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公开(公告)号：CN118888513A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202410959912.5
申请日：2024-07-17
Applicant: 武汉大学
IPC: H01L21/768 , H01L23/538
Abstract: 本申请涉及半导体封装技术领域，具体公开了一种降低铜基硅通孔热应力的填充方法，其包括S1：制作掩膜层和在基底材料表面制作出孔；S2：在孔内依次沉积绝缘层和阻挡层；S3：在阻挡层上溅射负膨胀系数材料作为缓冲层；S4：在缓冲层上沉积铜种子层，再通过电镀法制备铜填充层将孔填充；S5：抛光去除基底材料表面多余的金属。本申请利用负热膨胀系数材料的热缩冷胀物理特性作为缓冲，抵消硅和铜的热胀冷缩，从而降低铜和周围硅结构的热应力。
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公开(公告)号：CN117594527A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311580089.9
申请日：2023-11-23
Applicant: 武汉大学
IPC: H01L21/768
Abstract: 本发明公开了一种利用激光辐照金属纳米颗粒进行通孔填充的方法，包括：利用光刻工艺和刻蚀工艺在基板表面刻蚀出通孔；在通孔内先后形成绝缘层和阻挡层；在保护气氛围下，在基板上表面和通孔内填充金属纳米颗粒，利用飞秒激光辐照金属纳米颗粒时的热压效应，使金属纳米颗粒相互团聚熔合互连，从而实现通孔的填充；再利用化学机械抛光去除多余的金属。该方法是一种干法金属化的方法，通过该方法可以不用制作电镀法所需的种子层，并且实现快速填充。
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公开(公告)号：CN116224541A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310002219.4
申请日：2023-01-03
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本申请公开了超薄平面复眼镜头及其制备方法。本方案中，通过3D激光直写光刻技术制备了具有低误差、高均匀性和一致性的超薄平面复眼镜头，该镜头具有超薄的厚度和优秀的成像功能，其结构包括：镜头底座，由3D激光直写光刻技术一次曝光成形的离轴微透镜阵列以及提供离轴角度的圆柱型斜撑，具有110°的大视场特性并且能够对运动物体快速成像，其制备方法包括：基于4096灰阶的3D激光直写精准曝光技术和PDMS转印技术，最终得到超薄平面复眼镜头。本申请利用激光直写光刻技术制备了超薄平面复眼镜头，该镜头具备的优点在于：广角性，泛用性和灵敏敏性。
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公开(公告)号：CN116125742A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202310129865.7
申请日：2023-02-17
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开了一种抗眩光幕布及其制备方法，抗眩光幕布从内至外依次包括凸反射镜阵列、金属反射层和由多层不同折射率的透明折射层构成的抗眩层，凸反射镜阵列的微米级凸起结构顶部设有用于提高散射能力的纳米微结构；本发明首先制备光刻胶母版；然后利用光刻胶母版制备凸反射镜阵列模具；之后利用凸反射镜阵列模具，采用浇注工艺一制备凸反射镜阵列；之后采用电沉积工艺在凸反射镜阵列表面沉积金属反射层；最后在金属反射层表面上采用涂覆或者沉积工艺分层制备不同折射率的折射层，形成抗眩层，完成抗眩光幕布的制备。本发明表面具有金属反射层的凸反射镜阵列具有很强的散射与增强视场角成像的能力，制备工艺简单，成本低廉，适合大规模生产。
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公开(公告)号：CN114530272B
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202210073665.X
申请日：2022-01-21
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光制备适用于检测人体运动的柔性传感器及其制备方法。该方法包括以下步骤：1)混合聚二甲基硅氧烷(PDMS)和交联剂，制备透明柔性的PDMS基底；2)用氧气等离子体(Plasma)辐照PDMS基底；3)在基底上面旋涂银纳米线浆料，并使浆料干燥；4)在银纳米线浆料表面覆盖透光片，并施加一定的压力；5)飞秒激光穿过透光片，扫描PDMS基底上的银纳米线浆料；6)去除透光片，旋涂PDMS，封装银纳米线浆料。本发明提供的方法制备速度快，精度高，母材低损伤。所制备的传感器质地柔软，反应灵敏，具有透光和优异的应变感知性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114942484A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202210534166.6
