跟瞄与通讯一体化超导纳米线单光子探测器

    公开(公告)号:CN109962120A

    公开(公告)日:2019-07-02

    申请号:CN201910274713.X

    申请日:2019-04-08

    Abstract: 本发明提供一种跟瞄与通讯一体化超导纳米线单光子探测器,包括:第一超导纳米线单光子探测器,即通信专用单光子探测器;超导纳米线单光子探测器阵列,包括多个第二超导纳米线单光子探测器,多个第二超导纳米线单光子探测器位于第一超导纳米线单光子探测器外围;超导纳米线单光子探测器阵列用于跟瞄定位入射光的光斑是否偏离第一超导纳米线单光子探测器的光敏面。本发明的跟瞄与通讯一体化超导纳米线单光子探测器可以通过光计数反馈实时调整光斑的位置,以确保入射光的光斑与第一超导纳米线单光子探测器的光敏面对准,确保跟瞄与通讯一体化超导纳米线单光子探测器具有较高的耦合效率。

    一种利用离子注入实现目标薄膜纵向均匀掺杂的方法

    公开(公告)号:CN109727850A

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201811564257.4

    申请日:2018-12-20

    Abstract: 本发明提供一种利用离子注入实现目标薄膜纵向均匀掺杂的方法,包括于目标薄膜的厚度方向上选取N个不同的注入深度峰值点;确定待注入离子并提供M组预设注入条件以模拟待注入离子注入目标薄膜时的离子注入过程,得到注入能量-注入深度分布函数组,从而得到N个与注入深度峰值点一一对应的注入能量值;设定目标薄膜纵向掺杂的总目标浓度,并基于总目标浓度得到N个与注入能量值一一对应的注入剂量值,且N个注入剂量值之和的方差最小化;基于注入能量值及注入剂量值形成N组注入条件以控制待注入离子注入至目标薄膜,实现通过N次离子注入在纵向上叠加实现目标薄膜的纵向均匀掺杂。通过本发明解决了现有离子注入方法无法实现纵向均匀掺杂的问题。

    一种磁通超导探测器及制备方法以及探测方法

    公开(公告)号:CN109560189A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201710883862.7

    申请日:2017-09-26

    Inventor: 陈垒 王镇

    Abstract: 本发明提供一种磁通超导探测器及制备方法以及超导探测方法,制备方法包括:提供衬底,于衬底表面形成第一超导材料层;于第一超导材料层表面形成图形化的光刻胶层;刻蚀掉预设区域的第一超导材料层,保留剩余光刻胶层;于得到结构的正面及侧面覆盖一层绝缘材料层;于绝缘材料层表面形成第二超导材料层,且与第一超导材料层上表面相平齐;得到第一超导材料层和第二超导材料层中被植入至少一条绝缘夹层的结构;于上述结构表面形成超导纳米桥结。通过上述方案,本发明的磁通超导探测器的有效探测尺寸做的更小,最小可测磁矩小,提高了磁矩灵敏度及空间分别率,减小器件对背景磁场的影响,可在第一个磁通偏置内,依据临界电流获得磁通变化信息。

    集成光学薄膜滤波器的超导纳米线单光子探测器

    公开(公告)号:CN108666388A

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:CN201710207615.5

    申请日:2017-03-31

    Abstract: 本发明提供一种集成光学薄膜滤波器的超导纳米线单光子探测器,包括:衬底;反射镜,位于所述衬底表面;超导纳米线,位于所述反射镜的表面;光学薄膜滤波器,位于所述超导纳米线远离所述反射镜的一侧,且与所述超导纳米线具有间距。本发明通过在超导纳米线下方设置所述反射镜,可以将光直接耦合到超导纳米线上,可以对目标波长具有较高的吸收效率,有效提高了器件探测效率;同时,本发明通过设置光学薄膜滤波器,可以对非目标波长滤波,进而有效抑制黑体辐射造成的暗计数;此外,本发明的集成光学薄膜滤波器的光学薄膜滤波器与其他结构分离设置,可重复使用,从而降低成本。

