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公开(公告)号：CN107257813A
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201680010655.4
申请日：2016-02-18
Applicant: AZ电子材料卢森堡有限公司 , 国际商业机器公司
IPC: C08G63/08 , C08G63/64 , C08G64/02 , C09D167/04 , C09D169/00 , C08J7/04
Abstract: 本发明涉及结构1的新的嵌段共聚物，其中A‑是嵌段聚合物链，B‑是嵌段聚合物链，其中A‑和B‑是化学不同的，共价连接的聚合物链，其是可相分离的，并且部分X(Y(Z)b)a是接合基团，其包含表面活性侧基部分Y(Z)b，其中：a是整数1‑4，其表示X上的表面活性侧基部分Y(Z)b的数目，b是整数1‑5，其表示连接部分Y上的Z部分的数目，X是A聚合物嵌段、B聚合物嵌段和部分Y之间的连接基团，Y是X和Z之间的连接基团或者直接价键；和Z是独立地选自含氟的部分、含Si1‑Si8硅氧烷的部分或者具有至少18个碳的烃部分的部分，和进一步其中接合基团X(Y(Z)b)a的表面能小于嵌段A的表面能和小于嵌段B的表面能。本发明还涉及包含该新的共聚物的组合物及其在导向自组装方法中的用途。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102656111A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201080057273.X
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: B82Y40/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/165 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/40
Abstract: 一种用于形成包括自组装材料的畴图案的分层结构的方法，包括：在衬底上布置包括非交联光刻胶的光刻胶层；可选地烘焙光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地烘焙已曝光光刻胶层；以及采用非碱性显影剂来显影已曝光光刻胶层以形成包括未交联已显影光刻胶的负性图案化光刻胶层；其中，已显影光刻胶不可溶于适用于浇铸能够自组装的给定材料的给定有机溶剂，并且已显影光刻胶可溶于含水碱性显影剂和/或第二有机溶剂。在图案化光刻胶层上浇铸包括溶解在给定有机溶剂中的能够自组装的给定材料的溶液，并且去除给定有机溶剂。当可选地加热和/或退火已浇铸的给定材料时，允许已浇铸的给定材料自组装，由此形成包括自组装给定材料的畴图案的分层结构。
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公开(公告)号：CN107257813B
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201680010655.4
申请日：2016-02-18
Applicant: AZ电子材料卢森堡有限公司 , 国际商业机器公司
IPC: C08G63/08 , C08G63/64 , C08G64/02 , C09D167/04 , C09D169/00 , C08J7/04
Abstract: 本发明涉及结构1的新的嵌段共聚物，其中A‑是嵌段聚合物链，B‑是嵌段聚合物链，其中A‑和B‑是化学不同的，共价连接的聚合物链，其是可相分离的，并且部分X(Y(Z)b)a是接合基团，其包含表面活性侧基部分Y(Z)b，其中：a是整数1‑4，其表示X上的表面活性侧基部分Y(Z)b的数目，b是整数1‑5，其表示连接部分Y上的Z部分的数目，X是A聚合物嵌段、B聚合物嵌段和部分Y之间的连接基团，Y是X和Z之间的连接基团或者直接价键；和Z是独立地选自含氟的部分、含Si1‑Si8硅氧烷的部分或者具有至少18个碳的烃部分的部分，和进一步其中接合基团X(Y(Z)b)a的表面能小于嵌段A的表面能和小于嵌段B的表面能。本发明还涉及包含该新的共聚物的组合物及其在导向自组装方法中的用途。
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公开(公告)号：CN102656111B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201080057273.X
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: B82Y40/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/165 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/40
Abstract: 一种用于形成包括自组装材料的畴图案的分层结构的方法，包括：在衬底上布置包括非交联光刻胶的光刻胶层；可选地烘焙光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地烘焙已曝光光刻胶层；以及采用非碱性显影剂来显影已曝光光刻胶层以形成包括未交联已显影光刻胶的负性图案化光刻胶层；其中，已显影光刻胶不可溶于适用于浇铸能够自组装的给定材料的给定有机溶剂，并且已显影光刻胶可溶于含水碱性显影剂和/或第二有机溶剂。在图案化光刻胶层上浇铸包括溶解在给定有机溶剂中的能够自组装的给定材料的溶液，并且去除给定有机溶剂。当可选地加热和/或退火已浇铸的给定材料时，允许已浇铸的给定材料自组装，由此形成包括自组装给定材料的畴图案的分层结构。
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公开(公告)号：CN102667623B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201080057340.8
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种形成包括自组装材料的分层结构的方法，包括：在衬底上布置非交联的光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地加热已曝光光刻胶层；采用含水碱性显影剂在第一显影工艺中显影已曝光光刻胶层，从而形成初始图案化光刻胶层；光化学地、热地和/或化学地处理初始图案化光刻胶层，由此形成包括布置在第一衬底表面上的未交联的已处理光刻胶的已处理图案化光刻胶层；在已处理图案化光刻胶层上浇铸定向控制材料在第一溶剂中的溶液，并且去除第一溶剂，从而形成定向控制层；加热定向控制层以有效地将定向控制材料的一部分结合至第二衬底表面；在第二显影工艺中去除已处理光刻胶的至少一部分以及可选地去除任何未结合的定向控制材料，由此形成用于自组装的预图案；可选地加热预图案；在预图案上浇铸溶解在第二溶剂中的能够自组装的材料的溶液，并且去除第二溶剂；以及采用可选的加热和/或退火，允许已浇铸材料自组装，由此形成包括自组装材料的分层结构。
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公开(公告)号：CN102667623A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080057340.8
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种形成包括自组装材料的分层结构的方法，包括：在衬底上布置非交联的光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地加热已曝光光刻胶层；采用含水碱性显影剂在第一显影工艺中显影已曝光光刻胶层，从而形成初始图案化光刻胶层；光化学地、热地和/或化学地处理初始图案化光刻胶层，由此形成包括布置在第一衬底表面上的未交联的已处理光刻胶的已处理图案化光刻胶层；在已处理图案化光刻胶层上浇铸定向控制材料在第一溶剂中的溶液，并且去除第一溶剂，从而形成定向控制层；加热定向控制层以有效地将定向控制材料的一部分结合至第二衬底表面；在第二显影工艺中去除已处理光刻胶的至少一部分以及可选地去除任何未结合的定向控制材料，由此形成用于自组装的预图案；可选地加热预图案；在预图案上浇铸溶解在第二溶剂中的能够自组装的材料的溶液，并且去除第二溶剂；以及采用可选的加热和/或退火，允许已浇铸材料自组装，由此形成包括自组装材料的分层结构。
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