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公开(公告)号：CN102598214A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080050411.1
申请日：2010-10-19
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L21/033 , H01L21/308 , H01L21/336
CPC classification number: H01L21/308 , H01L21/033 , H01L21/0337 , H01L21/0338 , H01L21/3086 , H01L21/3088 , H01L21/823431 , H01L29/66795 , H01L29/66818
Abstract: 一种用于制造集成电路的特征的方法，其包括图案化心轴层以包括在集成电路器件的表面上的具有至少一个宽度的结构。使所述结构的暴露侧壁反应，以在所述侧壁中一体形成新化合物，以便所述新化合物以受控制的量延伸到所述暴露侧壁中而形成柱体。使用所述柱体作为蚀刻掩模蚀刻在所述柱体之下的一个或多个层，以形成用于集成电路器件的特征。
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公开(公告)号：CN101263431B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200680033608.8
申请日：2006-09-05
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70691 , G03F7/70341 , G03F7/70808
Abstract: 提供一种包括微电子衬底的制品(106)作为在微电子衬底的处理期间使用的制品。所述制品包括微电子衬底，所述微电子衬底具有前表面、与所述前表面相对的后表面以及位于所述前和后表面的边界处的外部边缘。所述前表面是所述制品的主表面。具有前表面、后表面以及在所述前和后表面之间延伸的内部边缘的可去除的环形边缘扩展元件(108)的所述内部边缘被连接到所述微电子衬底的所述外部边缘(114)。以这样的方式，形成了包括所述边缘扩展元件的所述前表面(120)和所述微电子衬底的所述前表面(130)的连续的表面，在所述外部边缘被连接到所述内部边缘的位置处所述连续的表面基本上是共面和平坦的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115336019A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202180022421.2
申请日：2021-02-16
Applicant: 国际商业机器公司
Abstract: 根据本发明的实施例，一种量子机械器件包括单片晶体结构。单片晶体结构包括被掺杂以提供第一超导区域的第一区域，以及被掺杂以提供第二超导区域的第二区域，该第二超导区域通过未掺杂的晶体区域与该第一超导区域分隔。第一超导区域和第二超导区域以及未掺杂的晶体区域形成约瑟夫逊结。
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公开(公告)号：CN114747029A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202080082306.X
申请日：2020-11-18
Applicant: 国际商业机器公司
Abstract: 芯片内磁场控制设备形成在约瑟夫逊结(JJ)结构附近。芯片内磁场控制设备包括与JJ结构横向相邻的布线结构。在一些实施例中，除了布线结构之外，磁场控制设备还包括连接到布线结构并位于JJ结构下方的导电板。使用穿过布线结构的电流直接或间接地将磁场感应到JJ结构中。可以通过穿过布线结构的电流量来调制场强度。可以根据需要通过停止使电流流过布线结构来关闭磁场。
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公开(公告)号：CN102667623B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201080057340.8
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种形成包括自组装材料的分层结构的方法，包括：在衬底上布置非交联的光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地加热已曝光光刻胶层；采用含水碱性显影剂在第一显影工艺中显影已曝光光刻胶层，从而形成初始图案化光刻胶层；光化学地、热地和/或化学地处理初始图案化光刻胶层，由此形成包括布置在第一衬底表面上的未交联的已处理光刻胶的已处理图案化光刻胶层；在已处理图案化光刻胶层上浇铸定向控制材料在第一溶剂中的溶液，并且去除第一溶剂，从而形成定向控制层；加热定向控制层以有效地将定向控制材料的一部分结合至第二衬底表面；在第二显影工艺中去除已处理光刻胶的至少一部分以及可选地去除任何未结合的定向控制材料，由此形成用于自组装的预图案；可选地加热预图案；在预图案上浇铸溶解在第二溶剂中的能够自组装的材料的溶液，并且去除第二溶剂；以及采用可选的加热和/或退火，允许已浇铸材料自组装，由此形成包括自组装材料的分层结构。
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公开(公告)号：CN102667623A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080057340.8
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种形成包括自组装材料的分层结构的方法，包括：在衬底上布置非交联的光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地加热已曝光光刻胶层；采用含水碱性显影剂在第一显影工艺中显影已曝光光刻胶层，从而形成初始图案化光刻胶层；光化学地、热地和/或化学地处理初始图案化光刻胶层，由此形成包括布置在第一衬底表面上的未交联的已处理光刻胶的已处理图案化光刻胶层；在已处理图案化光刻胶层上浇铸定向控制材料在第一溶剂中的溶液，并且去除第一溶剂，从而形成定向控制层；加热定向控制层以有效地将定向控制材料的一部分结合至第二衬底表面；在第二显影工艺中去除已处理光刻胶的至少一部分以及可选地去除任何未结合的定向控制材料，由此形成用于自组装的预图案；可选地加热预图案；在预图案上浇铸溶解在第二溶剂中的能够自组装的材料的溶液，并且去除第二溶剂；以及采用可选的加热和/或退火，允许已浇铸材料自组装，由此形成包括自组装材料的分层结构。
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公开(公告)号：CN101278238B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200680036076.3
申请日：2006-09-05
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/11 , G03F7/70341 , G03F7/70958
Abstract: 提供了一种浸没光刻系统，其包括可用于产生具有标称波长的光的光源和光学成像系统。该光学成像系统具有在从光源到待由其构图的物件的光路上的光学元件。所述光学元件具有适于接触液体的表面，该液体占据该表面和该物件之间的空间。该光学元件包括可由该液体降解的材料以及覆盖该表面上的可降解材料以保护该表面不受液体影响的保护涂层，该保护涂层对光透明、当暴露于光时稳定且当暴露于液体时稳定。
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