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公开(公告)号：CN114938684A
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN202180008509.9
申请日：2021-01-07
Applicant: 国际商业机器公司
Abstract: 一种用于调节量子力学装置(500)中的量子位(100)的谐振频率的方法包括：提供具有正面(202A)和背面(202B)的衬底(202)，所述正面具有形成在其上的至少量子位，所述至少量子位包括电容器垫(104A和104B)；以及在与所述至少一个量子位相对的区域处从所述衬底的背面去除衬底材料以改变所述至少一个量子位周围的电容，从而调整所述至少一个量子位的谐振频率。
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公开(公告)号：CN101300317B
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN200680041245.2
申请日：2006-10-13
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C09D129/00 , G03F7/00 , C09D131/04
CPC classification number: G03F7/2041 , C09D129/04 , C09D131/04 , G03F7/11 , C08L2666/04
Abstract: 公开了涂覆在光致抗蚀剂材料上面的面涂层材料。该面涂层材料包含在25℃或更低的温度下微溶或不溶于水但在60℃或更高的温度下可溶于水的聚合物。该聚合物包含具有以下聚合物结构的聚乙烯醇单体单元和聚乙酸乙烯酯或聚乙烯基醚单体单元：其中R是脂族或脂环族基团；m和n独立地是整数，并且是相同或不同的；p是0或1。该面涂层材料可以用于平版印刷方法，其中将该面涂层材料涂覆在光致抗蚀剂层上。该面涂层材料尤其可用于使用水作为成像介质的沉浸平版印刷技术。本发明的面涂层材料还可用于使用有机液体作为浸渍介质的沉浸平版印刷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116438658A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202180076364.6
申请日：2021-11-08
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L27/144
Abstract: 本发明涉及分层的衬底结构，其具有到形成于其上的电气器件的经对准的光学通路以用于激光处理及电气装置调谐。根据一个实施例，提供了一种分层衬底结构，该分层衬底结构包括具有第一表面和第二表面的光学衬底以及形成在第二表面上的图案化接合层，该图案化接合层包括接合区和开口区，其中开口区暴露第二表面的一部分。分层衬底结构还包括器件芯片，该器件芯片经由接合区而接合到图案化的接合层，并且包括与光学衬底和所述开口区对准的至少一个电气部件。至少一个电气部件可以包括例如薄膜布线、空气桥、量子位、电极、电容器或谐振器。
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公开(公告)号：CN101300317A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：CN200680041245.2
申请日：2006-10-13
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C09D129/00 , G03F7/00 , C09D131/04
CPC classification number: G03F7/2041 , C09D129/04 , C09D131/04 , G03F7/11 , C08L2666/04
Abstract: 公开了涂覆在光致抗蚀剂材料上面的面涂层材料。该面涂层材料包含在25℃或更低的温度下微溶或不溶于水但在60℃或更高的温度下可溶于水的聚合物。该聚合物包含具有以下聚合物结构的聚乙烯醇单体单元和聚乙酸乙烯酯或聚乙烯基醚单体单元，其中R是脂族或脂环族基团；m和n独立地是整数，并且是相同或不同的；p是0或1。该面涂层材料可以用于平版印刷方法，其中将该面涂层材料涂覆在光致抗蚀剂层上。该面涂层材料尤其可用于使用水作为成像介质的沉浸平版印刷技术。本发明的面涂层材料还可用于使用有机液体作为浸渍介质的沉浸平版印刷。
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公开(公告)号：CN115843471A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202180038577.X
申请日：2021-06-17
Applicant: 国际商业机器公司
Abstract: 一种用于改进量子机械器件中的量子位的寿命和相干时间的方法，包括：提供具有形成在前侧上的至少一个量子位的衬底，该至少一个量子位具有电容器衬垫；以及在与该量子位相对的区域处从背侧去除衬底材料和/或者在与该量子位相对的背侧区域处沉积超导金属层，以减少由于硅‑空气(SA)界面、金属‑空气(MA)界面或硅‑金属(SM)界面中的至少一个引起的射频电流损耗。
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公开(公告)号：CN101164013B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200680004726.6
申请日：2006-02-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了在光致抗蚀剂材料上涂施的表面涂料。该表面涂料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000A/秒的溶解速率的聚合物。该聚合物含有六氟醇单体单元，该单元包含下列两种结构之一：(I)，其中n是整数。该表面涂料可用在光刻法中，其中将该表面涂料涂施在光致抗蚀剂层上。表面涂料优选不溶于水，因此特别可用在使用水作为成像介质的浸渍光刻技术中。
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公开(公告)号：CN101164013A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200680004726.6
申请日：2006-02-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了在光致抗蚀剂材料上涂施的表面涂料。该表面涂料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000/秒的溶解速率的聚合物。该聚合物含有六氟醇单体单元，该单元包含下列两种结构之一：(I)，其中n是整数。该表面涂料可用在光刻法中，其中将该表面涂料涂施在光致抗蚀剂层上。表面涂料优选不溶于水，因此特别可用在使用水作为成像介质的浸渍光刻技术中。
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