公开(公告)号：US07671002B2

公开(公告)日：2010-03-02

申请号：US11415266

申请日：2006-05-02

申请人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seong-Bae Kim ,  Suk-Chang Jang

发明人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seong-Bae Kim ,  Suk-Chang Jang

IPC分类号： C11D7/32

CPC分类号： C11D3/2068 ,  C11D1/22 ,  C11D7/263 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047

摘要： A composition for removing a copper-compatible resist includes: about 0.1% to about 10% by weight of an alkylbenzenesulfonic compound; about 10% to about 99% by weight of a glycolether compound; and about 0.5% to about 5% by weight of a corrosion inhibitor.

摘要翻译： 用于除去铜相容抗蚀剂的组合物包括：约0.1％至约10％重量的烷基苯磺酸化合物; 约10重量％至约99重量％的乙二醇醚化合物; 和约0.5重量％至约5重量％的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：US20080286974A1

公开(公告)日：2008-11-20

申请号：US12219446

申请日：2008-07-22

申请人： Seong-Su Kim ,  Yong-Suk Choi ,  Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seung-Yong Lee

发明人： Seong-Su Kim ,  Yong-Suk Choi ,  Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seung-Yong Lee

IPC分类号： H01L21/311

CPC分类号： C09K13/08 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/32134

摘要： An etching solution for a multiple layer of copper and molybdenum includes: about 5% to about 30% by weight of a hydrogen peroxide; about 0.5% to about 5% by weight of an organic acid; about 0.2% to about 5% by weight of a phosphate; about 0.2% to about 5% by weight of a first additive having nitrogen; about 0.2% to about 5% by weight of a second additive having nitrogen; about 0.01% to about 1.0% by weight of a fluoric compound; and de-ionized water making a total amount of the etching solution 100% by weight.

公开(公告)号：US20070132901A1

公开(公告)日：2007-06-14

申请号：US11542248

申请日：2006-10-04

申请人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

发明人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

IPC分类号： G02F1/136 ,  H01L29/04

CPC分类号： G02F1/1368 ,  G02F2001/136295

摘要： A liquid crystal display device includes a plurality of gate lines and data lines on a first substrate defining a plurality of pixel regions, a thin film transistor within the pixel regions, a pixel electrode within the pixel regions, and at least one TiOx layer provided with the thin film transistor.

摘要翻译： 一种液晶显示装置包括在限定多个像素区域的第一基板上的多条栅极线和数据线，像素区域内的薄膜晶体管，像素区域内的像素电极以及设置有像素区域的至少一个TiOx层 薄膜晶体管。

公开(公告)号：US07675063B2

公开(公告)日：2010-03-09

申请号：US11542248

申请日：2006-10-04

申请人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

发明人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

IPC分类号： H01L29/04

CPC分类号： G02F1/1368 ,  G02F2001/136295

摘要： A liquid crystal display device includes a plurality of gate lines and data lines on a first substrate defining a plurality of pixel regions, a thin film transistor within the pixel regions, a pixel electrode within the pixel regions, and at least one TiOx layer provided with the thin film transistor.

摘要翻译： 一种液晶显示装置包括在限定多个像素区域的第一基板上的多条栅极线和数据线，像素区域内的薄膜晶体管，像素区域内的像素电极以及设置有像素区域的至少一个TiOx层 薄膜晶体管。

公开(公告)号：US07384900B2

公开(公告)日：2008-06-10

申请号：US10924841

申请日：2004-08-25

申请人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seong-Bae Kim ,  Suk-Chang Jang ,  Suk-ll Yoon

发明人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seong-Bae Kim ,  Suk-Chang Jang ,  Suk-ll Yoon

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： C11D3/0073 ,  C11D7/263 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425

摘要： A composition for removing a copper-compatible resist includes about 10 to 30% by weight of an amine compound solvent, the amine compound solvent including an alkanol amine, about 10 to 80% by weight of a glycol group solvent, about 9.5 to 80% by weight of a polar solvent, and about 0.5 to 10% by weight of a corrosion inhibitor.

