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公开(公告)号：CN114967830A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210530609.4
申请日：2022-05-16
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
IPC: G05F3/26
Abstract: 本申请提出一种限流电路、芯片及电子设备，该限流电路包括电流源、电压输出端、第一运算放大器、第一电流镜及稳压模块；第一运算放大器的输入端分别连接电压输出端的分压节点和参考电压源，第一运算放大器的输出端通过第一电流镜接入电流源，并将电流传输至稳压模块；稳压模块的输入端连接第一运算放大器，输出端连接电压输出端，并接入第一电压源和浮地电压，使第一电压源的电压小于或等于第一预设阈值时，稳压模块为放大状态，对接入的电流进行指定倍数的放大。本申请利用高压浮地，通过双环路负反馈的控制的方式实现电路的高精度限流作用。
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公开(公告)号：CN114448217A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202210044672.7
申请日：2022-01-14
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
Abstract: 本公开涉及一种驱动电路，包括：第一电流镜；低压电流镜；至少两个开关，用于控制接入所述驱动电路的电流数量；与所述第一电流镜相连接的第一高压NMOS管；与所述低压电流镜相连接的第二高压NMOS管；第一NMOS管和第二NMOS管；其中，所述第一NMOS管和所述第二NMOS管连接于所述第一电流镜和所述低压电流镜之间；所述第一高压NMOS管的源极接入经所述开关接入所述驱动电路的电流。本公开提出了一种电路结构简单，保证输出电流镜的漏端电压相等，从而提高输出电流镜的镜像精度的驱动电路。
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公开(公告)号：CN114254581A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111562650.1
申请日：2021-12-20
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
IPC: G06F30/392
Abstract: 本申请提供一种基于半导体的版图压缩方法及装置，利用扫描矩形从当前版图的第一侧开始移动，在扫描的过程中确定是否存在与扫描矩形有交集的目标图形，当扫描到栅极图形时，调整当前栅极图形与上一个栅极图形之间的栅间距为固定值，当扫描到孔图形时，移动孔图形，直至孔图形和栅极图形产生交集时停止，当扫描到金属层图形时，移动与孔图形连接的金属层图形，使得压缩前后的金属层图形和孔图形的一一对应。由此可见，本申请实施例利用扫描矩形确定芯片版图中的目标图形，对不同的目标图形进行不同的处理，保证栅极、孔和金属层之间的拓扑连接关系不变压缩版图，简化芯片版图在压缩过程中的复杂性，可以快速压缩版图，提升版图压缩的效率。
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公开(公告)号：CN113759659A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202111050334.6
申请日：2021-09-08
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
IPC: G03F1/70
Abstract: 本发明涉及一种光源掩模优化方法，包括：提供待优化掩模图形，所述待优化掩模图形包括斜线图形；将所述待优化掩模图形按照第一方向旋转第一角度，使得所述斜线图形的延伸方向为水平方向或竖直方向；基于旋转后的所述待优化掩模图形进行第一次光源优化，以得到第一优化光源；基于旋转前的所述待优化掩模图形进行第一次掩模优化，以得到第一优化掩模图形；将所述第一优化光源按照第二方向旋转所述第一角度，以得到第二优化光源，所述第二方向与所述第一方向相反；基于所述第一优化掩模图形和所述第二优化光源进行第二次掩模优化，以得到第二优化掩模图形。采用上述光源掩模优化方法，可以得到更加接近目标图形的光刻仿真图形。
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公开(公告)号：CN113707548A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202110774786.2
申请日：2021-07-08
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院 , 澳芯集成电路技术(广东)有限公司
IPC: H01L21/28 , H01L21/324
Abstract: 本发明涉及半导体集成电路技术领域，特别涉及栅氧化层及其制备方法和半导体器件。所述栅氧化层的制备方法包括以下步骤：获取半导体衬底，所述半导体衬底上具有浅沟槽隔离结构，所述浅沟槽隔离结构隔离出有源区，酸洗；对半导体衬底进行氢气退火处理；采用热氧化方法于氢气退火处理后的半导体衬底上形成栅氧化层。所述栅氧化层的制备方法，能够改善有源区与浅沟槽隔离结构交界转角处栅氧化层偏薄的问题，有利于形成厚度均匀的栅氧化层，进而改善器件提前打开和高漏电的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113608410A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202110672856.3
