一种LED芯片及LED芯片的制备方法

    公开(公告)号:CN105374914B

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201510751194.3

    申请日:2015-11-09

    Abstract: 本发明涉及一种光电性好、结构简单、成本低的LED芯片及制备方法。本发明提供的一种LED芯片及LED芯片的制备方法,在现有电流阻挡层与P型层之间加入一第二电流扩散层,使一部分电流经第二电流扩散层至电流阻挡层正下方的有源层,使电流阻挡层下的有源层被充分利用,提高发光效率,增大有源层的利用区域同时减小电流密度,降低LED芯片的电压,同时该结构对光有反射效果,提高出光效率的同时,可对电极层进行简化,从而降低生产成本。

    一种LED芯片及LED芯片的制备方法

    公开(公告)号:CN105374914A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201510751194.3

    申请日:2015-11-09

    CPC classification number: H01L33/145 H01L33/14

    Abstract: 本发明涉及一种光电性好、结构简单、成本低的LED芯片及制备方法。本发明提供的一种LED芯片及LED芯片的制备方法,在现有电流阻挡层与P型层之间加入一第二电流扩散层,使一部分电流经第二电流扩散层至电流阻挡层正下方的有源层,使电流阻挡层下的有源层被充分利用,提高发光效率,增大有源层的利用区域同时减小电流密度,降低LED芯片的电压,同时该结构对光有反射效果,提高出光效率的同时,可对电极层进行简化,从而降低生产成本。

    增加ESD保护的LED芯片及其制造方法

    公开(公告)号:CN105932034B

    公开(公告)日:2019-02-19

    申请号:CN201610458487.7

    申请日:2016-06-23

    Abstract: 增加ESD保护的LED芯片及其制造方法,涉及LED的生产技术领域。本发明在P极焊盘和第一绝缘层之间的透明导电层上设置图形化的a‑Si层;在部分第一绝缘层和部分图形化的a‑Si层上设置图形化的Drain极层;在透明导电层和另一部分图形化的a‑Si层设置图形化的Source极层;在透明导电层和图形化的Source极层、裸露的a‑Si层、部分图形化的Drain极层上设置第二绝缘层。本发明为可极大提升芯片ESD防护效果,为目前正装结构芯片提供一种具有ESD防护功能结构,该结构相对传统的齐纳二极管组方式更为简单,易于生产,也利于降低生产成本。

    一种等腰梯形式发光二极管的制备工艺

    公开(公告)号:CN106129192B

    公开(公告)日:2018-05-22

    申请号:CN201610567049.4

    申请日:2016-07-19

    Abstract: 本发明公开的一种发光二极管制备工艺,本发明的通过角度互补的方式制作具有等腰梯形截面的发光二极管,先通过光阻层和DBR阻挡层配合塑性,确定等腰梯形截面的倾斜角度,去掉光阻层后在DBR阻挡层之间的间隙中生长第二N‑GaN层、有源层以及P‑GaN,因此形成的发光二极管的角度由光阻层的角度决定,所以只需对光阻层角度进行控制就能够控制发光二极管的角度,而这个角度需要结合预先设定的LED灯高度、宽度等参数来控制。本发明根据发光二极管的宽度、高度来准确地控制反射光的出射角度,实现不同角度的出光结构,以避免光损失,提高出光量。

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