摘要翻译： 用于除去铜相容抗蚀剂的组合物包括约10至30重量％的胺化合物溶剂，包括烷醇胺的胺化合物溶剂，约10至80重量％的二醇基溶剂，约9.5至80重量％ 的极性溶剂和约0.5-10重量％的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：US07135360B2

公开(公告)日：2006-11-14

申请号：US10631725

申请日：2003-08-01

申请人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

发明人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/8232

CPC分类号： G02F1/1368 ,  G02F2001/136295

摘要： A liquid crystal display device includes a plurality of gate lines and data lines on a first substrate defining a plurality of pixel regions, a thin film transistor within the pixel regions, a pixel electrode within the pixel regions, and at least one TiOx layer provided with the thin film transistor.

摘要翻译： 一种液晶显示装置包括在限定多个像素区域的第一基板上的多条栅极线和数据线，像素区域内的薄膜晶体管，像素区域内的像素电极以及设置有像素区域的至少一个TiOx层 薄膜晶体管。

公开(公告)号：US06881679B2

公开(公告)日：2005-04-19

申请号：US10331726

申请日：2002-12-31

申请人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Yong-Sup Hwang ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Kui-Jong Baek ,  Tai-Hyung Rhee

发明人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Yong-Sup Hwang ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Kui-Jong Baek ,  Tai-Hyung Rhee

IPC分类号： G02F1/13 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3213

CPC分类号： H01L21/32134 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  Y10S436/80

摘要： An etching solution for etching one of a copper single metal layer and a copper (Cu)/titanium (Ti) double metal layer that serves as one of a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode of a thin film transistor for a liquid crystal display (LCD) device includes oxone, fluoric compounds, one of a reducing agent and a weak oxidizing agent, an etching rate restrainer, KHF2, and water.

摘要翻译： 一种蚀刻溶液，用于蚀刻用作薄膜晶体管的栅电极，源电极和漏电极之一的铜单金属层和铜（Cu）/钛（Ti）双金属层之一， 液晶显示器（LCD）装置包括牛酮，氟化合物，还原剂和弱氧化剂之一，蚀刻速率抑制剂，KHF 2 N和水。

公开(公告)号：US08158467B2

公开(公告)日：2012-04-17

申请号：US12699452

申请日：2010-02-03

申请人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

发明人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： G02F1/1368 ,  G02F2001/136295

摘要： A liquid crystal display device includes a plurality of gate lines and data lines on a first substrate defining a plurality of pixel regions, a thin film transistor within the pixel regions, a pixel electrode within the pixel regions, and at least one TiOx layer provided with the thin film transistor.

摘要翻译： 一种液晶显示装置包括在限定多个像素区域的第一基板上的多条栅极线和数据线，像素区域内的薄膜晶体管，像素区域内的像素电极以及设置有像素区域的至少一个TiOx层 薄膜晶体管。

公开(公告)号：US07196015B2

公开(公告)日：2007-03-27

申请号：US10669467

申请日：2003-09-25

申请人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

发明人： Gee-Sung Chae ,  Gyoo-Chul Jo ,  Yong-Sup Hwang

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： H01L29/66765 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/28123 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/32135 ,  H01L21/32139

摘要： A pattern forming method includes: forming an etching-subject layer on a substrate; forming a Ti layer on the etching-subject layer; forming a TiOx layer by irradiating light on a portion of the Ti layer using a mask; etching the Ti layer to form a TiOx pattern; etching the etching-subject layer using the TiOx pattern as a mask; and removing the TiOx pattern.

摘要翻译： 图案形成方法包括：在基板上形成蚀刻对象层; 在蚀刻对象层上形成Ti层; 通过使用掩模在所述Ti层的一部分上照射光来形成TiO x层; 蚀刻Ti层以形成TiOx图案; 使用TiOx图案作为掩模蚀刻蚀刻对象层; 并去除TiOx图案。

公开(公告)号：US20060217278A1

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：US11415266

申请日：2006-05-02

申请人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seong-Bae Kim ,  Suk-Chang Jang

发明人： Gyoo-Chul Jo ,  Gee-Sung Chae ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Yong-Sup Hwang ,  Seong-Bae Kim ,  Suk-Chang Jang

IPC分类号： C11D7/32

CPC分类号： C11D3/2068 ,  C11D1/22 ,  C11D7/263 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047

摘要： A composition for removing a copper-compatible resist includes: about 0.1% to about 10% by weight of an alkylbenzenesulfonic compound; about 10% to about 99% by weight of a glycolether compound; and about 0.5% to about 5% by weight of a corrosion inhibitor.