板保持架(11)的状态而在保管容器(20)与维护区域(21)之间移动。

公开(公告)号：CN107851570A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680043042.0

申请日：2016-07-06

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 小畠严贵 ,  八木圭太 ,  盐川阳一

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/26

Abstract: 本发明提供一种方法，是在处理液存在下，使基板与催化剂接触来处理基板。该方法具有：在用于高速处理基板的指定处理条件下对基板进行处理的步骤；及在同一基板的处理中，变更处理条件以低速处理基板的步骤。根据该方法，在基板处理程序途中，即使程序要求不同仍可进行最佳处理。

公开(公告)号：CN107850220A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680040339.1

申请日：2016-05-02

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 渡边裕辅

IPC: F16J15/44 ,  F04D29/16

Abstract: 提供降低在为了增大泵效应而增大了导程角时所伴生的泄漏量的非接触环状密封件以及具备其的旋转机械。非接触环状密封件用于对在旋转体与固定体的间隙从高压侧流向低压侧的流体进行密封，并具有设置于形成间隙的旋转体的表面或固定体的表面的螺纹槽。螺纹槽具有低压侧的螺纹槽的截面积比高压侧的螺纹槽的截面积小的区域。所述螺纹槽的条数为4条以上。旋转机械具有该非接触环状密封件。

公开(公告)号：CN107829981A

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201710840820.5

申请日：2017-09-15

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 平田和也

IPC: F04D29/40 ,  F04D29/66

CPC classification number: F04D29/406 ,  F04D29/669

Abstract: 本发明提供一种先行待机运转泵，能够增加从额定流量向气闭转变的部分流量域中的吸气量。先行待机运转泵具有叶轮和收容叶轮的壳体。在比叶轮靠主流方向上游侧的上述壳体内表面上设有凸部。在凸部的顶点附近形成有吸气口。凸部在主流方向上游侧及主流方向下游侧分别具有引导面，该引导面随着从吸气口端部远离而从壳体内表面突出的突出量逐渐减少。