公开(公告)号：CN101263431A

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200680033608.8

申请日：2006-09-05

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： C·科布格尔三世 ,  S·霍姆斯 ,  D·霍拉克 ,  K·希梅尔 ,  K·彼德里洛 ,  C·罗宾逊

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70691 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

Abstract: 提供一种包括微电子衬底的制品(106)作为在微电子衬底的处理期间使用的制品。所述制品包括微电子衬底，所述微电子衬底具有前表面、与所述前表面相对的后表面以及位于所述前和后表面的边界处的外部边缘。所述前表面是所述制品的主表面。具有前表面、后表面以及在所述前和后表面之间延伸的内部边缘的可去除的环形边缘扩展元件(108)的所述内部边缘被连接到所述微电子衬底的所述外部边缘(114)。以这样的方式，形成了包括所述边缘扩展元件的所述前表面(120)和所述微电子衬底的所述前表面(130)的连续的表面，在所述外部边缘被连接到所述内部边缘的位置处所述连续的表面基本上是共面和平坦的。

公开(公告)号：CN101263431B

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200680033608.8

申请日：2006-09-05

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： C·科布格尔三世 ,  S·霍姆斯 ,  D·霍拉克 ,  K·希梅尔 ,  K·彼德里洛 ,  C·罗宾逊

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70691 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

Abstract: 提供一种包括微电子衬底的制品(106)作为在微电子衬底的处理期间使用的制品。所述制品包括微电子衬底，所述微电子衬底具有前表面、与所述前表面相对的后表面以及位于所述前和后表面的边界处的外部边缘。所述前表面是所述制品的主表面。具有前表面、后表面以及在所述前和后表面之间延伸的内部边缘的可去除的环形边缘扩展元件(108)的所述内部边缘被连接到所述微电子衬底的所述外部边缘(114)。以这样的方式，形成了包括所述边缘扩展元件的所述前表面(120)和所述微电子衬底的所述前表面(130)的连续的表面，在所述外部边缘被连接到所述内部边缘的位置处所述连续的表面基本上是共面和平坦的。

公开(公告)号：CN1873536A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200610085093.8

申请日：2006-05-31

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： D·L·戈德法布 ,  S·J·霍姆斯 ,  D·A·科利斯 ,  D·吉奥 ,  D·施奈德 ,  K·希梅尔 ,  D·V·霍拉克 ,  K·E·彼得里洛

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/42 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/11 ,  Y10S430/162

Abstract: 一种在光致抗蚀层中形成图像的方法。该方法包括提供基材；在基材上形成光致抗蚀层；在光致抗蚀层上形成污染吸除面层，该污染吸除面层包括一种或多种聚合物和一种或多种阳离子络合剂；透过含有不透明和透明区域的光掩模使光致抗蚀层暴露在光化辐射下，不透明区域遮蔽了光化辐射而透明区域可透过光化辐射，光化辐射改变了光致抗蚀层中受到辐射的区域的化学组成，从而在光致抗蚀层中形成曝光和未曝光区域；以及去除光致抗蚀层的曝光区域或光致抗蚀层的未曝光区域。污染吸除面层包括一种或多种聚合物、一种或多种阳离子络合剂和铸膜溶剂。