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公开(公告)号：CN115145107B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202210879116.1
申请日：2022-07-25
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明提供一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布及制备方法，投影幕布包括：PDMS柔性基底；微米级凹形反射镜阵列，形成于PDMS柔性基底的下层，包括多个间隔设置的凹形反射镜；多个纳米级沟槽疏水结构，形成于PDMS柔性基底的上层，每个纳米级沟槽疏水结构均对应于相邻的两个凹形反射镜之间，并且分别包括相间隔设置的多个沟槽和多个凸起。制备方法包括采用激光直写3D光刻技术将投影幕布结构制备到光刻胶上；基于光刻胶的结构制备PDMS模具；将PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上；在柔性基底表面磁控溅射镀银投影幕布。本发明利用微形凹反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构，使投影幕布具有153.7°水滴接触角、2.1°水滴滚动角、增益倍数达到了2.32。
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公开(公告)号：CN115291468B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202210876475.1
申请日：2022-07-25
Applicant: 武汉大学
IPC: G03B21/60
Abstract: 本发明提供一种表面具有多层规则微纳纹理的投影幕布及制备方法，投影幕布包括：PET柔性基底；UV胶结构层；增益层，形成于UV胶结构层的下层，包括由多个间隔设置的凹形反射镜形成的微米级凹形反射镜阵列；疏水层，形成于UV胶结构层的上层，包括分别位于相邻的四个凹形反射镜的中心位置的多个纳米级立柱状超疏水结构。制备方法包括采用亚微米3D灰度光刻技术将投影幕布微纳结构特征制备到光刻胶上；基于光刻胶模板经过二次倒模、自动拼接等制备出未镀反射层的大幅面投影幕布；最后在无反射层的投影幕布表面通过热蒸发工艺镀金属银层作为反射层。本发明的增益层和疏水层结构使投影幕布具有161.5°的水滴接触角、2.6°的水滴滚动角、增益倍数达到2.34。
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公开(公告)号：CN115291468A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202210876475.1
申请日：2022-07-25
Applicant: 武汉大学
IPC: G03B21/60
Abstract: 本发明提供一种表面具有多层规则微纳纹理的投影幕布及制备方法，投影幕布包括：PET柔性基底；UV胶结构层；增益层，形成于UV胶结构层的下层，包括由多个间隔设置的凹形反射镜形成的微米级凹形反射镜阵列；疏水层，形成于UV胶结构层的上层，包括分别位于相邻的四个凹形反射镜的中心位置的多个纳米级立柱状超疏水结构。制备方法包括采用亚微米3D灰度光刻技术将投影幕布微纳结构特征制备到光刻胶上；基于光刻胶模板经过二次倒模、自动拼接等制备出未镀反射层的大幅面投影幕布；最后在无反射层的投影幕布表面通过热蒸发工艺镀金属银层作为反射层。本发明的增益层和疏水层结构使投影幕布具有161.5°的水滴接触角、2.6°的水滴滚动角、增益倍数达到2.34。
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公开(公告)号：CN116224541A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310002219.4
申请日：2023-01-03
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本申请公开了超薄平面复眼镜头及其制备方法。本方案中，通过3D激光直写光刻技术制备了具有低误差、高均匀性和一致性的超薄平面复眼镜头，该镜头具有超薄的厚度和优秀的成像功能，其结构包括：镜头底座，由3D激光直写光刻技术一次曝光成形的离轴微透镜阵列以及提供离轴角度的圆柱型斜撑，具有110°的大视场特性并且能够对运动物体快速成像，其制备方法包括：基于4096灰阶的3D激光直写精准曝光技术和PDMS转印技术，最终得到超薄平面复眼镜头。本申请利用激光直写光刻技术制备了超薄平面复眼镜头，该镜头具备的优点在于：广角性，泛用性和灵敏敏性。
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公开(公告)号：CN116125742A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202310129865.7
申请日：2023-02-17
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明公开了一种抗眩光幕布及其制备方法，抗眩光幕布从内至外依次包括凸反射镜阵列、金属反射层和由多层不同折射率的透明折射层构成的抗眩层，凸反射镜阵列的微米级凸起结构顶部设有用于提高散射能力的纳米微结构；本发明首先制备光刻胶母版；然后利用光刻胶母版制备凸反射镜阵列模具；之后利用凸反射镜阵列模具，采用浇注工艺一制备凸反射镜阵列；之后采用电沉积工艺在凸反射镜阵列表面沉积金属反射层；最后在金属反射层表面上采用涂覆或者沉积工艺分层制备不同折射率的折射层，形成抗眩层，完成抗眩光幕布的制备。本发明表面具有金属反射层的凸反射镜阵列具有很强的散射与增强视场角成像的能力，制备工艺简单，成本低廉，适合大规模生产。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114942484A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202210534166.6