申请日：2022-05-17
Applicant: 武汉大学
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明公开了一种具有疏水功能的微透镜阵列及其制备方法，微透镜阵列包括透明基底和加工于透明基底上的阵列透镜，阵列透镜的每个透镜四周均设有若干微米级凸起作为疏水结构，所述微米级凸起的高度高于透镜。首先在临时基板上匀涂光刻胶，光刻胶的厚度大于微米级凸起的高度；将光刻胶烘干后利用激光直写技术对光刻胶进行图案化曝光；将曝光后的光刻胶进行显影并烘烤；利用纳米压印技术将光刻胶图案转印到透明基底上，并对转印后的透明基底表面进行硅烷化疏水处理，得到具有疏水功能的微透镜阵列。本发明不惧水雾，大大提高了微透镜阵列的应用范围，本发明微透镜阵列可以一次加工完成，具有制备成本低，制备速度快等优势。
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公开(公告)号：CN114530272A
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202210073665.X
申请日：2022-01-21
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光制备适用于检测人体运动的柔性传感器及其制备方法。该方法包括以下步骤：1)混合聚二甲基硅氧烷(PDMS)和交联剂，制备透明柔性的PDMS基底；2)用氧气等离子体(Plasma)辐照PDMS基底；3)在基底上面旋涂银纳米线浆料，并使浆料干燥；4)在银纳米线浆料表面覆盖透光片，并施加一定的压力；5)飞秒激光穿过透光片，扫描PDMS基底上的银纳米线浆料；6)去除透光片，旋涂PDMS，封装银纳米线浆料。本发明提供的方法制备速度快，精度高，母材低损伤。所制备的传感器质地柔软，反应灵敏，具有透光和优异的应变感知性能。
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公开(公告)号：CN105607433A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201610078902.6
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
CPC classification number: G03F7/70775 , G02B5/3083 , G03F9/7049
Abstract: 本发明公开了一种适合于光刻机复位用的对准装置及方法，可以实现快速高精度复位对准。目前荷兰ASML最新一代光刻机其专利所采用的是两块同型二维光栅进行对准。本发明则提供另一种采用同型两块散斑玻片替代光栅的方案，一样可以达到高精度对准，甚至超越前者的对准方案，制作简单且价格低廉。
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公开(公告)号：CN112699095B
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202011584307.2
申请日：2020-12-24
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明提供了一种基于ANN的光学特性建模数据库生成方法，包括以下步骤：生成ANN的训练数据，训练数据至少包括：光学特征参数以及光栅尺寸参数；基于ANN训练模型对光栅尺寸参数进行训练，从而学习得到光学特征参数与光栅尺寸参数的训练标签之间的映射关系；对步骤S2中的光栅尺寸参数训练的质量进行评价；基于光学测量手段得到的真实的光学特征参数，对步骤S2训练得到的模型产生的光栅尺寸参数进行实验验证；通过步骤S3的反复学习优化和步骤S4的实验验证得到光学特征参数和光栅尺寸参数之间的准确映射关系，以此建立光学特性建模数据库，从而解决了现有的光学特性建模数据库生成方法难以省时高效建立相对准确数据库的缺点。
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公开(公告)号：CN117092749A
公开(公告)日：2023-11-21
申请号：CN202310951412.2
申请日：2023-07-31
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开一种高效率光波传输的弯曲波导，其特征在于：包括从下到上依次布置的硅基衬底、氧埋层、顶硅波导层及包覆层；顶硅波导层内设置三维结构的90°直角弯曲波导，90°直角弯曲波导位于顶硅波导层并与其底部的氧埋层和其上方的包覆层接触；所述90°直角弯曲波导的传输中心内外侧的高度不同,内侧高度小于外侧高度,90°直角弯曲波导的截面设计为台阶状六边形截面或非对称半圆截面；可减少弯曲波导向周围包层的辐射损耗，从而有效提高光波的传输效率；还公开对应设计方法及加工工艺；此弯曲波导的制作工艺成本低，易于实现；容易推广到其在模分复用器和模解复用器的工程应用。
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