掩膜对准系统及掩膜对准方法

    公开(公告)号:CN104969340B

    公开(公告)日:2017-06-06

    申请号:CN201380072416.8

    申请日:2013-12-11

    CPC classification number: H01L21/266 H01L21/682

    Abstract: 本发明提供一种掩模对准系统及掩膜对准方法。所述系统包含掩模框架,掩模框架具有松散地连接到掩模框架的多个离子注入掩模。掩模框架设有多个框架对准空腔,且每一掩模设有多个掩模对准空腔。所述系统还包含用于固持工件的压板。压板可设有多个掩模对准销和框架对准销,多个掩模对准销和多个框架对准销经配置以分别啮合掩模对准空腔和框架对准空腔。掩模框架可降低到压板上,其中框架对准空腔移动成与框架对准销对齐以在掩模与工件之间提供粗略对准。掩模对准空腔可接着移动成与掩模对准销对齐,进而将每一个别掩模移位成与相应工件精确对准。所述掩模对准系统及掩模对准方法用于在离子注入掩模与工件之间提供精确且可重复的对准。

    晶片支撑及校准设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107464772A

    公开(公告)日:2017-12-12

    申请号:CN201710699405.2

    申请日:2014-03-11

    Abstract: 本发明所公开的是晶片支撑及校准设备。晶片支撑及校准设备包括适用于固定、校准及支撑晶片的多个晶片支撑元件。晶片支撑元件包括至少一个平坦部分以支撑晶片、至少一个校准边缘部分从至少一个平坦部分向上突出以及由至少一个平坦部分的一部分雕刻而成的至少一个凹陷袋区。至少一个凹陷袋区适用于接收至少一个垫。可保持硅晶片的校准以及在(其)位置(上),防止在制造程序中移动硅晶片从站至站的机械终端作用设备在线性和旋转移动时滑动。

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