公开(公告)号：US4049705A

公开(公告)日：1977-09-20

申请号：US672724

申请日：1976-04-01

申请人： Gregory Wayne Schwing

发明人： Gregory Wayne Schwing

IPC分类号： C07C46/00 ,  C07C46/06 ,  C07C50/32 ,  C07C205/25 ,  C07C309/43 ,  C07C309/87 ,  C07C143/30

CPC分类号： C07C309/87 ,  C07C205/25 ,  C07C309/43 ,  C07C46/00 ,  C07C46/06 ,  C07C50/32

摘要： Compounds of the formula ##STR1## wherein R is alkyl of 11 to 14 carbon atoms, and X is --SO.sub.3 H, --NO.sub.2 or --SO.sub.2 ClAre useful intermediates in the preparation of naphthoquinone miticides.

摘要翻译： 其中R为11至14个碳原子的烷基，X为-SO 3 H，-NO 2或-SO 2 Cl的式IMA化合物在制备萘醌方面是有用的中间体。

公开(公告)号：US3719703A

公开(公告)日：1973-03-06

申请号：US3719703D

申请日：1969-04-29

申请人： ATOMIC ENERGY COMMISSION

发明人： FRITZ J ,  GILLETTE R ,  BEUERMAN D

IPC分类号： C07C303/44 ,  C07C309/30 ,  C07C309/43 ,  C07C143/24

CPC分类号： C07C303/44 ,  C07C309/30 ,  C07C309/43

摘要： A METHOD OF SEPARATING AROMATIC SULFONIC ACIDS FROM SULFURIC ACID AND SULFATES CONTAINED IN AN AQUEOUS SOLUTION BY CONTACTING THE SOLUTION WITH A LONG-CHAIN TERTIARY ALIPHATIC AMINE SO THAT THE SULFONIC ACID IS TAKEN UP BY THE AMINE, SEPARATING THE AMINE FROM THE AQUEOUS SOLUTION AND BACK-EXTRACTING THE SULFONIC ACID FROM THE AMINE.

公开(公告)号：US3496207A

公开(公告)日：1970-02-17

申请号：US3496207D

申请日：1967-09-25

申请人： MARTIN MARIETTA CORP

发明人： BARWICK FREDERICK E ,  GESELBRACHT GORDON A

IPC分类号： C07C309/43 ,  C07C143/04 ,  C07C143/30

CPC分类号： C07C309/43

公开(公告)号：US3051750A

公开(公告)日：1962-08-28

申请号：US2003060

申请日：1960-04-05

申请人： DU PONT

发明人： WILLIAM DETTWYLER

IPC分类号： C07C207/04 ,  C07C309/43

CPC分类号： C07C201/00 ,  C07C303/22 ,  C07C303/32 ,  C07C303/40 ,  C07C309/00 ,  C07C207/04 ,  C07C311/29 ,  C07C309/43

公开(公告)号：US1965283A

公开(公告)日：1934-07-03

申请号：US65165533

申请日：1933-01-13

申请人： SOC OF CHEMICAL IND

发明人： FREDRICH FELIX ,  JAKOB SCHEIDEGGER

IPC分类号： C07C309/43 ,  C07C309/44

CPC分类号： C07C309/43 ,  C07C309/44

公开(公告)号：US1879132A

公开(公告)日：1932-09-27

申请号：US40420929

申请日：1929-11-01

申请人： GEN ANILINE WORKS INC

发明人： CARL DORMAIER

IPC分类号： C07C309/43

CPC分类号： C07C309/43

公开(公告)号：US20240280900A1

公开(公告)日：2024-08-22

申请号：US18404506

申请日：2024-01-04

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Masahiro Fukushima ,  Satoshi Watanabe ,  Keiichi Masunaga ,  Masaaki Kotake ,  Yuta Matsuzawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07C25/18 ,  C07C309/43 ,  C07C309/73 ,  C07C381/12 ,  C07D327/08 ,  C07D333/76 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C25/18 ,  C07C309/43 ,  C07C309/73 ,  C07C381/12 ,  C07D327/08 ,  C07D333/76 ,  G03F7/0392 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/18 ,  C07C2602/10 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74

摘要： This invention relates to an onium salt, a chemically amplified positive resist composition, and a resist pattern forming process. The invention provides an onium salt capable of generating an acid having an adequate acid strength and low diffusion, a chemically amplified positive resist composition comprising the onium salt, and a resist pattern forming process using the composition. The chemically amplified positive resist composition comprises an onium salt capable of generating an acid having an adequate acid strength and suppressed diffusion is provided.

