公开(公告)号：CN119730989A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202380060850.8

申请日：2023-08-01

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 张寿松 ,  陈辉 ,  吴昊晟 ,  唐建设 ,  S·P·休伊 ,  吴政勋 ,  C·J·波拉德 ,  卓志忠 ,  S·A·德什潘德

IPC: B24B53/017 ,  B24B55/06

Abstract: 本公开涉及一种与调节模块一起使用以调节抛光垫的抛光表面的垫表面清洁系统。垫表面清洁系统可用于利用高压流体喷雾来喷涂抛光表面，以从抛光表面松开碎屑。垫表面清洁系统也可用于去除松开的碎屑。进一步地，垫表面清洁系统可以将调节盘与抛光流体隔离，以保护调节盘不与抛光流体发生反应。

公开(公告)号：CN117836093A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202280056327.3

申请日：2022-07-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卓志忠 ,  吴昊晟 ,  唐建设 ,  张寿松 ,  B·J·布朗 ,  C·波拉德 ,  H·N·桑达拉拉贾恩

IPC: B24B57/02 ,  B24B49/00 ,  B06B1/06 ,  B24B37/015 ,  H01L21/67

Abstract: 示例性浆料递送组件可包括浆料流体源。组件可包括具有管腔入口和管腔出口的浆料递送管腔。管腔入口可与浆料流体源的输出流体耦接。组件可包括与管腔出口流体耦接的解块管。解块管可包括管入口和管出口。组件可包括与解块管耦接的一个或多个超声波换能器。

公开(公告)号：CN115996817A

公开(公告)日：2023-04-21

申请号：CN202280005689.X

申请日：2022-05-02

Applicant: 应用材料公司

Inventor： H·桑达拉拉贾恩 ,  C·波拉德 ,  A·J·菲舍 ,  张寿松 ,  吴昊晟 ,  唐建设

IPC: B24B53/017

Abstract: 一种化学机械研磨系统包括：平台，用以支撑研磨垫；承载头；电机，用以在平台与承载头之间生成相对运动；蒸汽生成器，包括容器和加热元件，所述容器具有进水口和一个或多个蒸汽出口，且所述加热元件被配置成施加热量至下腔室部分以生成蒸汽；喷嘴，被定向以将蒸汽从蒸汽生成器输送至研磨垫上；水箱，用以固持清洁流体；第一阀，位于容器与喷嘴之间的第一流体管线中，以将容器与喷嘴可控地连接和断开；第二阀，位于容器与水箱之间的第二流体管线中，以将容器与水箱可控地连接和断开，使得来自容器的蒸汽加热水箱中的流体。

公开(公告)号：CN115103738A

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN202180014970.5

申请日：2021-06-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吴昊晟 ,  唐建设 ,  B·J·布朗 ,  S-H·沈 ,  张寿松 ,  H·桑达拉拉贾恩

IPC: B24B37/015 ,  B24B49/14 ,  B24B57/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本案提供一种化学机械抛光系统，包括用于将抛光液分配至抛光垫上的抛光端口，以及用于控制抛光液至端口的流动速率的液体流动控制器，用于控制抛光垫的温度的温度控制系统，以及控制系统。控制系统被配置成获得基准去除速率、基准温度和基准抛光液流动速率。存储将去除速率与抛光液流动速率和温度相关的函数。函数用于确定减小的抛光液流动速率和调整后的温度，使得所得去除速率不低于基准去除速率。控制液体流动控制器来以减小的抛光液流动速率分配抛光液并控制温度控制系统，使得抛光处理达到调整后的温度。

公开(公告)号：CN115066316A

公开(公告)日：2022-09-16

申请号：CN202180013340.6

申请日：2021-06-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： H·桑达拉拉贾恩 ,  张寿松 ,  C·李 ,  J·P·多明 ,  S·达塔 ,  D·斯克里亚尔 ,  P·D·巴特菲尔德 ,  C·波拉德 ,  吴昊晟

IPC: B24B53/017 ,  B24B37/30 ,  B24B37/015 ,  B08B3/10 ,  H01L21/67

Abstract: 一种化学机械抛光系统，其包括蒸汽产生器，该蒸汽产生器具有：加热元件，其对容器施加热量以产生蒸汽；开口，其将蒸汽输送至抛光垫上；第一阀，其在开口与容器之间的流体管线中；传感器，其监测蒸汽参数；及控制系统。控制系统经配置以：根据配方中的蒸汽输送排程使阀打开及关闭；接收来自传感器的蒸汽参数的测量值；接收蒸汽参数的目标值；用目标值及测量值作为输入来执行比例积分微分控制算法，从而控制第一阀和/或第二释压阀和/或加热元件，以使得在根据蒸汽输送排程打开阀之前测量值基本上到达目标值。

