公开(公告)号：CN119452461A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202380052821.7

申请日：2023-06-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 路易莎·博萨诺 ,  保拉·德·塞科 ,  贝克勒·沃尔库 ,  拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  郝瑞英

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  H01L21/67 ,  G01B11/06 ,  G01N21/21 ,  G01N21/25

Abstract: 本文所公开的实施方式包括优化光刻胶层的沉积后烘烤的方法。在一个实施方式中，该方法包括在基板上沉积光刻胶层，烘烤光刻胶层，以及用光学工具测量光刻胶层的特性。

公开(公告)号：CN117120664A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202280021616.X

申请日：2022-02-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ,  马克·沙丽 ,  拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  托马斯·奈斯利

IPC: C23C16/455

Abstract: 公开利用还原剂来形成具有金属卤化物的金属膜的方法。还原剂，还原剂包括含有杂环化合物的IV族元素、自由基引发剂、烷基铝烷、二硼烯物种和/或Sn(II)化合物。

公开(公告)号：CN116569106A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202180083598.3

申请日：2021-12-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  马克·约瑟夫·萨利 ,  郝瑞英 ,  韦恩·弗兰奇 ,  凯尔文·陈

IPC: G03F7/004

Abstract: 本文公开的实施方式包括在基板上形成金属氧基光刻胶的方法。在一个实施方式中，此方法包括重复沉积循环，其中沉积循环的每次重复包括：a)将金属前驱物流入包括基板的腔室；和b)将氧化剂流入腔室，其中氧化剂与金属前驱物反应以形成金属氧基光刻胶。

公开(公告)号：CN113957415A

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN202110824340.6

申请日：2021-07-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  马克·约瑟夫·萨利 ,  巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ,  托马斯·约瑟夫·奈斯利 ,  凯尔文·陈 ,  瑞加娜·杰曼尼·弗雷德 ,  戴维·迈克尔·汤普森 ,  苏米特·辛格·罗伊 ,  马杜尔·萨尚

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50 ,  B05D1/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本文公开的实施方式包括使用干法沉积工艺沉积金属氧光刻胶的方法。在一个实施方式中，所述方法包括：用包括第一金属前驱物蒸气和第一氧化剂蒸气的第一气相工艺在所述基板上形成第一金属氧膜；和用包括第二金属前驱物蒸气和第二氧化剂蒸气的第二气相工艺在所述第一金属氧膜之上形成第二金属氧膜。

公开(公告)号：CN110892507A

公开(公告)日：2020-03-17

申请号：CN201880046778.2

申请日：2018-07-12

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  马克·沙丽 ,  托马斯·奈斯利 ,  本杰明·施密格 ,  大卫·汤普森

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 兹描述用于经由原子层沉积工艺来沉积含钇膜的方法。本公开内容的某些实施方式利用等离子体增强的原子层沉积工艺。亦描述用于执行含钇膜的原子层沉积的设备。

公开(公告)号：CN117418211A

公开(公告)日：2024-01-19

申请号：CN202311221569.6

申请日：2018-07-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ,  马克·沙丽 ,  拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  托马斯·卡尼斯利

IPC: C23C16/02 ,  C23C16/34 ,  C23C16/455

Abstract: 描述增强选择性沉积的数种方法。一些实施方式中，在沉积介电质之前，将阻挡层沉积于金属表面上。一些实施方式中，金属表面经过官能化而增强或降低其反应性。

公开(公告)号：CN117111418A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202310943316.3

申请日：2021-06-22

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  马克·约瑟夫·萨利 ,  巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ,  马杜尔·萨尚 ,  瑞加娜·弗雷德

IPC: G03F7/36

Abstract: 本文披露的实施方式包括显影金属氧代光刻胶的方法。在一实施方式中，所述方法包括将具有金属氧代光刻胶的基板提供到真空腔室中，其中所述金属氧代光刻胶包括多个暴露区域和多个未暴露区域。在一实施方式中，所述未暴露区域包括比所述暴露区域更高的碳浓度。所述方法可进一步包括将卤化剂汽化至所述真空腔室中，其中所述卤化剂与所述未暴露区域抑或所述暴露区域反应，以产生挥发性副产物。在一实施方式中，所述方法可进一步包括净化所述真空腔室。

公开(公告)号：CN116949421A

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202310837902.X

申请日：2018-07-12

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  马克·沙丽 ,  托马斯·奈斯利 ,  本杰明·施密格 ,  大卫·汤普森

IPC: C23C16/34 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56

Abstract: 兹描述用于经由原子层沉积工艺来沉积含钇膜的方法。本公开内容的某些实施方式利用等离子体增强的原子层沉积工艺。亦描述用于执行含钇膜的原子层沉积的设备。

公开(公告)号：CN116569107A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202180076016.9

申请日：2021-11-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 法扎德·霍什曼德 ,  韦恩·弗兰奇 ,  阿纳塔·苏比玛尼 ,  凯尔文·陈 ,  拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  马克·约瑟夫·萨利

IPC: G03F7/16

Abstract: 一些实施方式包括在处理腔室中沉积光刻胶至基板上的方法。在一个实施方式中，该方法包含使氧化剂经由喷头中的第一路径流入处理腔室，并且使有机金属经由喷头中的第二路径流入处理腔室。在一个实施方式中，第一路径与第二路径隔离，以便氧化剂与有机金属不会在喷头内混合。在一个实施方式中，该方法进一步包含氧化剂与有机金属在处理腔室中反应以在基板上沉积光刻胶。

公开(公告)号：CN115836250A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202180046735.6

申请日：2021-06-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  艾伦·丹格菲尔德 ,  马克·约瑟夫·萨利 ,  戴维·迈克尔·汤普森 ,  苏斯米特·辛哈·罗伊 ,  瑞加娜·弗雷德

IPC: G03F7/16

Abstract: 本文所披露的实施方式包括使用干式沉积工艺沉积金属氧光刻胶的方法。在实施方式中，在真空腔室中于基板上方形成光刻胶层的方法包含将金属前驱物蒸气提供至真空腔室中。在实施方式中，方法进一步包含将氧化剂蒸气提供至真空腔室中，其中金属前驱物蒸气与氧化剂蒸气之间的反应导致在基板的表面上形成光刻胶层。在实施方式中，光刻胶层为含金属氧的材料。