用于制造半导体层的方法和装置

    公开(公告)号:CN108350604A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680061610.X

    申请日:2016-09-27

    CPC classification number: C30B33/06

    Abstract: 本发明涉及一种用于制造半导体层(3)的方法,包括以下方法步骤:A.在载体基板(1)上产生脱模层(2);B.将半导体层(3)施加到脱模层(2)上;C.将半导体层(3)从载体基板上分离。本发明的特征在于,在方法步骤A中,所述脱模层(2)被产生以至少完全覆盖载体基板的加工面,在方法步骤B中,半导体层(3)被施加以至少在所述加工面上完全覆盖脱模层(2)并与载体基板的一个或多个边缘侧面(5a,5b)部分重叠,并且在方法步骤B和C之间,在方法步骤C0中,去除半导体层(3)的与边缘侧面重叠的区域。本发明还涉及一种半导体晶圆、用于边缘修正的装置、分离单元和用于制造半导体层的装置。

    激光晶体的热键合方法及装置

    公开(公告)号:CN107964683A

    公开(公告)日:2018-04-27

    申请号:CN201711211998.X

    申请日:2017-11-28

    CPC classification number: C30B33/02 C30B33/06 H01S3/16

    Abstract: 本发明公开了一种激光晶体的热键合方法及装置,属于激光晶体制备领域。该热键合方法包括:将待键合激光晶体放置到内部填充有多个支撑球体的制备装置中,以使待键合激光晶体埋没于多个所述支撑球体内;将隔板布设在多个所述支撑球体的表面,并对所述隔板施加预设压力;在预设真空度下,对所述待键合激光晶体进行真空热处理,获取键合的激光晶体。本发明通过将待键合激光晶体埋没于多个支撑球体内,并在多个支撑球体上的表面布设隔板,可通过隔板间接向待键合激光晶体上均匀施加预设压力,可避免待键合激光晶体在热处理过程中因受力不均匀而变形,可防止激光晶体的键合面存有未键合区域、气泡等缺陷,提高键合的激光晶体的键合面光学质量和机械强度。

    晶片的生成方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106239751A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610391111.9

    申请日:2016-06-03

    Inventor: 平田和也

    Abstract: 提供晶片的生成方法,经济性地生成晶片。晶片的生成方法从c面露出于上表面且具有与c面垂直的c轴的六方晶单晶锭生成具有α的偏离角的晶片,具有如下的步骤:支承步骤,隔着楔角度为α的楔状部件利用支承工作台对六方晶单晶锭进行支承而使上表面相对于水平面倾斜偏离角α;改质层形成步骤,将对于六方晶单晶锭具有透过性的波长的激光束的聚光点定位在距上表面的第1深度,在与形成有偏离角α的第2方向垂直的第1方向上使聚光点和六方晶单晶锭相对地移动而对上表面照射激光束,在六方晶单晶锭的内部形成直线状的第1改质层和从第1改质层沿着c面延伸的第1裂纹;和转位步骤,使聚光点在第2方向上相对地移动而转位进给规定的量。

Patent Agency Ranking