申请日：2022-05-17
Applicant: 武汉大学
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明公开了一种具有疏水功能的微透镜阵列及其制备方法，微透镜阵列包括透明基底和加工于透明基底上的阵列透镜，阵列透镜的每个透镜四周均设有若干微米级凸起作为疏水结构，所述微米级凸起的高度高于透镜。首先在临时基板上匀涂光刻胶，光刻胶的厚度大于微米级凸起的高度；将光刻胶烘干后利用激光直写技术对光刻胶进行图案化曝光；将曝光后的光刻胶进行显影并烘烤；利用纳米压印技术将光刻胶图案转印到透明基底上，并对转印后的透明基底表面进行硅烷化疏水处理，得到具有疏水功能的微透镜阵列。本发明不惧水雾，大大提高了微透镜阵列的应用范围，本发明微透镜阵列可以一次加工完成，具有制备成本低，制备速度快等优势。
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公开(公告)号：CN115291306A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202210882957.8
申请日：2022-07-26
Applicant: 武汉大学
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明涉及光学仿生的技术领域，具体涉及一种具有变焦性能的仿生复眼结构的制备方法，包括以下步骤：在衬底表面制备具有变焦性能的微透镜阵列；在微透镜阵列表面沉积聚二甲基硅氧烷，固化处理后将将其与微透镜阵列分离，得到聚二甲基硅氧烷的凹透镜阵列；将聚二甲基硅氧烷的凹透镜阵列贴合在曲面基底表面；将固化剂注入聚二甲基硅氧烷的凹透镜阵列的表面，并进行固化；将聚二甲基硅氧烷从曲面基底表面分离，即可得到具有变焦性能的仿生复眼结构。本发明的制备方法制备的仿生复眼结构既具有传统仿生复眼的宽视角感知能力，又具有变焦微透镜阵列的深度感知等能力，还具有信息共享功能，可以实现平面变焦成像与曲面变焦成像及可以对信息进行共享。
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公开(公告)号：CN115145107A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210879116.1
申请日：2022-07-25
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明提供一种基于表面微纳结构产生光学和疏水性能的投影幕布及制备方法，投影幕布包括：PDMS柔性基底；微米级凹形反射镜阵列，形成于PDMS柔性基底的下层，包括多个间隔设置的凹形反射镜；多个纳米级沟槽疏水结构，形成于PDMS柔性基底的上层，每个纳米级沟槽疏水结构均对应于相邻的两个凹形反射镜之间，并且分别包括相间隔设置的多个沟槽和多个凸起。制备方法包括采用激光直写3D光刻技术将投影幕布结构制备到光刻胶上；基于光刻胶的结构制备PDMS模具；将PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上；在柔性基底表面磁控溅射镀银投影幕布。本发明利用微形凹反射镜阵列和纳米级沟槽疏水结构，使投影幕布具有153.7°水滴接触角、2.1°水滴滚动角、增益倍数达到了2.32。
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公开(公告)号：CN215006245U
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202121272827.X
申请日：2021-06-08
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司 , 武汉大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型提供了一种用于实现双面激光直写光刻的装置，包括：用于支撑衬底的支架主体、用于限制衬底X方向位移的X方向调节螺丝、用于限制衬底Y方向位移的Y方向调节螺丝以及用于限制衬底Z方向位移的Z方向调节螺丝，所述支架主体由一底面及设置在所述底面上的边框构成，并且在所述边框内侧沿边框具有阶梯部，用于支撑衬底并限制衬底Z方向向下的自由度，所述衬底与所述支架主体通过间隙配合安装在一起。与现有技术相比，本实用新型的装置可以实现衬底上3D结构如微透镜阵列的双面制备。并且本实用新型的装置结构简单，制备成本低，并且可以适用于不同尺寸与形状的衬底。
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公开(公告)号：CN215679035U
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202121287067.X
申请日：2021-06-09
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司 , 武汉大学
Abstract: 本实用新型提供了一种大幅面微结构阵列自动生产线设备，依次包括：激光直写x方向运动平台，激光头，载物台，激光直写设备无尘箱，大理石材质稳定平台，转移平台，高精度旋转电机，直线电机，步进电机，真空吸嘴，吸附板，清洗吸嘴，旋转电机，皮带轮以及移动平台。本实用新型的自动生产线设备，通过流水线式地自动进行图案化曝光、转运显影、清洗、转移压印等步骤，可以提高微结构产品生产效率，并解决人工手动分段操作、成本较高且质量难以保证的问题。
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