公开(公告)号：US11725340B2

公开(公告)日：2023-08-15

申请号：US17177567

申请日：2021-02-17

申请人： CMBlu Energy AG

发明人： Nastaran Krawczyk ,  Alexander Moeller ,  Peter Geigle ,  Evgeny Larionov ,  Jan Hartwig

IPC分类号： D21C11/00 ,  C08H8/00 ,  E05F5/12 ,  C10G27/00 ,  C10G1/08 ,  C10G1/00 ,  E05F3/22 ,  C10G15/08 ,  C10G29/00 ,  C10G3/00 ,  C07G1/00 ,  D21H11/04 ,  D21H11/06 ,  D21H17/12 ,  D21H17/00 ,  C07C303/06 ,  C07C309/43 ,  C07C309/46 ,  H01M8/18 ,  B01D61/02 ,  B01D61/14 ,  D21D5/18 ,  C07C303/44

CPC分类号： D21C11/0007 ,  C07C303/06 ,  C07C309/43 ,  C07C309/46 ,  C07G1/00 ,  C08H8/00 ,  C10G1/00 ,  C10G1/08 ,  C10G3/42 ,  C10G15/08 ,  C10G27/00 ,  C10G29/00 ,  D21C11/0042 ,  D21C11/0057 ,  D21H11/04 ,  D21H11/06 ,  D21H17/12 ,  D21H17/74 ,  E05F3/223 ,  E05F5/12 ,  H01M8/188 ,  B01D61/027 ,  B01D61/145 ,  B01D2257/70 ,  C07C303/44 ,  C07C2602/10 ,  C07C2603/24 ,  C07C2603/26 ,  C10G2300/1011 ,  C10G2300/1014 ,  C10G2400/30 ,  D21D5/18 ,  E05F2003/228 ,  E05Y2201/638 ,  H01M2300/0011

摘要： The present invention relates to novel lignin-derived compounds and compositions comprising the same and their use as redox flow battery electrolytes. The invention further provides a method for preparing said compounds and compositions as well as a redox flow battery comprising said compounds and compositions. Additionally, an assembly for carrying out the inventive method is provided.

公开(公告)号：US10020449B2

公开(公告)日：2018-07-10

申请号：US15102775

申请日：2014-12-05

申请人： NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

发明人： Juro Oshima ,  Takuji Yoshimoto

IPC分类号： H01B1/12 ,  H01L51/00 ,  C07C309/43 ,  C07C211/54 ,  C07C211/55 ,  C08K3/04 ,  C08L65/00 ,  H01L51/42 ,  H01L51/44

CPC分类号： H01L51/0036 ,  C07C211/54 ,  C07C211/55 ,  C07C309/43 ,  C08G2261/1412 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/1428 ,  C08G2261/146 ,  C08G2261/3246 ,  C08G2261/344 ,  C08G2261/91 ,  C08K3/045 ,  C08L65/00 ,  H01B1/12 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0046 ,  H01L51/0047 ,  H01L51/0052 ,  H01L51/0058 ,  H01L51/0059 ,  H01L51/0094 ,  H01L51/424 ,  H01L51/441 ,  Y02E10/549

摘要： Provided is a composition comprising: a charge-transporting substance that comprises N,N′-diphenylbenzidine; an electron-accepting dopant substance; and an organic solvent. This composition is suitable, for example, as a composition for the anode buffer layer of an organic thin film solar cell, said composition being used to produce a thin film that is suitable for use as an anode buffer layer that makes it possible to achieve an organic thin film solar cell having a high photoelectric conversion efficiency.

公开(公告)号：US09285678B2

公开(公告)日：2016-03-15

申请号：US14567061

申请日：2014-12-11

申请人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

发明人： Daisuke Domon ,  Keiichi Masunaga ,  Masayoshi Sagehashi ,  Satoshi Watanabe

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  C07C381/12 ,  C07C309/04 ,  C07C309/07 ,  C07C309/29 ,  C07C309/30 ,  C07C309/31 ,  C07C309/35 ,  C07C309/42 ,  C07C309/43 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/04 ,  C07C309/07 ,  C07C309/29 ,  C07C309/30 ,  C07C309/31 ,  C07C309/35 ,  C07C309/42 ,  C07C309/43 ,  C07C381/12 ,  G03F1/08 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322

摘要： A sulfonium salt of formula (1) is provided wherein A1 is a divalent hydrocarbon group, A2 is a divalent hydrocarbon group, A3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group, B1 is an alkylene or arylene group, k is 0 or 1, R1, R2 and R3 are alkyl, alkenyl, oxoalkyl, aryl, aralkyl or aryloxoalkyl. A resist composition comprising the sulfonium salt as PAG exhibits a very high resolution when processed by EB and EUV lithography. A pattern with minimal LER is obtainable.

摘要翻译： 提供式（1）的锍盐，其中A1是二价烃基，A2是二价烃基，A3是氢或一价烃基，B1是亚烷基或亚芳基，k是0或1，R1， R2和R3是烷基，烯基，氧代烷基，芳基，芳烷基或芳氧基烷基。 包含锍盐作为PAG的抗蚀剂组合物在通过EB和EUV光刻处理时表现出非常高的分辨率。 可获得具有最小LER的图案。