公开(公告)号：CN119452461A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202380052821.7

申请日：2023-06-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 路易莎·博萨诺 ,  保拉·德·塞科 ,  贝克勒·沃尔库 ,  拉克马尔·C·卡拉塔拉格 ,  郝瑞英

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  H01L21/67 ,  G01B11/06 ,  G01N21/21 ,  G01N21/25

Abstract: 本文所公开的实施方式包括优化光刻胶层的沉积后烘烤的方法。在一个实施方式中，该方法包括在基板上沉积光刻胶层，烘烤光刻胶层，以及用光学工具测量光刻胶层的特性。

公开(公告)号：CN118591775A

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202380018539.7

申请日：2023-01-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 保拉·德·塞科 ,  郝瑞英 ,  瑞加娜·杰曼尼·弗雷德 ,  路易莎·博萨诺

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/16

Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及用于提供光刻胶特性的实时表征的方法。在一些实施方式中，一种在基板上制备图案化光刻胶的方法，方法包括以下步骤：在基板上形成未图案化光刻胶；用第一光源在未图案化光刻胶上的第一位置处将未图案化光刻胶暴露于第一剂量的电磁(EM)辐射；测量未图案化光刻胶的光学性质；在未图案化光刻胶上的第一位置处将未图案化光刻胶暴露于第二剂量的EM辐射以产生图案化的或部分图案化的光刻胶。用第二光源的第二剂量的EM辐射相较于第一剂量的EM辐射具有更长的波长、更多的脉冲数或更长的曝光时间。此外，第一光源和第二光源中的至少一个是机载计量装置。