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公开(公告)号：CN105716523A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610078903.0
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
IPC: G01B11/00
CPC classification number: G01B11/005 , G01B11/007
Abstract: 本发明公开了一种适合于大幅面运动规划的高精、高速运动测量系统，借助该系统可以实现高达亚纳米级的二维位移测量精度，特别适合于诸如光刻机、光栅刻划机、液晶面板加工机、精密机床等高端设备中运动控制所必须的反馈测量。具体为将不同频率的一维或二维光栅错位搭接、同频错位过渡铺设以实现大幅面铺设，从而实现任意大幅面运动规划所必须的路径控制范围，再配合以多个光栅位移测量探头的电气协调细分以大幅降低单点测量（细分）时间，从而实现任意大幅面、高精度（最高可达亚纳米，且有多种测量精度协调互验）、高速度（单探头所需要的细分量减少，整体速度优于目前光栅尺中探头的探测速度）运动控制所需的反馈测量。
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公开(公告)号：CN105716523B
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201610078903.0
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明公开了一种适合于大幅面运动规划的高精、高速运动测量系统，借助该系统可以实现高达亚纳米级的二维位移测量精度，特别适合于诸如光刻机、光栅刻划机、液晶面板加工机、精密机床等高端设备中运动控制所必须的反馈测量。具体为将不同频率的一维或二维光栅错位搭接、同频错位过渡铺设以实现大幅面铺设，从而实现任意大幅面运动规划所必须的路径控制范围，再配合以多个光栅位移测量探头的电气协调细分以大幅降低单点测量（细分）时间，从而实现任意大幅面、高精度（最高可达亚纳米，且有多种测量精度协调互验）、高速度（单探头所需要的细分量减少，整体速度优于目前光栅尺中探头的探测速度）运动控制所需的反馈测量。
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公开(公告)号：CN105607433A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201610078902.6
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
CPC classification number: G03F7/70775 , G02B5/3083 , G03F9/7049
Abstract: 本发明公开了一种适合于光刻机复位用的对准装置及方法，可以实现快速高精度复位对准。目前荷兰ASML最新一代光刻机其专利所采用的是两块同型二维光栅进行对准。本发明则提供另一种采用同型两块散斑玻片替代光栅的方案，一样可以达到高精度对准，甚至超越前者的对准方案，制作简单且价格低廉。
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公开(公告)号：CN105607433B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201610078902.6
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开了一种适合于光刻机复位用的对准装置及方法，可以实现快速高精度复位对准。目前荷兰ASML最新一代光刻机其专利所采用的是两块同型二维光栅进行对准。本发明则提供另一种采用同型两块散斑玻片替代光栅的方案，一样可以达到高精度对准，甚至超越前者的对准方案，制作简单且价格低廉。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105628007B
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201610078986.3
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
IPC: G01C15/00
Abstract: 本发明公开了一种基于波带片的六维高精度快速对准、测量系统，可以实现快速高精度空间复位对准和测量。六维高精度对准实际上是空间姿态定位，其难点在于同时同步测量六个自由度存在很大的困难。例如，目前荷兰ASML最新一代光刻机其专利所采用的是两块同型二维光栅进行（二维）对准用于对晶圆和投影镜头之间的复位，垂直于栅面的方向则通过激光干涉测量定位，这样就需要一个分步探测逐渐调整的过程，而且要求两种测量之间进行复杂的位置关系标定和协调运动。本发明则提供另一种对准系统和方案，可以实现同时同步六维高精度对准及测量。
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公开(公告)号：CN105716529A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610078959.6
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开了一种基于光栅多级衍射同步干涉实现多分辨率、多自由度干涉测量的系统及方法。创造性的提出了一种集成屏替代通常云纹干涉测量中的读数栅，实现了多级次衍射光的干涉实现和利用（限于激光功率较低、读数光栅固定的衍射角度限制，利用超过正负1级衍射光线进行干涉测量的情况较少），尤其有利于亚纳米级测量，因为，对于纳米级、亚纳米级精度测量时其稳定性往往不好，以不同的灵敏度（利用多级衍射光进行干涉测量）、多次同步复测综合判断尤为重要；另一方面，最近几年激光器制作技术有了很大发展，利用高级次衍射光进行干涉测量逐渐成为可能。
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公开(公告)号：CN105628007A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610078986.3
申请日：2016-02-04
Applicant: 武汉大学
IPC: G01C15/00
CPC classification number: G01C15/002
Abstract: 本发明公开了一种基于波带片的六维高精度快速对准、测量系统，可以实现快速高精度空间复位对准和测量。六维高精度对准实际上是空间姿态定位，其难点在于同时同步测量六个自由度存在很大的困难。例如，目前荷兰ASML最新一代光刻机其专利所采用的是两块同型二维光栅进行（二维）对准用于对晶圆和投影镜头之间的复位，垂直于栅面的方向则通过激光干涉测量定位，这样就需要一个分步探测逐渐调整的过程，而且要求两种测量之间进行复杂的位置关系标定和协调运动。本发明则提供另一种对准系统和方案，可以实现同时同步六维高精度对准及测量。
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