公开(公告)号：CN114206553A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202080056838.6

申请日：2020-08-10

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吴昊晟 ,  张寿松 ,  卓志忠 ,  唐建设 ,  陈辉 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  B·J·布朗

IPC: B24B37/015 ,  B24B57/02 ,  H01L21/321 ,  H01L21/67

Abstract: 一种化学机械研磨系统包括：托板，支撑具有研磨表面的研磨垫；导管，具有耦合到气体源的入口；以及，分配器，耦合至导管，并且具有悬挂在托板上方的收敛扩散形喷嘴，以将来自气体源的气体引导到研磨垫的研磨表面上。

公开(公告)号：CN114026364A

公开(公告)日：2022-02-08

申请号：CN202080046722.4

申请日：2020-06-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： H·桑达拉拉贾恩 ,  张寿松 ,  吴昊晟 ,  P·D·巴特菲尔德 ,  唐建设 ,  C·波拉德

IPC: F22D5/26 ,  B08B1/00 ,  F22B1/28 ,  B08B3/10 ,  B08B13/00 ,  F22B37/46

Abstract: 一种蒸汽产生设备包括具有进水口和蒸汽出口的罐。蒸汽产生设备在罐中包括屏障，屏障将罐分成下部腔室和上部腔室。下部腔室被定位成从进水口接收水。蒸汽出口阀从上部腔室接收蒸汽。屏障具有孔，孔用于蒸汽从下部腔室传递到上部腔室，并且允许冷凝水从上部腔室传递到下部腔室。蒸汽产生设备包括加热组件，加热组件配置成向下部腔室的一部分施加热量。蒸汽产生设备包含控制器，控制器被配置为修改通过进水口的水的流速，以将水位保持在加热组件上方和蒸汽出口下方。

公开(公告)号：CN113993662A

公开(公告)日：2022-01-28

申请号：CN202080041893.8

申请日：2020-04-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： H·桑达拉拉贾恩 ,  张寿松 ,  吴昊晟 ,  唐建设

IPC: B24B37/015 ,  B24B37/04 ,  H01L21/67

Abstract: 一种化学机械抛光设备，包括平台，具有顶部表面以保持抛光垫；载具头，以在抛光处理期间保持基板抵靠抛光垫的抛光表面；以及温度监控系统。温度监控系统包括定位在平台上方的非接触式热传感器，非接触式热传感器具有在平台上的抛光垫的部分的视场。传感器能够由发动机围绕旋转轴旋转，以便跨抛光垫移动视场。

公开(公告)号：CN113874166A

公开(公告)日：2021-12-31

申请号：CN202080038768.1

申请日：2020-05-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 陈辉 ,  卓志忠 ,  吴昊晟 ,  唐建设 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  张寿松 ,  A·J·菲舍 ,  P·D·巴特菲尔德

IPC: B24B37/015 ,  B24B37/34 ,  B24B49/14 ,  B08B3/02

Abstract: 一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当抛光系统中的部件与抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到部件上以清洁部件或使部件的温度上升到升高的温度。将部件移动到与抛光垫接触，这可以在部件返回到环境温度之前发生。

公开(公告)号：CN113874165A

公开(公告)日：2021-12-31

申请号：CN202080036814.4

申请日：2020-04-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吴昊晟 ,  张寿松 ,  唐建设 ,  C·郑 ,  H·陈 ,  H·桑达拉拉贾恩 ,  B·切里安

IPC: B24B37/015 ,  B24B37/04 ,  B24B57/02 ,  H01L21/67

Abstract: 一种化学机械抛光设备，包括：平台，所述平台用于保持抛光垫；载体，所述载体通过致动器可在整个抛光垫上横向移动以在抛光工艺期间将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；热控制系统，所述热控制系统包括多个可独立控制的加热器和冷却器以独立地控制抛光垫上的多个区的温度；以及控制器，所述控制器经配置为使热控制系统在抛光垫上生成具有第一温度的第一区和具有不同的第二温度的第二区。