半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:CN1206726C

    公开(公告)日:2005-06-15

    申请号:CN00802618.1

    申请日:2000-10-31

    Inventor: 若林猛

    Abstract: 一个切割胶带(11)被粘到具有柱形电极(6)的硅片(1)的下表面上。沿着切割轨道切割硅片(1),由此在晶片(1)的芯片形成区域之间开槽(12)。然后,形成密封膜(13)。基本上沿着槽(12)的中线切割密封膜(13)。一个支撑胶带(14)被粘到密封膜(13)的上表面上。切割胶带(11)被剥落。然后,该密封膜(13)的片段上从晶片1的下表面伸出的部分被抛光和除去。支撑胶带(14)被剥落。由此获得IC芯片。在每个IC芯片中,密封膜覆盖和保护半导体基片的上表面和侧面。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1337065A

    公开(公告)日:2002-02-20

    申请号:CN00802618.1

    申请日:2000-10-31

    Inventor: 若林猛

    Abstract: 一个切割胶带(11)被粘到具有柱形电极(6)的硅片(1)的下表面上。沿着切割轨道切割硅片(1),由此在晶片(1)的芯片形成区域之间开槽(12)。然后,形成密封膜(13)。基本上沿着槽(12)的中线切割密封膜(13)。一个支撑胶带(14)被粘到密封膜(13)的上表面上。切割胶带(11)被剥落。然后,该密封膜(13)的片段上从晶片1的下表面伸出的部分被抛光和除去。支撑胶带(14)被剥落。由此获得IC芯片。在每个IC芯片中,密封膜覆盖和保护半导体基片的上表面和侧面。

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