申请日：2021-06-17
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
Abstract: 本申请涉及一种晶圆对准掩膜版生成方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：获取晶圆对准的标识图形；将所述标识图形输入至预设的工艺模型，得到所述工艺模型输出的晶圆对准标识；通过预设的衍射光强模型，得到所述晶圆对准标识的第一衍射光强和第二衍射光强；根据所述第一衍射光强和第二衍射光强，得到所述晶圆对准的关键性能指标；若所述关键性能指标在预设的指标阈值内，则生成掩膜版制备指令；所述掩膜版制备指令用于指示生成所述晶圆对准掩膜版。采用本方法能够提高晶圆对准掩膜版制备的效率。
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公开(公告)号：CN113255705B
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202110798574.8
申请日：2021-07-15
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
Abstract: 本发明公开了一种保护色动物智能识别装置，其可判断周围环境内是否有保护色动物，同时可实现周围环境内保护色动物的准确识别，其包括图像采集模块、控制模块、通信模块、电源模块、定位模块，图像采集模块与控制模块连接，控制模块通过通信模块与外部终端设备连接，图像采集模块包括红外摄像头、可见光摄像头，定位模块、红外摄像头、可见光摄像头均与控制模块连接，保护色动物识别方法包括：通过红外摄像头采集周围环境的热成像信息，通过可见光摄像头采集周围环境的图像信息，通过定位模块对图像采集模块的拍摄位置进行定位，通过控制模块对热成像信息、图像信息进行处理、判断，通过通信模块将位置信息、识别结果发送给外部终端设备。
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公开(公告)号：CN113519961A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202010828437.X
申请日：2020-12-04
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
IPC: A43B3/00 , A61B5/0537 , A61B5/103 , G01D21/02
Abstract: 本发明公开了一种多功能体脂测量鞋子，包括体质导电薄膜和压力传感器薄膜，体质导电薄膜固定安装在鞋子的内部，且体质导电薄膜的表面裸露于鞋底的最上层、并直接接触脚底皮肤，体质导电薄膜的底部固定安装有压力传感器薄膜，压力传感器薄膜远离体质导电薄膜的一侧固定安装有温度传感器，温度传感器远离压力传感器薄膜的一侧固定安装有湿度传感器，湿度传感器远离温度传感器的一侧固定安装在鞋底上，鞋底上固定安装有低功耗蓝牙芯片、三轴陀螺仪和发条式自发电装置，有益效果：检测体脂率、体重、脚部温度和湿度以及脚掌受力状况等多种数据，查看体脂率、体重等数值，反映压力变化，分析运动姿态改进方案，反映体温度湿度情况。
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公开(公告)号：CN113504753A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202110788954.3
申请日：2021-07-13
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
IPC: G05B19/042 , G01S13/06 , A63B71/08
Abstract: 本发明公开了一种防止球进入危险区域的保护装置及方法，其可防止球进入危险区域，可保障人身健康和安全，保护装置包括雷达检测模块、控制单元、风机、通信模块，雷达检测模块、风机与控制单元连接，控制单元通过通信模块与外部终端通信连接，雷达检测模块用于检测球的位置信息，数据处理器用于对位置信息进行处理，获取球的运行轨迹及落点，并判断球是否会进入危险区域，风机用于将球推离危险区域，方法包括：检测球的实时位置信息，并发送给控制单元，对位置信息进行处理，预测球的运行轨迹及落点位置，判断落点位置是否会落入危险区域，若是，则控制风机高速运转，在风机的风力推动作用下将球推离危险区域，若否，则风机处于低转速状态。
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公开(公告)号：CN113471093A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110639484.4
申请日：2021-06-08
Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
Abstract: 本发明公开了一种用于半导体器件的薄膜形貌预测方法及装置。该薄膜形貌预测方法包括如下步骤：读取衬底图像，衬底图像上具有微纳结构图形。从衬底图像中提取出多个表面轮廓位点，多个表面轮廓位点均为处于微纳结构图形边缘的位置点。根据表面轮廓位点的位置和目标工艺参数确定各个表面轮廓位点的预期反应速率。利用预设工艺时间和预期反应速率计算各个表面轮廓位点薄膜厚度变化。根据各个表面轮廓位点薄膜厚度变化更新衬底图像中微纳结构图形边缘的界面，以预测出用于半导体器件的薄膜形貌。本发明提供了用于指导薄膜工艺设计开发和优化的薄膜形貌预测结果，基于本发明方案可达到实现工艺设计预期、降低研发成本及推进研发进度等技术目的。
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