    约瑟夫森结结构、存储单元、存储单元阵列及制备方法

    公开(公告)号:CN108364951A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201810062542.X

    申请日:2018-01-23

    Inventor: 李峰 彭炜 王镇

    CPC classification number: H01L39/223 H01L27/115 H01L39/24

    Abstract: 本发明提供一种约瑟夫森结结构、存储单元、存储单元阵列及制备方法,约瑟夫森结结构的制备包括:提供半导体衬底,依次形成底层NbN材料层、中间铁磁材料层及顶层NbN材料层;刻蚀以得到由底层NbN层、中间铁磁层及顶层NbN层构成的约瑟夫森结;形成绝缘层以及配线层,且配线层至少与顶层NbN层电连接。通过上述方案,本发明的约瑟夫森结结构,基于单晶NbN材料,可以提高约瑟夫森结的响应频率,提高了基于该约瑟夫森结的存储器的速度,保证了与其匹配的SQF数字电路的速度优势得以发挥;通过合适的溅射气压、靶基距、混合气体比、溅射电流等,解决了单晶难以制备的问题;通过约瑟夫森结结构的设计以及中间铁磁层工艺的优化,解决了薄膜厚度难以控制的技术问题。

    一种电子器件的制作方法
    137.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108269914A

    公开(公告)日:2018-07-10

    申请号:CN201611257316.4

    申请日:2016-12-30

    Inventor: 陈垒 吴晓蕾 王镇

    Abstract: 本发明提供一种电子器件的制作方法,包括如下步骤:制作第一材料层,并同步形成第一对准标记;制作第二材料层,并同步形成第二对准标记;所述第一、第二对准标记共同组成复合标记;制作第三材料层,其中,所述第三材料层的图案采用电子束曝光定义,所述电子束曝光采用所述复合标记作为套刻对准标记。本发明中,电子束曝光采用复合标记作为套刻对准标记,所述复合标记中,第一、第二对准标记分别与第一、第二材料层同步制作,如果光刻工艺误差使第一材料层图案与第二材料层图案发生偏移,这个偏移情况也会存在于两层结合的复合标记上,利用这个带有偏移信息的复合标记,就能精确地定位第三材料层的位置,从而刻画定位精确的第三材料层图案。

    光学胶折射率测量器件、测量系统及测量方法

    公开(公告)号:CN108051405A

    公开(公告)日:2018-05-18

    申请号:CN201711189276.9

    申请日:2017-11-24

    Abstract: 本发明提供一种光学胶折射率测量器件、测量系统及测量方法,所述光学胶折射率测量器件包括:衬底;微纳光纤,位于贴置于所述衬底的上表面,且所述微纳光纤的两端延伸至所述衬底的外侧;光学胶,位于所述衬底的上表面,且固化包覆于所述微纳光纤的外围。本发明可用于低温条件下对光学胶折射率进行测量,低温条件的温度可以达到约2K(开尔文);本发明对待测量的光学胶的形状没有要求,使用更加灵活方便;本发明的器件、系统结构简单,便于操作,测量结构稳定性及准确性较高。

    约瑟夫森结电路模型和超导集成电路结构及建立方法

    公开(公告)号:CN107704649A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201710727195.3

    申请日:2017-08-23

    CPC classification number: G06F17/5036

    Abstract: 本发明提供一种约瑟夫森结电路模型和超导集成电路结构及建立方法,所述电路模型建立方法包括:在仿真软件中定义nano-bridge约瑟夫森结的结类型定义语句,并根据结类型定义语句建立初级电路模型;对初级电路模型进行测试,得到相应测试曲线;提供一基于nano-bridge约瑟夫森结的超导器件,并通过对其进行测试,得到相应测试曲线;通过将得到的测试曲线进行对比拟合,并根据对比拟合结果修改初级电路模型,进而得到所述电路模型。通过本发明所述结构和建立方法,解决了现有仿真软件中没有nano-bridge约瑟夫森结电路模型及无法使用nano-bridge约瑟夫森结实现超导集成电路设计的问题。

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