-
公开(公告)号：CN102656111A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201080057273.X
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: B82Y40/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/165 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/40
Abstract: 一种用于形成包括自组装材料的畴图案的分层结构的方法，包括：在衬底上布置包括非交联光刻胶的光刻胶层；可选地烘焙光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地烘焙已曝光光刻胶层；以及采用非碱性显影剂来显影已曝光光刻胶层以形成包括未交联已显影光刻胶的负性图案化光刻胶层；其中，已显影光刻胶不可溶于适用于浇铸能够自组装的给定材料的给定有机溶剂，并且已显影光刻胶可溶于含水碱性显影剂和/或第二有机溶剂。在图案化光刻胶层上浇铸包括溶解在给定有机溶剂中的能够自组装的给定材料的溶液，并且去除给定有机溶剂。当可选地加热和/或退火已浇铸的给定材料时，允许已浇铸的给定材料自组装，由此形成包括自组装给定材料的畴图案的分层结构。
-
公开(公告)号：CN101164013B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200680004726.6
申请日：2006-02-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了在光致抗蚀剂材料上涂施的表面涂料。该表面涂料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000A/秒的溶解速率的聚合物。该聚合物含有六氟醇单体单元，该单元包含下列两种结构之一：(I)，其中n是整数。该表面涂料可用在光刻法中，其中将该表面涂料涂施在光致抗蚀剂层上。表面涂料优选不溶于水，因此特别可用在使用水作为成像介质的浸渍光刻技术中。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101164013A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200680004726.6
申请日：2006-02-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了在光致抗蚀剂材料上涂施的表面涂料。该表面涂料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000/秒的溶解速率的聚合物。该聚合物含有六氟醇单体单元，该单元包含下列两种结构之一：(I)，其中n是整数。该表面涂料可用在光刻法中，其中将该表面涂料涂施在光致抗蚀剂层上。表面涂料优选不溶于水，因此特别可用在使用水作为成像介质的浸渍光刻技术中。
-
公开(公告)号：CN104145217A
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201380011075.3
申请日：2013-02-12
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0042
Abstract: 公开了一种具有式(3)结构的组合物：[C']k[Ta(O2)x(L')y](3)，其中，x为1至4的整数，y为1至4的整数，Ta(O2)x(L')y具有0至-3的电荷，C'为具有+1至+3的电荷的反离子，k为0至3的整数，L'为具有0至-4的电荷的氧化稳定有机配体，并且L'包含选自由羧化物、醇化物、胺、氧化胺、膦、氧化膦、氧化胂及其组合构成的组的供电子官能团。该组合物具有作为高分辨率光刻胶的用途。
-
公开(公告)号：CN101300317A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680041245.2
申请日：2006-10-13
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C09D129/00 , G03F7/00 , C09D131/04
CPC classification number: G03F7/2041 , C09D129/04 , C09D131/04 , G03F7/11 , C08L2666/04
Abstract: 公开了涂覆在光致抗蚀剂材料上面的面涂层材料。该面涂层材料包含在25℃或更低的温度下微溶或不溶于水但在60℃或更高的温度下可溶于水的聚合物。该聚合物包含具有以下聚合物结构的聚乙烯醇单体单元和聚乙酸乙烯酯或聚乙烯基醚单体单元，其中R是脂族或脂环族基团；m和n独立地是整数，并且是相同或不同的；p是0或1。该面涂层材料可以用于平版印刷方法，其中将该面涂层材料涂覆在光致抗蚀剂层上。该面涂层材料尤其可用于使用水作为成像介质的沉浸平版印刷技术。本发明的面涂层材料还可用于使用有机液体作为浸渍介质的沉浸平版印刷。
-
公开(公告)号：CN102656111B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201080057273.X
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: B82Y40/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/165 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/40
Abstract: 一种用于形成包括自组装材料的畴图案的分层结构的方法，包括：在衬底上布置包括非交联光刻胶的光刻胶层；可选地烘焙光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地烘焙已曝光光刻胶层；以及采用非碱性显影剂来显影已曝光光刻胶层以形成包括未交联已显影光刻胶的负性图案化光刻胶层；其中，已显影光刻胶不可溶于适用于浇铸能够自组装的给定材料的给定有机溶剂，并且已显影光刻胶可溶于含水碱性显影剂和/或第二有机溶剂。在图案化光刻胶层上浇铸包括溶解在给定有机溶剂中的能够自组装的给定材料的溶液，并且去除给定有机溶剂。当可选地加热和/或退火已浇铸的给定材料时，允许已浇铸的给定材料自组装，由此形成包括自组装给定材料的畴图案的分层结构。
-
公开(公告)号：CN101300317B
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN200680041245.2
申请日：2006-10-13
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C09D129/00 , G03F7/00 , C09D131/04
CPC classification number: G03F7/2041 , C09D129/04 , C09D131/04 , G03F7/11 , C08L2666/04
Abstract: 公开了涂覆在光致抗蚀剂材料上面的面涂层材料。该面涂层材料包含在25℃或更低的温度下微溶或不溶于水但在60℃或更高的温度下可溶于水的聚合物。该聚合物包含具有以下聚合物结构的聚乙烯醇单体单元和聚乙酸乙烯酯或聚乙烯基醚单体单元：其中R是脂族或脂环族基团；m和n独立地是整数，并且是相同或不同的；p是0或1。该面涂层材料可以用于平版印刷方法，其中将该面涂层材料涂覆在光致抗蚀剂层上。该面涂层材料尤其可用于使用水作为成像介质的沉浸平版印刷技术。本发明的面涂层材料还可用于使用有机液体作为浸渍介质的沉浸平版印刷。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.018 seconds)
